南華早報:中國計劃利用粒子加速器制造芯片!
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據(jù)新加坡《南華早報》(SCMP)報道,中國計劃采用一種創(chuàng)新的方法,利用粒子加速器制造芯片處理器,有可能成為先進芯片制造的全球領(lǐng)導者?!赌先A早報》表示,這種方法旨在避開傳統(tǒng)光刻機的限制和美國對EUV技術(shù)的制裁,可能會重塑半導體行業(yè)的格局。
由清華大學領(lǐng)導的中國研究小組正在利用粒子加速器開發(fā)一種獨特的EUV光源,目標是避開傳統(tǒng)光刻機的限制。擬議中的粒子加速器大約有兩個籃球場那么大,周長在100-150米之間,將為芯片制造提供高質(zhì)量的特定波長的光源。
斯坦福大學的趙武教授介紹了其基礎(chǔ)技術(shù)——穩(wěn)態(tài)微束(SSMB)。SSMB捕獲帶電粒子在加速過程中釋放的能量,將其轉(zhuǎn)化為連續(xù)的純EUV光源。與目前流行的ASML EUV方法相比,SSMB具有更高的功率和效率,有可能降低芯片生產(chǎn)成本。
團隊成員潘志龍教授在2022年1月的一次學術(shù)研討會上說:“清華大學已經(jīng)設(shè)計出了一個SSMB-EUV光源,設(shè)計的EUV功率高于1kW,一些關(guān)鍵技術(shù)已經(jīng)準備就緒?!?/span>
這一雄心勃勃的項目與專注于芯片制造機器小型化的阿斯麥等公司的戰(zhàn)略形成了鮮明對比。相反,中國的愿景是建立一個巨大的工廠,里面有數(shù)十臺光刻機,都圍繞著一個加速器。該設(shè)計旨在實現(xiàn)具有競爭力的制造工藝(如2nm及以上),這些工藝將用于制造高性能芯片,而無需使用傳統(tǒng)的極紫外(EUV)光刻機。
清華大學的項目負責人唐傳祥教授表示:“作為一種全新的光源,該技術(shù)的實驗驗證已經(jīng)實現(xiàn)。但有必要建立一個在EUV波段工作的固體SSMB光源研究設(shè)備,然后我們可以利用該設(shè)備供給工業(yè)界使用,并完善SSMB技術(shù)。”
據(jù)報道,清華大學的團隊在這一領(lǐng)域取得了重大進展,現(xiàn)在正在為該項目的建設(shè)尋找地點。然而,實現(xiàn)基于SSMB的EUV光刻機的旅程仍然漫長而充滿挑戰(zhàn)。唐傳祥教授強調(diào)需要不斷創(chuàng)新和跨行業(yè)合作來開發(fā)一個功能齊全的光刻系統(tǒng)。
“在我們獨立開發(fā)EUV光刻機之前還有很長的路要走,但基于SSMB的EUV光源為我們提供了一種替代現(xiàn)有技術(shù)的選擇,需要基于SSMB EUV光源的持續(xù)技術(shù)創(chuàng)新,并與上下游行業(yè)合作,才有機會構(gòu)建可用的光刻系統(tǒng)?!?/span>
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