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ASML載具供應商家登精密談中國EUV的發(fā)展,面臨諸多挑戰(zhàn)

作者: 時間:2018-03-08 來源:中國電子報 收藏

  載具對于曝光機發(fā)揮保護、運送和存儲光罩等功能十分重要。家登精密多年來致力于研究曝光機載具,并為全球最大的半導體設備制造商提供載具相關技術。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201803/376627.htm

  我們主要研究的配套技術,例如的載具以及的配套光罩,是7nm向5nm進階的突破口。隨著5nm技術的升級,EUV的重要性逐漸凸顯出來,而載具的研究也越發(fā)緊迫。過去幾年,家登精密一直專心做一件事,那就是載具的配套研究。去年,我們的技術產品已經達到國際先進水平,這是一個值得自豪的成績。未來,7nm工藝逐漸向5nm升級,技術的研究會越來越困難。封裝、3D封裝、以及更高級的集成封裝,都將會是我們以后關注的技術,因為光罩正逐漸走向極限,接下來將會是EUV的時代。

  EUV在中國的發(fā)展還需要思考,因為目前20nm至28nm技術,中國還需要進一步摸索,現階段大多數企業(yè)可能還是在研究65nm至90nm,下一步進展到45nm,這樣才能向,比如說14nm沖刺。中國還有一段路要走,第三梯隊內的半導體廠商也是同樣情況。未來EUV可能是一個很大的門檻,因為很多有能力去做十幾納米的國際知名廠商,在7nm到5nm升級的過程中,已經花了很多的時間和資源了,這將導致未來的PIP咨詢保密制度越來越嚴格,未來圈外的廠商會花費更多的時間,投入更多的金錢進入圈內。下一階段,哪家公司能做到7nm的升級,可能還需要一個過程去觀察。

  近年來EUV在中國的設備業(yè)引起了一股討論的熱潮,中國設備業(yè)的未來發(fā)展離不開EUV的研發(fā),同樣也離不開技術與人才的積累。對比中國臺灣地區(qū)的廠商,在中國大陸享受著很多的政策幫助,但同樣也面臨著諸多挑戰(zhàn)。中國大陸為設備廠提供了很多優(yōu)惠政策,但是如果中國廠商未來希望打造世界第一企業(yè),還要有堅定的信心。此外,人才是必要的,時間也需要給予。半導體設備業(yè)不可能一步到位,因為設備需要工程師花時間摸索才能熟練掌握。半導體知識的積累也很重要,如今人才的頻繁流動導致知識難以積累下來,這對公司技術的提升增加了難度。未來要想辦法完善人才管理機制,這樣才能做到知識的積累,這可能是中國半導體設備廠應該關心和注意的地方。



關鍵詞: ASML EUV

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