Silicon Genesis公司填補(bǔ)20um“無(wú)切損”光伏箔空白
在20um太陽(yáng)能電池箔結(jié)合了薄膜光伏電池多晶硅用量低和單晶硅光伏電池高效潛力的優(yōu)點(diǎn)。這都為大幅降低總生產(chǎn)成本創(chuàng)造了條件,從而可降低每瓦成本。預(yù)計(jì)該20um箔將把傳統(tǒng)的硅光伏電池吸收材料技術(shù)延伸到未來(lái)。該單晶硅箔是最近展示的試驗(yàn)性地用流水線(xiàn)生產(chǎn)厚度150um和50um的原尺寸晶片連續(xù)開(kāi)發(fā)的成果。這些試點(diǎn)能力正在用于開(kāi)發(fā)大批量生產(chǎn)設(shè)備。
20um單晶硅箔的推出將使光伏電池制造商能夠以具有成本效益的生產(chǎn)探索新的應(yīng)用和形式。PolyMax 系統(tǒng)的無(wú)切損性質(zhì)有助于節(jié)省原料,以及使用更薄的單晶硅晶片和箔發(fā)展新產(chǎn)品類(lèi)型。
SiGen首席執(zhí)行官Francois Henley說(shuō):“我們的20um晶體硅箔技術(shù)的高效潛力為太陽(yáng)能光伏產(chǎn)業(yè)創(chuàng)造了新的機(jī)會(huì)。20um箔的柔性便于發(fā)展多種應(yīng)用,如光伏建筑一體化(BIPV)和柔性光伏電池。這增強(qiáng)了我的信心,即薄膜技術(shù)的采用將受到超薄的PolyMax技術(shù)的成本和性能優(yōu)勢(shì)的限制。”
PolyMax系統(tǒng)概念和20um基片成果已在《光子》(PHOTON)雜志最近在德國(guó)慕尼黑舉辦的“第四屆光伏技術(shù)展”上展出。
評(píng)論