上海將制定“中國(guó)集成電路技術(shù)路線圖”：不會(huì)死磕摩爾定律 要彎道超車

集成電路對(duì)高科技的重要性已經(jīng)無需多言，今年美國(guó)又多次“拉黑”數(shù)十家中國(guó)公司及單位，靠的就是在芯片產(chǎn)業(yè)的壟斷性優(yōu)勢(shì)。為此，中國(guó)需要解決集成電路的國(guó)產(chǎn)化問題。

目前國(guó)內(nèi)的集成電路技術(shù)發(fā)展比較分散，多個(gè)地方都有自己的計(jì)劃，但規(guī)模與實(shí)力遠(yuǎn)遜于美國(guó)巨頭。據(jù)報(bào)道，針對(duì)這個(gè)問題，在日前舉行的2019中國(guó)（上海）集成電路創(chuàng)新峰會(huì)院士圓桌會(huì)議上，上海將牽頭制定“《中國(guó)集成電路技術(shù)路線圖（草稿）》”，指導(dǎo)國(guó)內(nèi)的集成電路技術(shù)發(fā)展。

在國(guó)際上，美國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)自1992年開始編寫半導(dǎo)體技術(shù)路線圖（ITRS路線圖），累計(jì)發(fā)布了九個(gè)版本，路線圖給出了未來15年集成電路技術(shù)演進(jìn)方案和設(shè)想，為國(guó)際集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供了很大的幫助。

此次公布的《中國(guó)集成電路技術(shù)路線圖（草稿）》由集成電路制造技術(shù)現(xiàn)狀和發(fā)展趨勢(shì)、先進(jìn)光刻工藝發(fā)展趨勢(shì)等六大部分組成。中國(guó)科學(xué)院院士、復(fù)旦大學(xué)校長(zhǎng)許寧生表示，上海牽頭制定中國(guó)集成電路技術(shù)路線圖是一種嘗試，希望借鑒ITRS模式，結(jié)合中國(guó)IC產(chǎn)業(yè)實(shí)際，為產(chǎn)業(yè)發(fā)展提供幫助。

從報(bào)道來看，《中國(guó)集成電路技術(shù)路線圖（草稿）》沒有照搬國(guó)際通用的摩爾定律發(fā)展模式，而是關(guān)注了在集成電路發(fā)展上“彎道超車”的其他路線。

這是因?yàn)樯鲜兰o(jì)60年代提出的“摩爾定律”已經(jīng)逐漸逼近其極限，由于器件尺寸縮小出現(xiàn)的量子效應(yīng)等挑戰(zhàn)，繼續(xù)“死磕”摩爾定律邊際效益并不高，因此降低成本、系統(tǒng)小型化、提升效率成了《路線圖》提出的主要目標(biāo)。