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EUV光刻機需求強勁:ASML超應(yīng)用材料成全球第一大半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)

作者: 時間:2019-11-27 來源:SEMI大半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)網(wǎng) 收藏

用了將近30年的時間,荷蘭光刻機巨頭(阿斯麥)終于要超過Applied Materials(美國應(yīng)用材料公司),成為全球最大的設(shè)備企業(yè)。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201911/407542.htm

TIN調(diào)研公司主席Robert Castellano稱,過去三年,應(yīng)用材料在晶圓前端領(lǐng)域(WFE)的份額一直在往下掉。相反的是,卻被幾大晶圓巨擘搶破頭。

研究稱,應(yīng)用材料去年在設(shè)備市場的份額是的19.2%,今年雖然微增到19.4%,但對手卻從去年的18%拔高到了21.6%。

Castellano說:“基于2020年整個WFE市場5%的溫和復(fù)蘇和制造商計劃的資本支出,將在2020年將其市場份額提高到22.8%,而應(yīng)用材料將保持19.3%的份額?!?/p>

今年四季度,ASML預(yù)計交付8臺,平均每臺價格達到了1.2億歐元,折合人民幣9.3億元,堪稱人類最昂貴的設(shè)備了。 



關(guān)鍵詞: EUV光刻機 ASML 半導(dǎo)體

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