臺(tái)媒:大陸DRAM突破技術(shù)障礙還得靠臺(tái)灣

　　據(jù)臺(tái)灣經(jīng)濟(jì)日?qǐng)?bào)報(bào)道，大陸積極發(fā)展內(nèi)存產(chǎn)業(yè)，但由于仍難突破三DRAM大廠的技術(shù)防線，在政策與時(shí)間壓力下，反而凸顯臺(tái)廠扮演關(guān)鍵少數(shù)的重要性，業(yè)界分析臺(tái)廠未來(lái)勢(shì)必成為大陸首要爭(zhēng)取合作的對(duì)象。

　　大陸的內(nèi)存產(chǎn)業(yè)，目前形成紫光集團(tuán)、合肥睿力及福建晉華等三大勢(shì)力，但在美光發(fā)動(dòng)司法調(diào)查，緊盯三大廠竊取專利和營(yíng)業(yè)秘密行為后，日前紫光已表態(tài)未來(lái)將朝自主研發(fā)前進(jìn)。

　　另合肥睿力由前華亞科副總劉大維主導(dǎo)的團(tuán)隊(duì)，仍如火如荼進(jìn)行，并宣示明年要切入19nm生產(chǎn)DRAM;福建晉華則和聯(lián)電合作，委托聯(lián)電開(kāi)發(fā)DRAM相關(guān)制程技術(shù)，生產(chǎn)利基型DRAM，團(tuán)隊(duì)由瑞晶、美光臺(tái)灣前總經(jīng)理，現(xiàn)任聯(lián)電資深副總經(jīng)理陳正坤領(lǐng)軍，同時(shí)出任福建晉華總經(jīng)理。

　　據(jù)了解，聯(lián)電為福建晉華在南科建立小型試產(chǎn)線，一度也遭美光司法調(diào)查暫停，但不久后又恢復(fù)運(yùn)作，初期將導(dǎo)入32nm，最終目標(biāo)要切入25nm以下制程。

　　不過(guò)，業(yè)界透露，在美光強(qiáng)力透過(guò)美臺(tái)和大陸三地司法調(diào)查，大陸DRAM廠商遭遇相當(dāng)大的瓶頸，難有突破，未來(lái)即使突破，也恐怕會(huì)遭遇美光、三星等大廠排山倒海的侵權(quán)訴訟。

　　內(nèi)存業(yè)界分析，大陸在DRAM遭遇技術(shù)重重阻力，反讓臺(tái)廠包括南亞科及華邦電等，成為大陸廠商爭(zhēng)相包產(chǎn)能的主要對(duì)象，原因包括聯(lián)想、華為、OPPO、VIVO，甚至海爾、TCL等計(jì)算機(jī)、手機(jī)和家電大廠，產(chǎn)品都營(yíng)銷全球，多會(huì)尊重知識(shí)產(chǎn)權(quán)，不會(huì)貿(mào)然導(dǎo)入有侵權(quán)疑慮的大陸產(chǎn)內(nèi)存。

　　業(yè)界估計(jì)，在三星、SK海力士及美光都不愿轉(zhuǎn)換技術(shù)下，至少五年內(nèi)，大陸DRAM廠都難以突破技術(shù)防線，而大陸傾全國(guó)力量發(fā)展內(nèi)存，發(fā)展DRAM又勢(shì)在必行，在時(shí)間和技術(shù)取得的雙重壓力下，臺(tái)廠反而成為可以取得技術(shù)授權(quán)的管道，未來(lái)戰(zhàn)略地位值得重視。

　　目前臺(tái)灣DRAM廠商南亞科目前在林口有二座12吋廠，其中3A廠30nm制程產(chǎn)品，有90%都是在美光科技技術(shù)基礎(chǔ)上自行研發(fā)設(shè)計(jì);全新的3An廠，今年導(dǎo)入20nm制程后，5月取得客戶驗(yàn)證，提前在今年第2季量產(chǎn)，目前良率相當(dāng)好，預(yù)定今年底單月投片量達(dá)3萬(wàn)片。