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2011全球半導體資本設備支出將增長10.2%

作者: 時間:2011-06-16 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

        全球技術研究和咨詢公司指出,2011年全球資本設備支出將達到448億美元,與2010年406億美元的支出相比,增長10.2%。 然而,分析師也指出,庫存出現(xiàn)修正,再加上晶圓設備制造供過于求,將導致2012年資本設備支出略有下滑。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/120492.htm

        執(zhí)行副總裁Klaus Rinnen表示:“盡管日本的災難性地震威脅將破壞電子產(chǎn)品供應鏈,但自我們在2011年第一季度的預測以來,資本支出和設備格局變化不大。由于日本廠商艱巨的努力,此次地震的影響已降低到最小程度。”

        半導體資本設備市場的所有領域預計都將在2011年呈現(xiàn)增長態(tài)勢(見表一)。Gartner分析師表示,2011年的支出是由積極的晶圓設備制造支出,處于領先的集成設備制造商(IDM)邏輯能力的加速生產(chǎn),以及內(nèi)存公司加速雙重曝光等因素推動的。2012年,半導體資本設備支出將下滑2.6%,隨后將在2013年增長8.9%。隨著內(nèi)存供過于求的影響,周期性的下跌應該在2013年底出現(xiàn)。

表一:2009-2015年全球半導體資本設備支出預測(單位:百萬美元)

 

2009

2010

2011

2012

2013

2014

2015

半導體資本設備支出

25,876.3

56,154.3

62,838.0

61,178.1

66,605.3

56,532.8

64,257.8

增長率 (%)

-41.2

117.0

11.9

-2.6

8.9

-15.1

13.7

資本設備

16,742.5

40,639.1

44,765.1

42,052.3

46,477.4

38,925.5

45,675.9

增長率 (%)

-45.4

142.7

10.2

-6.1

10.5

-16.2

17.3

晶圓制造設備

12,884.2

31,624.7

35,332.6

34,180.0

37,097.5

31,188.7

35,780.6

增長率 (%)

-46.8

145.5

11.7

-3.3

8.5

-15.9

14.7

封裝設備

2,708.5

6,154.6

6,373.9

5,386.5

6,333.3

5,422.7

6,827.2

增長率(%)

-32.3

127.2

3.6

-15.5

17.6

-14.4

25.9

自動測試設備

1,149.8

2,859.8

3,058.6

2,485.9

3,046.5

2,314.1

3,068.0

增長率 (%)

-53.0

148.7

6.9

-18.7

22.6

-24.0

32.6

其它支出

9,133.7

15,515.1

18,072.9

19,125.8

20,128.0

17,607.2

18,581.9

增長率 (%)

-31.8

69.9

16.5

5.8

5.2

-12.5

5.5


        隨著半導體的持續(xù)增長,2011年全球晶圓制造設備(WFE)收入預計將增長11.7%。英特爾、晶圓和NAND支出將推動先進設備的需求,從而沉浸式光刻(immersion lithography)、蝕刻(etch)、雙重曝光中涉及的某些領域以及關鍵領先的邏輯制程將會受益。

        2011年全球封裝設備(PAE)收入的增長預計最低,為3.6%。后端制造商在2010年實現(xiàn)了可觀的增長,但市場于去年第四季度開始放緩。隨著供需趨向平衡,訂單也已經(jīng)放緩。從后端工藝提供商的資本支出的角度來說,適用于低成本解決方案的3D包裝和銅線綁定是目前主要的側(cè)重點。絕大多數(shù)主要工具領域?qū)⒃?011年出現(xiàn)增長,但先進的模具表現(xiàn)應在今年超越總體市場。

        2011年,全球自動測試設備(ATE)預計增長6.9%。Gartner2011年的增長預期是由片上系統(tǒng)和先進的射頻等細分領域的持續(xù)需求所推動的。隨著DRAM的資本支出軟著陸,自動測試設備內(nèi)存收入很有可能在2011年回落。然而,NAND測試平臺在今年仍舊保持強勁增長。



關鍵詞: Gartner 半導體

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