華為+中科院攻關(guān)EUV光刻機(jī)？ASML華裔工程師：天方夜譚

9月16日，中國(guó)科學(xué)院院長(zhǎng)白春禮在國(guó)新辦發(fā)布會(huì)上介紹稱，“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段要把美國(guó)“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行布局，集中全院力量聚焦國(guó)家最關(guān)注的重大領(lǐng)域攻關(guān)。

白春禮稱，從2021年到2030年未來(lái)的十年是“率先行動(dòng)”計(jì)劃第二階段。對(duì)此，首先要進(jìn)行體制機(jī)制改革。他稱，目前已經(jīng)設(shè)立了創(chuàng)新研究院、卓越創(chuàng)新中心、大科學(xué)中心和特色所四類機(jī)構(gòu)，目的是根據(jù)科研性質(zhì)不同進(jìn)行分類定位、分類管理、分類評(píng)價(jià)、分類資源配置。

“這個(gè)工作還沒(méi)有完，只是進(jìn)行了一部分，所以第二階段我們爭(zhēng)取在2025年要把四類機(jī)構(gòu)全部做完，全院100多研究所重新定位為90個(gè)左右的四類機(jī)構(gòu)，這樣就完成了全部的體制機(jī)制改革?！卑状憾Y補(bǔ)充。

此外，白春禮還表示，面臨美國(guó)對(duì)中國(guó)高科技產(chǎn)業(yè)的打壓，未來(lái)十年將針對(duì)一些卡脖子的關(guān)鍵問(wèn)題做一些新的部署。他強(qiáng)調(diào)，后續(xù)科學(xué)院將在“率先行動(dòng)”的第二個(gè)階段目標(biāo)中， “將‘卡脖子’的問(wèn)題和國(guó)外出口管制的清單轉(zhuǎn)化為我們的任務(wù)清單?！?/p>

在中科院表態(tài)支持針對(duì)“卡脖子”問(wèn)題進(jìn)行攻關(guān)之后，9月17日下午，華為技術(shù)有限公司CEO任正非一行來(lái)訪中國(guó)科學(xué)院，與中科院的專家學(xué)者們舉行了座談交流會(huì)，就基礎(chǔ)研究及關(guān)鍵技術(shù)發(fā)展進(jìn)行了探討交流。

在工作會(huì)談中，任正非簡(jiǎn)要介紹了華為公司近年來(lái)取得的進(jìn)展及未來(lái)的發(fā)展戰(zhàn)略。他表示，中科院作為國(guó)家在科學(xué)技術(shù)方面的最高學(xué)術(shù)機(jī)構(gòu)，學(xué)科整體水平已進(jìn)入世界先進(jìn)行列，基礎(chǔ)研究和綜合交叉優(yōu)勢(shì)明顯，為國(guó)家發(fā)展做出了重要貢獻(xiàn)；建議科學(xué)家們繼續(xù)保持對(duì)科研的好奇心，國(guó)家進(jìn)一步加大對(duì)數(shù)理化和化學(xué)材料等基礎(chǔ)研究的投入，推動(dòng)產(chǎn)出更多重大科研成果；華為非常重視與中科院的合作，希望雙方在現(xiàn)有合作基礎(chǔ)上，針對(duì)新時(shí)期國(guó)內(nèi)國(guó)際雙循環(huán)相互促進(jìn)發(fā)展的新格局，以更加開(kāi)放的態(tài)度加強(qiáng)各個(gè)層面的科技交流，向基礎(chǔ)性科學(xué)技術(shù)前沿領(lǐng)域拓展，共同把握創(chuàng)新機(jī)遇，推動(dòng)科學(xué)家思想智慧和研究成果轉(zhuǎn)化為經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展的強(qiáng)大動(dòng)力，共同為創(chuàng)造人類美好未來(lái)做出更大貢獻(xiàn)。

白春禮表示，中科院與華為公司有著廣泛深厚的合作基礎(chǔ)，已經(jīng)開(kāi)展了多層次、寬領(lǐng)域的務(wù)實(shí)合作，并產(chǎn)出了有顯示度的成果。他表示，作為國(guó)家戰(zhàn)略科技力量，中科院正在認(rèn)真貫徹落實(shí)習(xí)近平總書(shū)記提出的“三個(gè)面向”“四個(gè)率先”要求，深入實(shí)施“率先行動(dòng)”計(jì)劃；目前已完成“率先行動(dòng)”計(jì)劃第一階段的總結(jié)評(píng)估，正在緊鑼密鼓地謀劃第二階段的工作，堅(jiān)持問(wèn)題導(dǎo)向、目標(biāo)導(dǎo)向、成果導(dǎo)向，聚焦國(guó)家重大戰(zhàn)略需求，為促進(jìn)經(jīng)濟(jì)社會(huì)發(fā)展提供有力科技支撐。他表示，華為是中國(guó)的品牌，更是民族的驕傲，取得了非凡的成就。他希望雙方繼續(xù)緊密合作，充分集聚中科院科技創(chuàng)新資源和華為企業(yè)優(yōu)質(zhì)資源，圍繞未來(lái)技術(shù)發(fā)展趨勢(shì)，探索科技前沿，共同促進(jìn)經(jīng)濟(jì)社會(huì)高質(zhì)量發(fā)展。

對(duì)于中國(guó)科學(xué)院院長(zhǎng)白春禮要把美國(guó)“卡脖子”的清單變成科研任務(wù)清單進(jìn)行公關(guān)的表態(tài)，以及華為創(chuàng)始人兼總裁任正非突然對(duì)于中科院的拜訪，外界有網(wǎng)友猜測(cè)，華為將會(huì)與中科院攜手，攻關(guān)EUV光刻機(jī)技術(shù)。

雖然，國(guó)內(nèi)的上海微電子（SMEE）已經(jīng)有90nm光刻機(jī)，并且傳聞28nm光刻機(jī)明年就能推出。但是，其與ASML的EUV光刻機(jī)仍差距巨大。

而在此之前，業(yè)內(nèi)就已有傳聞稱華為正在研發(fā)更為先進(jìn)的EUV光刻機(jī)，而中科院在光刻機(jī)的關(guān)鍵技術(shù)和器件領(lǐng)域早已有相關(guān)布局。比如中科院長(zhǎng)春光機(jī)所在光刻機(jī)所需的透鏡及曝光系統(tǒng)上早已有突破，而最新的消息也顯示，長(zhǎng)春光機(jī)所在實(shí)驗(yàn)室已經(jīng)搭建出了一套EUV光源設(shè)備。

那么，華為攜手中科院，能夠在EUV光刻機(jī)上實(shí)現(xiàn)突破嗎？

對(duì)于中國(guó)光刻機(jī)未來(lái)的發(fā)展，近日一位自稱是ASML華裔工程師的網(wǎng)友在網(wǎng)上發(fā)表了自己的看法。以下為原文：

大陸的半導(dǎo)體代工企業(yè)大概什么時(shí)候能超過(guò)臺(tái)積電？這個(gè)問(wèn)題是說(shuō)十年內(nèi)，二十年內(nèi)還是一百年內(nèi)？

我目前就在ASML公司工作，做的就是最新一代的EUV光刻機(jī)。這么說(shuō)吧，咱們先別說(shuō)把（EUV）光刻機(jī)給造出來(lái)，就是把（EUV）光刻機(jī)給用好都是一件無(wú)比復(fù)雜的事情。

臺(tái)積電算是我們的客戶，我很佩服臺(tái)積電的工程師或者說(shuō)他們整個(gè)的體系。他們對(duì)光刻機(jī)的使用達(dá)到了某種讓人欽佩的高度，多的東西涉及到保密不能談。

打個(gè)比方，如果臺(tái)積電是美國(guó)海軍擁有十艘十萬(wàn)噸級(jí)核動(dòng)力航母，中國(guó)芯片制造商大概就是中國(guó)海軍，而且是在遼寧艦未拖進(jìn)港時(shí)期的中國(guó)海軍。

你說(shuō)中國(guó)會(huì)不會(huì)有朝一日造出十萬(wàn)噸級(jí)別的核動(dòng)力航母？這個(gè)當(dāng)然有可能，但是什么時(shí)候能造出來(lái)，這個(gè)真的不好說(shuō)，需要天時(shí)地利人和都具備了才行。

這些條件包括或者可能包括：

國(guó)家要下大決心，要做好十幾年甚至二十年一直虧錢的準(zhǔn)備；外部技術(shù)封鎖要有些松動(dòng)（包括各種光學(xué)器件、光刻機(jī)、光刻膠等等……）；要有一流人才愿意給中國(guó)效力（比如錢學(xué)森這種大牛）；需要大量從業(yè)的工程師來(lái)進(jìn)行過(guò)渡；三星、Intel，臺(tái)積電的某一家要出一個(gè)大問(wèn)題，倒閉或者破產(chǎn)，這樣能讓出市場(chǎng)份額，給予中國(guó)公司發(fā)展機(jī)會(huì)；新技術(shù)恰好在國(guó)家大力投入的時(shí)候興起（實(shí)現(xiàn)彎道超車）；

講句心里話，有這個(gè)錢重新在中國(guó)建立起一家臺(tái)積電一樣的公司，還不如用這個(gè)錢直接收編臺(tái)積電。從成本上來(lái)看，后者很可能更加便宜。

要我說(shuō)，臺(tái)積電這種巨無(wú)霸如果不是遇到芯片制造的重大革命，或者其他危機(jī)，中國(guó)企業(yè)很難超越！

我總有一種朦朦朧朧沒(méi)有根據(jù)的感覺(jué)，我覺(jué)得未來(lái)的芯片很可能不是硅片，而是碳，是石墨烯的某種應(yīng)用。

所以，如果從大的籠統(tǒng)的方面來(lái)說(shuō)，中國(guó)用新的芯片制造技術(shù)超越臺(tái)積電還是可能的。

大家可能對(duì)所謂芯片制造不太了解。這么說(shuō)吧，如果歐洲一夜之間蒸發(fā)了，美國(guó)想要重新造出性能相似的光刻機(jī)來(lái)，至少需要五年！

所以中國(guó)要造新型EUV光刻機(jī)并不是中國(guó)單挑美國(guó)，而是中國(guó)單挑外國(guó)！別的不說(shuō)，高性能的濾光片，對(duì)極端紫外線高反射率的鍍膜，耐用的商業(yè)激光器……沒(méi)有一個(gè)是中國(guó)自己能夠造出來(lái)的！更確切的說(shuō)，不是中國(guó)造不出來(lái)，而是美國(guó)有很多也造不出來(lái)！

鍍膜、濾光片、半反半投鏡……這些技術(shù)低性能也就罷了，高性能的產(chǎn)品都是一年一年試出來(lái)的，歐洲起步早，試驗(yàn)的多就是世界最強(qiáng)！

中國(guó)起步晚，短時(shí)間內(nèi)就是造不出來(lái)。因?yàn)?，沒(méi)有這些基礎(chǔ)器件，談造EUV光刻機(jī)就是天方夜譚！

所以造光刻機(jī)跟造航母不一樣，航母并沒(méi)有在全球的產(chǎn)業(yè)鏈里面。而光刻機(jī)是全球產(chǎn)業(yè)鏈整合出來(lái)的產(chǎn)品。針對(duì)中國(guó)的技術(shù)封鎖如果沒(méi)有松動(dòng)，需要重復(fù)做的事情太多，絕非十年二十年，靠中國(guó)單打獨(dú)斗能成的。

假如大家還覺(jué)得市場(chǎng)、錢、政策能夠大躍進(jìn)式地造出光刻機(jī)，那就是絕對(duì)錯(cuò)誤的認(rèn)識(shí)。

我覺(jué)得吧，承認(rèn)某些東西自己確實(shí)不行，努力也不行，需要外國(guó)幫助，也不是什么壞事。盲目樂(lè)觀才會(huì)斷送自己的前程。

當(dāng)然EUV作為新一代的技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)7nm、5nm的光刻，雖然更加先進(jìn)，但是如果真的臺(tái)積電被迫不能給中國(guó)(內(nèi)地)代工，我們依然可以使用老一點(diǎn)的技術(shù)。使用老一點(diǎn)的技術(shù)也足以保證國(guó)內(nèi)正常的需要。這也是為什么國(guó)家在這個(gè)領(lǐng)域沒(méi)有那么大的動(dòng)力和決心的一個(gè)原因。

總之呢，EUV光刻機(jī)可以看作是美元霸權(quán)的衍生品。美元霸權(quán)還在，中國(guó)就無(wú)法在這一領(lǐng)域取得重大突破。當(dāng)且僅當(dāng)EUV光刻機(jī)所需的基礎(chǔ)配件能夠自由進(jìn)口到中國(guó)的時(shí)候，中國(guó)才有可能在這個(gè)領(lǐng)域有突破。

最后，我再?gòu)?qiáng)調(diào)一個(gè)概念！可以商用化的產(chǎn)品跟實(shí)驗(yàn)室里能夠?qū)崿F(xiàn)之間差了十萬(wàn)八千里！實(shí)驗(yàn)室里實(shí)現(xiàn)的意思是不考慮成本，不考慮穩(wěn)定性，能夠有那么一次或者兩次做成。

商用產(chǎn)品的概念是：穩(wěn)定、高效、可控、能賺錢！

就EUV光刻機(jī)來(lái)說(shuō)，中國(guó)做得最好的大概是長(zhǎng)春光機(jī)所，也就是搭建了一套實(shí)驗(yàn)室的EUV光源設(shè)備，而且從技術(shù)的實(shí)現(xiàn)來(lái)看，他們選擇了另外一條技術(shù)路線，EUV輸出的可控性必然不足，商業(yè)化依然有巨大瓶頸。至于ASML現(xiàn)階段的技術(shù)，就算中國(guó)造出一模一樣的東西來(lái)，還有專利的麻煩在那里，要規(guī)避這一堆專利而商業(yè)化幾乎做不到。

這東西跟航母、戰(zhàn)斗機(jī)不一樣。航母，戰(zhàn)斗機(jī)你就算仿造別人的也沒(méi)法起訴侵犯專利。光刻機(jī)你要是用同樣的原理，光是賠專利侵權(quán)就要傾家蕩產(chǎn)。

總之呢，如果技術(shù)不革新，這一塊兒中國(guó)想要后來(lái)者居上幾乎做不到。至于臺(tái)積電，它是使用EUV光刻機(jī)的廠商，如果大陸都沒(méi)有EUV光刻機(jī)可用，談什么超越臺(tái)積電呢？