國(guó)產(chǎn)光刻膠通過(guò)量產(chǎn)驗(yàn)證，武漢太紫微公司 T150 A 分辨率達(dá) 120nm

10 月 15 日消息，據(jù)武漢東湖新技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)管理委員會(huì)（中國(guó)光谷）今日消息，光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專(zhuān)用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)重大突破：

武漢太紫微光電科技有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)“太紫微公司”）推出的 T150 A 光刻膠產(chǎn)品，已通過(guò)半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證，實(shí)現(xiàn)配方全自主設(shè)計(jì)，有望開(kāi)創(chuàng)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。

中國(guó)光谷官方介紹稱(chēng)：“該產(chǎn)品對(duì)標(biāo)國(guó)際頭部企業(yè)主流 KrF 光刻膠系列。相較于被業(yè)內(nèi)稱(chēng)之為‘妖膠’的國(guó)外同系列產(chǎn)品 UV1610，T150 A 在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到 120nm，且工藝寬容度更大，穩(wěn)定性更高，堅(jiān)膜后烘留膜率優(yōu)秀，其對(duì)后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好，通過(guò)驗(yàn)證發(fā)現(xiàn) T150 A 中密集圖形經(jīng)過(guò)刻蝕，下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異?！?/p>

查詢(xún)公開(kāi)資料獲悉，太紫微公司成立于 2024 年 5 月，由華中科技大學(xué)武漢光電國(guó)家研究中心團(tuán)隊(duì)創(chuàng)立。

太紫微公司企業(yè)負(fù)責(zé)人、英國(guó)皇家化學(xué)會(huì)會(huì)員、華中科技大學(xué)教授朱明強(qiáng)表示：“以原材料的開(kāi)發(fā)為起點(diǎn)，最終獲得具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù)，這只是個(gè)開(kāi)始，我們團(tuán)隊(duì)還會(huì)發(fā)展一系列應(yīng)用于不同場(chǎng)景下的 KrF 與 ArF 光刻膠，為國(guó)內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)帶來(lái)更多驚喜。”