新聞中心

EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 市場(chǎng)分析 > IBM/GF/三星聯(lián)合展望20nm、14nm

IBM/GF/三星聯(lián)合展望20nm、14nm

—— 同時(shí)還會(huì)展望下一代450毫米晶圓
作者: 時(shí)間:2012-02-13 來(lái)源:半導(dǎo)體制造 收藏

  通用平臺(tái)聯(lián)盟的三巨頭、GlobalFoundries、三星電子將于今年3月14日(德國(guó)漢諾威CeBIT 2012展會(huì)之后一周)在加州圣克拉拉舉行2012年通用平臺(tái)技術(shù)論壇,主題是“預(yù)覽硅技術(shù)的未來(lái)”(previewing the future of silicon technology)。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/128939.htm

  屆時(shí),三大巨頭將會(huì)聯(lián)合介紹在28nm、、14nm等一系列新工藝技術(shù)上的發(fā)展和開(kāi)發(fā)情況,同時(shí)還會(huì)展望下一代450毫米晶圓——比現(xiàn)在流行的300毫米大整整三分之一。

  與會(huì)的還會(huì)有其它二三十家芯片廠商,涵蓋“全球移動(dòng)設(shè)備和消費(fèi)電子行業(yè)的多數(shù)大廠”。



關(guān)鍵詞: IBM 20nm

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專(zhuān)區(qū)