比芯片更讓人擔(dān)憂：光刻膠自給率不足5%，50nm工藝以下全靠進(jìn)口

　　最近，關(guān)于日本光刻膠或斷供部分國(guó)內(nèi)芯片企業(yè)的消息，不時(shí)地傳出。原因在于日本的光刻膠產(chǎn)能沒(méi)有提升，且全球第五大光刻膠生產(chǎn)企業(yè)信越化學(xué)（日本企業(yè)）KrF光刻膠福島工廠關(guān)閉，產(chǎn)能受限，但全球芯片的產(chǎn)能在不斷的提升，于是光刻膠也開(kāi)始供不應(yīng)求了。

　　相應(yīng)的，這些光刻膠廠商肯定優(yōu)先供應(yīng)大客戶，中國(guó)的這些小客戶自然優(yōu)先級(jí)排在后面，所以也就有可能面臨斷供的風(fēng)險(xiǎn)。

　　很多人表示，斷供能夠逼著我們的光刻膠前進(jìn)，話是這樣沒(méi)錯(cuò)，但說(shuō)實(shí)話，目前國(guó)內(nèi)光刻膠技術(shù)與日本或者說(shuō)國(guó)際領(lǐng)先水平差太遠(yuǎn)，一旦斷供，國(guó)產(chǎn)頂不上，影響還是很大的。

　　光刻膠按照工藝，為可分為5種，分別是g線、i線、KrF、ArF、EUV，這5種光刻膠針對(duì)不同的工藝制程。

　　g線、i線主要用于250nm以上工藝；KrF一般用于250nm-130nm工藝；ArF一般用于130nm-14nm，最多可以用于7nm DUV工藝；EUV光刻膠主要用于7nm及以下工藝。

　　目前國(guó)內(nèi)的光刻膠現(xiàn)狀是什么？g線/i線光刻膠自給率約為20%，KrF光刻膠自給率不足5%，ArF光刻膠自給率為0，完全依賴進(jìn)口，而EUV光刻膠就更加不用提了。

　　也就是說(shuō)，國(guó)內(nèi)的光刻膠技術(shù)，最多支持國(guó)內(nèi)的芯片企業(yè)們生產(chǎn)130nm工芯片或更成熟的芯片，比這個(gè)工藝更先進(jìn)的，就無(wú)能為力了。

　　當(dāng)然，前段時(shí)間南大光電表示，公司已經(jīng)研發(fā)出了ArF光刻膠，并且在50nm閃存平臺(tái)，以及55nm的邏輯芯片節(jié)點(diǎn)上通過(guò)認(rèn)證，但目前南大光電的ArF也僅僅只是通過(guò)驗(yàn)證，并沒(méi)有大量生產(chǎn)出貨，解決不了什么問(wèn)題。

　　事實(shí)上，從全球范圍來(lái)看，日本才是光刻膠的實(shí)質(zhì)壟斷者，在g線/i線、KrF、ArF、EUV光刻膠市場(chǎng)中，日本企業(yè)的市占率分別為61%、80%、93%，100%，總體份額超過(guò)75%。

　　如果我們將光刻機(jī)看成是發(fā)動(dòng)機(jī)，那么光刻膠就是汽油一樣的燃料了，在芯片制造中必不可少的，一旦發(fā)生突發(fā)事件，我國(guó)芯片制造即會(huì)受到威脅，因此國(guó)產(chǎn)化勢(shì)在必行。特別是當(dāng)前中國(guó)芯在加速前進(jìn)的情況下，這種關(guān)鍵性的材料，必須要提高自給率才行。