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ULVAC-PHI 推出能大幅加速電池與先進(jìn)材料之研發(fā)應(yīng)用的最新XPS設(shè)備

—— 將多種對電池開發(fā)至關(guān)重要的表面分析技術(shù)整合于新的自動化傳輸平臺,通過對薄膜與界面的一系列分析,能有效幫助電池壽命的研究。
作者: 時間:2022-07-05 來源:電子產(chǎn)品世界 收藏

股份有限公司(神奈川縣茅崎市、社長 原 泰博)推出一款追求高自動化及精簡操作的「PHI GENESIS」全新多功能掃描式 X 射線光電子能譜分析儀(XPS:X-ray Photoelectron Spectroscopy 又名 ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202207/435925.htm

掃描式 X 射線光電子能譜分析儀「PHI GENESIS」外觀


【背景】
帶動全球產(chǎn)業(yè)鏈的全固態(tài)、先進(jìn)半導(dǎo)體和光觸媒等先端應(yīng)用領(lǐng)域,都大量使用不同的複合材料,在材料的研究開發(fā)中,不僅對材料的性能以及優(yōu)化材料界面粘附性質(zhì)有要求,同時也需要與時間賽跑。為了滿足日新月異且復(fù)雜的表面與界面分析需求,從而加快材料的研究和開發(fā),我們推出了全新的 XPS 表面分析儀,不僅具有極強的基本性能、高度的自動化,并能夠滿足客戶的各種個性化要求。這就是 推出的全新掃描式 X 射線光電子能譜分析儀— PHI GENESIS。

【概述】
「PHI GENESIS」XPS 將大幅進(jìn)化的基本性能置于高度空間利用的外殼中,它保有50 年傳統(tǒng)的 PHI XPS 系列的“核心基因”并提高了自動化,成為了大幅縮短分析時間,且具有可擴(kuò)展性的最新科研儀器。

「PHI GENESIS」XPS 通過自動樣品交換以及多點分析功能,結(jié)合提高計數(shù)率的高靈敏度分析儀,提供快速、高靈敏度和微區(qū)的 XPS 分析。迄今為止, 和Physical Electronics USA 已將許多全球首創(chuàng)的 XPS 分析技術(shù)投入實際應(yīng)用中(掃描微聚焦型 X 射線、全自動化 XPS 分析、自動中和絕緣體分析、用團(tuán)簇離子蝕刻槍對有機(jī)材料進(jìn)行深度分析,以及通過硬 X 射線對無機(jī)材料進(jìn)行無破壞性的深度分析)。在整合這些技術(shù)到儀器中,便可以為金屬、半導(dǎo)體、陶瓷和有機(jī)物質(zhì)等所有材料提供尖端的 XPS 分析技術(shù)。

PHI GENESIS 的另一項創(chuàng)新是對易用性的追求,新軟件旨在提供各個層次的用戶都可快速上手使用,無論是表面分析的初學(xué)者還是尖端科學(xué)家,是在制造現(xiàn)場還是在尖端開發(fā)的研究機(jī)關(guān),都能夠符合使用者的習(xí)慣和需求。ULVAC-PHI亦提供了一個實驗室級的硬 X 射線選項,使得在實驗室環(huán)境中同樣可以使用如同大型同步輻射光源才能進(jìn)行的高階分析。

PHI GENESIS 不僅支持最先進(jìn)的復(fù)合材料分析,同時也能對復(fù)合器件的產(chǎn)品進(jìn)行分析,目標(biāo)成為加速全球研究與開發(fā)必不可少的分析儀器。

【上市時間】
2023 年 4 月




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