俄羅斯7納米驚人突破 泄國(guó)產(chǎn)EUV曝光時(shí)間

俄羅斯企圖打破艾司摩爾（ASML）先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備獨(dú)占地位！俄媒消息指出，俄羅斯號(hào)稱開(kāi)發(fā)出可取代曝光機(jī)的芯片制造工具，甚至發(fā)下豪語(yǔ)，將于2028年研發(fā)出可生產(chǎn)7納米芯片的曝光機(jī)，還可擊敗ASML同類產(chǎn)品。俄國(guó)目前普遍使用20年前的65納米制程，正在興建28納米晶圓廠。

俄羅斯國(guó)際新聞通訊社（俄新社）報(bào)導(dǎo)，圣彼得堡理工大學(xué)研發(fā)出一種「國(guó)產(chǎn)曝光復(fù)合體」，可用于蝕刻生產(chǎn)無(wú)掩模芯片，將有助于解決俄羅斯在微電子領(lǐng)域的技術(shù)主權(quán)問(wèn)題。

科學(xué)家表示，這款芯片制造設(shè)備成本為500萬(wàn)盧布（約臺(tái)幣161萬(wàn)元），而另一種工具的成本未知。

研究人員指出，相較于傳統(tǒng)曝光技術(shù)需要專門(mén)掩膜板來(lái)獲取影像，這款裝置更為經(jīng)濟(jì)、便利，透過(guò)專業(yè)軟件控制，實(shí)現(xiàn)完全自動(dòng)化。該發(fā)明是「各種微電子裝置運(yùn)行」所需的「納米結(jié)構(gòu)」工藝分兩階段進(jìn)行，首先使用基礎(chǔ)掩模曝光機(jī)，然后利用硅等離子化學(xué)蝕刻機(jī)。

而另一款設(shè)備可直接形成納米結(jié)構(gòu)或制作硅膜，如用于艦載超壓傳感器。

俄羅斯目前使用最普遍的技術(shù)是20年前的65納米制程，但現(xiàn)在正積極興建28制程晶圓廠。

Tom's Hardware此前報(bào)導(dǎo)，俄羅斯大諾夫哥羅德策略發(fā)展機(jī)構(gòu)（Novgorod Strategy Development）宣稱2028年將開(kāi)發(fā)出可生產(chǎn)7納米芯片的曝光機(jī)，并擊敗ASML同類產(chǎn)品，即ASML Twinscan NXT：2000i DUV。

俄羅斯科學(xué)院納米結(jié)構(gòu)研究所副所長(zhǎng)Nikolai Chkhalo表示，近20年來(lái)ASML致力于發(fā)展EUV（極紫外光）曝光機(jī)，目標(biāo)是讓頂尖半導(dǎo)體廠商保持極高的生產(chǎn)效率，但俄羅斯并不需要，只要根據(jù)國(guó)內(nèi)的需求向前推進(jìn)即可。