Imec和ASML共同驗(yàn)證用于沉浸式光刻的新型照明系統(tǒng)

　　Imec和ASML已合作驗(yàn)證ASML的Tachyon Source Mask Optimization和可編程照明系統(tǒng)FlexRay，通過22nm SRAM單元的制造展示了其潛在應(yīng)用價值。今年10月，imec使用的ASML XT：1900i掃描光刻設(shè)備將安裝FlexRay產(chǎn)品，幫助imec進(jìn)一步開拓沉浸式光刻技術(shù)的應(yīng)用。