博客專欄

EEPW首頁 > 博客 > 臺積電高雄2nm晶圓廠即將完工,預計12月開始裝機

臺積電高雄2nm晶圓廠即將完工,預計12月開始裝機

發(fā)布人:芯智訊 時間:2024-11-27 來源:工程師 發(fā)布文章

image.png

9月24日消息,據(jù)臺媒《自由時報》報道,臺積電位于高雄的首座2nm晶圓廠即將完工,半導體廠務相關供應商已接獲臺積電的通知,預計今年12月起展開設備裝機,按照廠務系統(tǒng)、水電氣配管道作業(yè)時間估算,高雄廠試產(chǎn)時間最快將在明年第二季。

半導體供應鏈指出,臺積電高雄首座2nm晶圓廠(P1)正加速建廠中,月產(chǎn)能規(guī)劃2萬片,該廠區(qū)第二座2nm晶圓廠(P2)預計月產(chǎn)能也是2萬片,裝機時間預計將在明年下半年到后年初。

相比之下,臺積電新竹科學園區(qū)的寶山2nm晶圓廠(P1)進度更快,在今年二季度已經(jīng)開始進行設備安裝工程,預計今年四季度或者明年一季度將會試產(chǎn),后續(xù)的寶山第二座晶圓廠(P2)也將于2025年下半年開始生產(chǎn)2nm制程技術。

根據(jù)臺積電的資料顯示,其2nm制程將會采取全新的環(huán)繞柵極(GAA)架構,與3nm制程相比,2nm制程性能將提高10%~15%,或功耗降低30%。

臺積電最大客戶蘋果公司預計將會是其2nm制程的首家客戶,比較2nm制程初期良率有限,成本也必然很高。后續(xù)包括英特爾、AMD、英偉達、聯(lián)發(fā)科等廠商也將會陸續(xù)采用。

臺積電表示,相較于N2P制程,A16在相同Vdd(工作電壓)下,速度增快8-10%,在相同速度下,功耗降低15-20%,芯片密度提升高達1.10倍,以支持數(shù)據(jù)中心產(chǎn)品。

編輯:芯智訊-浪客劍


*博客內(nèi)容為網(wǎng)友個人發(fā)布,僅代表博主個人觀點,如有侵權請聯(lián)系工作人員刪除。



關鍵詞: 臺積電

相關推薦

技術專區(qū)

關閉