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英特爾首次采用EUV技術(shù)的Intel 4制程節(jié)點已大規(guī)模量產(chǎn)

作者: 時間:2023-10-16 來源:SEMI 收藏
近日,宣布已開始采用極紫外光刻()技術(shù)大規(guī)模量產(chǎn)(HVM)Intel 4制程節(jié)點。

據(jù)中國官微獲悉,近日,宣布已開始采用極紫外光刻()技術(shù)大規(guī)模量產(chǎn)(HVM)Intel 4制程節(jié)點。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202310/451597.htm

據(jù)悉,作為英特爾首個采用極紫外光刻技術(shù)生產(chǎn)的制程節(jié)點,Intel 4與先前的節(jié)點相比,在性能、能效和晶體管密度方面均實現(xiàn)了顯著提升。極紫外光刻技術(shù)正在驅(qū)動著算力需求最高的應(yīng)用,如AI、先進(jìn)移動網(wǎng)絡(luò)、自動駕駛及新型數(shù)據(jù)中心和云應(yīng)用。

英特爾“四年五個制程節(jié)點”計劃正在順利推進(jìn)中。目前,Intel 7和Intel 4已實現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn);Intel 3正在按計劃推進(jìn),目標(biāo)是2023年底;采用RibbonFET全環(huán)繞柵極晶體管和PowerVia背面供電技術(shù)的Intel 20A和Intel 18A同樣進(jìn)展順利,目標(biāo)是2024年。此外,英特爾將于不久后推出面向英特爾代工服務(wù)(IFS)客戶的Intel 18A制程設(shè)計套件(PDK)。



關(guān)鍵詞: 英特爾 EUV Intel4

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