比芯片更讓人擔憂：光刻膠自給率不足5%，50nm工藝以下全靠進口

　　最近，關于日本光刻膠或斷供部分國內(nèi)芯片企業(yè)的消息，不時地傳出。原因在于日本的光刻膠產(chǎn)能沒有提升，且全球第五大光刻膠生產(chǎn)企業(yè)信越化學（日本企業(yè)）KrF光刻膠福島工廠關閉，產(chǎn)能受限，但全球芯片的產(chǎn)能在不斷的提升，于是光刻膠也開始供不應求了。

　　相應的，這些光刻膠廠商肯定優(yōu)先供應大客戶，中國的這些小客戶自然優(yōu)先級排在后面，所以也就有可能面臨斷供的風險。

　　很多人表示，斷供能夠逼著我們的光刻膠前進，話是這樣沒錯，但說實話，目前國內(nèi)光刻膠技術(shù)與日本或者說國際領先水平差太遠，一旦斷供，國產(chǎn)頂不上，影響還是很大的。

　　光刻膠按照工藝，為可分為5種，分別是g線、i線、KrF、ArF、EUV，這5種光刻膠針對不同的工藝制程。

　　g線、i線主要用于250nm以上工藝；KrF一般用于250nm-130nm工藝；ArF一般用于130nm-14nm，最多可以用于7nm DUV工藝；EUV光刻膠主要用于7nm及以下工藝。

　　目前國內(nèi)的光刻膠現(xiàn)狀是什么？g線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，ArF光刻膠自給率為0，完全依賴進口，而EUV光刻膠就更加不用提了。

　　也就是說，國內(nèi)的光刻膠技術(shù)，最多支持國內(nèi)的芯片企業(yè)們生產(chǎn)130nm工芯片或更成熟的芯片，比這個工藝更先進的，就無能為力了。

　　當然，前段時間南大光電表示，公司已經(jīng)研發(fā)出了ArF光刻膠，并且在50nm閃存平臺，以及55nm的邏輯芯片節(jié)點上通過認證，但目前南大光電的ArF也僅僅只是通過驗證，并沒有大量生產(chǎn)出貨，解決不了什么問題。

　　事實上，從全球范圍來看，日本才是光刻膠的實質(zhì)壟斷者，在g線/i線、KrF、ArF、EUV光刻膠市場中，日本企業(yè)的市占率分別為61%、80%、93%，100%，總體份額超過75%。

　　如果我們將光刻機看成是發(fā)動機，那么光刻膠就是汽油一樣的燃料了，在芯片制造中必不可少的，一旦發(fā)生突發(fā)事件，我國芯片制造即會受到威脅，因此國產(chǎn)化勢在必行。特別是當前中國芯在加速前進的情況下，這種關鍵性的材料，必須要提高自給率才行。