半導體巨頭搶入20納米 設備廠新一輪搶單
隨著臺積電、英特爾、三星等半導體大廠將在明年微縮制程進入20納米以下世代,設備廠也展開新一波的搶單計劃。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/164362.htm在應用材料于其SEMVision系列設備上引進首創(chuàng)缺陷檢測掃瞄電子顯微鏡(DRSEM)技術后,另一設備大廠科磊(KLATencor)21日宣布,同步推出新一化光學及電子束晶圓缺陷檢測系統(tǒng)。隨著兩大設備廠已搶進臺積電及英特爾供應鏈,對于國內設備廠漢微科來說競爭壓力大增。
雖然半導體市場下半年景氣能見度不高,但是包括臺積電、英特爾、三星、格羅方德(GlobalFoundries)、聯(lián)電等大廠,仍積極投入擴充新產能,尤其是明年將相繼跨入20納米,后年則會進入16納米或14納米鰭式場效晶體管(FinFET)世代,也因此,國內外設備大廠已積極布局爭取商機。
在晶圓缺陷檢測設備市場上,國內設備廠漢微科靠著電子束檢測設備打響名號,現(xiàn)在已經(jīng)打入臺積電、三星、英特爾等大廠供應鏈。由于缺陷檢測攸關制程良率的提升速度,國際大廠如應用材料、科磊等,也已在光學及電子束檢測設備市場推出新一代產品,同樣也獲得臺積電、英特爾等大廠青睞及采用。
應用材料已在其SEMVision系列設備上,推出一套最新缺陷檢測及分類技術,該設備的缺陷分析系統(tǒng)結合前所未有高分辨率、多維影像分析功能,及革命性創(chuàng)新的Purity自動化缺陷分類(ADC)系統(tǒng)高智能的機器學習算法,同時為半導體產業(yè)引進首創(chuàng)缺陷檢測掃瞄電子顯微鏡技術,并可支持到10納米制程。
科磊昨日在科技論壇中宣布推出采用NanoPoint技術的光學晶圓缺陷檢測平臺及新型eDR-7100電子束晶圓缺陷檢查系統(tǒng)??评趦纱舜笃脚_可以相互支持,可以迅速發(fā)現(xiàn)和可靠識別影響良率的缺陷,透過缺陷偵測并成像位于3D或垂直結構如FinFET底部的獨特缺陷,在最短時間內拉高制程良率。
法人表示,雖然漢微科在各大半導體廠的電子束缺陷檢測設備市場占有率仍高,但應用材料及科磊大動作進行卡位,尤其在現(xiàn)有光學缺陷檢測設備平臺上增加支持,降低晶圓廠成本,的確會對漢微科造成競爭壓力。
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