臺積電、英特爾、三星10納米量產(chǎn)之戰(zhàn) 即將點(diǎn)燃戰(zhàn)火
10納米系統(tǒng)半導(dǎo)體芯片量產(chǎn)戰(zhàn)爭已經(jīng)開始了,三星電子(Samsung Electronics)、英特爾(Intel)和臺積電出面爭奪主導(dǎo)權(quán),研發(fā)作業(yè)正如火如荼地進(jìn)行中,對于相關(guān)設(shè)施的投資金額也大幅提高了。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201602/287170.htm據(jù)ET News報導(dǎo),三星在業(yè)績發(fā)表會中表示,2016年底10納米系統(tǒng)半導(dǎo)體芯片量產(chǎn)計劃沒有任何變動,為了按照計劃進(jìn)行,目前正動員所有的準(zhǔn)備力量。
英特爾和臺積電也都宣布了10納米芯片量產(chǎn)投資計劃,英特爾表示2016年的設(shè)備投資金額指標(biāo)將比2015年擴(kuò)大30%,約為95億美元;臺積電也提高了設(shè)備投資金額,宣布2016年約投資90億~100億美元, 2015年臺積電的投資額約為81億美元,2016年的投資規(guī)模至少增加11%,最多增加到23%。
三大廠提高投資額與10納米制程的轉(zhuǎn)換有關(guān)。展開10納米芯片量產(chǎn)競爭的主要理由,是為了要搶奪蘋果(Apple)和高通(Qualcomm)這兩個大客戶。高通表示,計劃在三星或臺積電以10納米制程生產(chǎn)新一代的Snapdragon 830,將委托給競爭力較高的一方來生產(chǎn)。
業(yè)界相關(guān)人士表示,在14、16納米制程時被三星搶去很多訂單的臺積電,計劃將在10納米時翻盤,臺積電并指出,2016年10納米量產(chǎn)準(zhǔn)備的競爭將會決定2017年以后的業(yè)績。
英特爾還沒有正式進(jìn)入代工產(chǎn)業(yè),所以對于10納米制程的準(zhǔn)備與客戶公司沒有什么關(guān)系。不過之前英特爾曾經(jīng)公開表示過,將在2017年上市的新型CPU Cannonlake將以10納米制程來量產(chǎn),所以在日程上也不能再推延了。
臺積電、英特爾、三星對于10納米系統(tǒng)半導(dǎo)體芯片量產(chǎn)的準(zhǔn)備將會在2016年中左右使得相關(guān)設(shè)備業(yè)界受惠,大部分是前段制程的設(shè)備部分,并預(yù)計在10納米制程中不使用極紫外光(EUV)設(shè)備,而將采用浸潤式(Immersion)設(shè)備來進(jìn)行制造。
分析師表示,多重曝光(Multi-patterning)的比重增加,所以預(yù)估蒸鍍和蝕刻的設(shè)備部分將會受惠。在蒸鍍部分,比起化學(xué)氣相沉積(CVD)來說,能以原子層為單位來鍍上薄膜的原子層沉積(ALD)的設(shè)備需求預(yù)計將大幅增加。隨著線寬縮減程度變高,原本的CVD制程逐漸被ALD制程所取代。
根據(jù)Miraeasset資料顯示,以2014年為基準(zhǔn),全球ALD設(shè)備的市占率各為:艾司摩爾(ASML)53%,東京威力科創(chuàng)(Tokyo Electron)27%,Jusung Engineering 6%,科林研發(fā)(Lam Research)5%,Wonik IPS 5%,Aixtron 2%。2016年開始Eugene Technology也計劃將首次進(jìn)入ALD設(shè)備的市場。
市調(diào)業(yè)者Gartner預(yù)測表示,2016年與邏輯芯片(Logic Chip)有關(guān)的設(shè)備投資將比2015年增加5%,達(dá)到約322億美元的水準(zhǔn)。
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