中微半導體CEO尹志堯：國產(chǎn)5nm蝕刻機已獲臺積電認可

根據(jù)臺積電的工藝路線圖，2020年Q3季度就要試產(chǎn)5nm工藝了，這一代工藝會全面應用EUV光刻技術(shù)。除了光刻機之外，蝕刻機也是半導體工藝中不可缺少的一步，在這個領(lǐng)域中國半導體裝備公司也取得了可喜的進步，中微半導體的5nm蝕刻機已經(jīng)打入臺積電的供應鏈。

日前在首屆臨港新片區(qū)投資論壇上，中微半導體設備公司董事長兼首席執(zhí)行官尹志堯博士提到了該公司的進展，指出中微半導體正在跟隨臺積電按照摩爾定律的發(fā)展走，后者的3nm工藝已經(jīng)研發(fā)一年多了，預計2021年初就要試產(chǎn)。

尹志堯博士表示中微半導體也在跟著這個路線走，目前已經(jīng)做到了5nm——尹志堯博士創(chuàng)立的中微半導體主要是蝕刻機、MOCVD等設備，它們與光刻機一并被稱為半導體工藝三大關(guān)鍵設備，而這里說的5nm指的是用于5nm工藝的等離子蝕刻機。

據(jù)介紹，等離子體刻蝕機是芯片制造中的一種關(guān)鍵設備，用來在芯片上進行微觀雕刻，每個線條和深孔的加工精度都是頭發(fā)絲直徑的幾千分之一到上萬分之一，精度控制要求非常高。

半導體工藝的技術(shù)水平是由光刻機決定的，所以中微半導體做5nm蝕刻機并不等于能做5nm光刻，但是這個領(lǐng)域的進展依然意義重大，先進的蝕刻機售價也要數(shù)百萬美元，而且一條生產(chǎn)線要使用很多臺蝕刻機，總價值依然不可小覷。

根據(jù)中微半導體的2019年上半年財報，該公司1-6月實現(xiàn)營收8.01億元，同比增長72.03%；歸屬于上市公司股東的凈利潤3037.11萬元，與上年同期相比扭虧為盈。