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EUV光刻取得成功，Lasertec功不可沒(méi)

  • 在經(jīng)歷了二十多年的研發(fā)之后，芯片制造商在一項(xiàng)能夠大幅度提升硅片上晶體管密度的技術(shù)上壓下了重注，那就是EUV光刻。他們能夠取得成功，日本東京郊區(qū)的一家名為L(zhǎng)asertec小公司功不可沒(méi)。
  • 關(guān)鍵字： EUV  Lasertec  

Lasertec護(hù)膜和掩膜雜質(zhì)粒子檢查設(shè)備

  • Lasertec日前宣布成功地推出了新型護(hù)膜和掩膜異物檢查設(shè)備——PEGSIS P100。這個(gè)設(shè)備能與90nm甚至更小尺寸半導(dǎo)體器件設(shè)計(jì)規(guī)則的掩膜兼容，具有很高的檢查速率和靈敏度。Lasertec將這個(gè)產(chǎn)品視為2006年之前的旗艦產(chǎn)品，計(jì)劃在2006年受理10部訂單。 該設(shè)備不僅將檢測(cè)靈敏度提高到了4μm，還能通過(guò)明視場(chǎng)檢查進(jìn)行缺陷檢測(cè)。只要缺陷的種類(lèi)清楚了，就能選擇合理的洗凈方法。今后幾個(gè)月內(nèi)還將配備可清除異物的選配功能，據(jù)介紹能夠當(dāng)場(chǎng)清除異物。包括掩膜搬運(yùn)等時(shí)間在內(nèi)護(hù)膜表面和掩膜背面的檢測(cè)時(shí)
  • 關(guān)鍵字： Lasertec  護(hù)膜和掩膜  檢查設(shè)備  雜質(zhì)粒子  
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lasertec介紹

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