2011全球半導體資本設備支出將增長10.2%
全球技術研究和咨詢公司Gartner指出,2011年全球半導體資本設備支出將達到448億美元,與2010年406億美元的支出相比,增長10.2%。 然而,Gartner分析師也指出,半導體庫存出現(xiàn)修正,再加上晶圓設備制造供過于求,將導致2012年半導體資本設備支出略有下滑。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/120492.htmGartner執(zhí)行副總裁Klaus Rinnen表示:“盡管日本的災難性地震威脅將破壞電子產(chǎn)品供應鏈,但自我們在2011年第一季度的預測以來,資本支出和設備格局變化不大。由于日本廠商艱巨的努力,此次地震的影響已降低到最小程度。”
半導體資本設備市場的所有領域預計都將在2011年呈現(xiàn)增長態(tài)勢(見表一)。Gartner分析師表示,2011年的支出是由積極的晶圓設備制造支出,處于領先的集成設備制造商(IDM)邏輯能力的加速生產(chǎn),以及內(nèi)存公司加速雙重曝光等因素推動的。2012年,半導體資本設備支出將下滑2.6%,隨后將在2013年增長8.9%。隨著內(nèi)存供過于求的影響,周期性的下跌應該在2013年底出現(xiàn)。
表一:2009-2015年全球半導體資本設備支出預測(單位:百萬美元)
|
2009 |
2010 |
2011 |
2012 |
2013 |
2014 |
2015 |
半導體資本設備支出 |
25,876.3 |
56,154.3 |
62,838.0 |
61,178.1 |
66,605.3 |
56,532.8 |
64,257.8 |
增長率 (%) |
-41.2 |
117.0 |
11.9 |
-2.6 |
8.9 |
-15.1 |
13.7 |
資本設備 |
16,742.5 |
40,639.1 |
44,765.1 |
42,052.3 |
46,477.4 |
38,925.5 |
45,675.9 |
增長率 (%) |
-45.4 |
142.7 |
10.2 |
-6.1 |
10.5 |
-16.2 |
17.3 |
晶圓制造設備 |
12,884.2 |
31,624.7 |
35,332.6 |
34,180.0 |
37,097.5 |
31,188.7 |
35,780.6 |
增長率 (%) |
-46.8 |
145.5 |
11.7 |
-3.3 |
8.5 |
-15.9 |
14.7 |
封裝設備 |
2,708.5 |
6,154.6 |
6,373.9 |
5,386.5 |
6,333.3 |
5,422.7 |
6,827.2 |
增長率(%) |
-32.3 |
127.2 |
3.6 |
-15.5 |
17.6 |
-14.4 |
25.9 |
自動測試設備 |
1,149.8 |
2,859.8 |
3,058.6 |
2,485.9 |
3,046.5 |
2,314.1 |
3,068.0 |
增長率 (%) |
-53.0 |
148.7 |
6.9 |
-18.7 |
22.6 |
-24.0 |
32.6 |
其它支出 |
9,133.7 |
15,515.1 |
18,072.9 |
19,125.8 |
20,128.0 |
17,607.2 |
18,581.9 |
增長率 (%) |
-31.8 |
69.9 |
16.5 |
5.8 |
5.2 |
-12.5 |
5.5 |
隨著半導體的持續(xù)增長,2011年全球晶圓制造設備(WFE)收入預計將增長11.7%。英特爾、晶圓和NAND支出將推動先進設備的需求,從而沉浸式光刻(immersion lithography)、蝕刻(etch)、雙重曝光中涉及的某些領域以及關鍵領先的邏輯制程將會受益。
2011年全球封裝設備(PAE)收入的增長預計最低,為3.6%。后端制造商在2010年實現(xiàn)了可觀的增長,但市場于去年第四季度開始放緩。隨著供需趨向平衡,訂單也已經(jīng)放緩。從后端工藝提供商的資本支出的角度來說,適用于低成本解決方案的3D包裝和銅線綁定是目前主要的側(cè)重點。絕大多數(shù)主要工具領域?qū)⒃?011年出現(xiàn)增長,但先進的模具表現(xiàn)應在今年超越總體市場。
2011年,全球自動測試設備(ATE)預計增長6.9%。Gartner2011年的增長預期是由片上系統(tǒng)和先進的射頻等細分領域的持續(xù)需求所推動的。隨著DRAM的資本支出軟著陸,自動測試設備內(nèi)存收入很有可能在2011年回落。然而,NAND測試平臺在今年仍舊保持強勁增長。
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