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X-FAB新一代光電二極管顯著提升傳感靈敏度
- 全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)近日宣布,在其現(xiàn)有為光學(xué)傳感器而特別優(yōu)化的180nm CMOS半導(dǎo)體工藝平臺——XS018上,現(xiàn)推出四款新型高性能光電二極管。豐富了光電傳感器的產(chǎn)品選擇,強化了X-FAB廣泛的產(chǎn)品組合。2×2光電二極管排列布局示例圖此次推出的四款新產(chǎn)品中,兩款為響應(yīng)增強型光電二極管doafe和dobfpe,其靈敏度在紫外、可見光和紅外波長(全光譜)上均有所提升;另外還有兩款先進的紫外線專用光電二極管dosuv和dosu
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Intel出售愛爾蘭工廠49%股份:獲110億美元緩解財務(wù)壓力
- 6月6日消息,據(jù)媒體報道,英特爾近期宣布,已同意以110億美元的價格將其位于愛爾蘭的Fab 34芯片工廠49%的股份出售給阿波羅全球管理公司。這一舉措旨在為英特爾的大規(guī)模擴張計劃引入更多外部資金,同時緩解公司的財務(wù)壓力。根據(jù)英特爾的聲明,通過此次交易,英特爾將出售Fab 34芯片工廠相關(guān)實體中49%的股份,而保留51%的股份,保持對工廠的控股權(quán)。Fab 34工廠是英特爾在歐洲唯一一家使用極紫外線(EUV)光刻技術(shù)的芯片制造工廠,對采用Intel 4和Intel 3制程的晶圓提供支持,迄今為止,英特爾已在該
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X-Fab增強其180納米車規(guī)級高壓CMOS代工解決方案
- Source:Yulia Shaihudinova/iStock/Getty Images Plus via Getty Images模擬/混合信號和專業(yè)晶圓代工廠X-Fab Silicon Foundries SE(X-Fab)日前推出了其XP018高壓互補型金屬氧化物半導(dǎo)體(CMOS)制造平臺的更新。5月16日發(fā)布的一篇新聞稿表示,該平臺現(xiàn)在包括全新的40 V和60 V高壓基礎(chǔ)器件,可提供可擴展的安全工作區(qū)(安全工作區(qū))以提高運行穩(wěn)健性。這些第二代器件在RDSon數(shù)據(jù)上也有顯著降低,與此前版本相比降低
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聯(lián)電新加坡Fab 12i P3新廠首批設(shè)備到廠
- 據(jù)聯(lián)電(UMC)官網(wǎng)消息,5月21日,聯(lián)電在新加坡Fab 12i舉行第三期擴建新廠的上機典禮,首批設(shè)備到廠,象征公司擴產(chǎn)計劃建立新廠的重要里程碑。據(jù)悉,聯(lián)電曾表示新加坡Fab12i P3旨在成為新加坡最先進半導(dǎo)體晶圓代工廠之一,提供22/28nm制程,以支持5G、物聯(lián)網(wǎng)和車用電子等領(lǐng)域需求,總投資金額為50億美元。據(jù)了解,聯(lián)電早在2022年2月宣布了在新加坡Fab 12i P3廠的擴建計劃。當(dāng)時消息稱,新廠第一期月產(chǎn)能規(guī)劃30,000片晶圓,2024年底開始量產(chǎn),后又在2022年底稱,在過程中因缺工缺料及
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X-FAB增強其180納米車規(guī)級高壓CMOS代工解決方案
- 全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)近日宣布,更新其XP018高壓CMOS半導(dǎo)體制造平臺,增加全新40V和60V高壓基礎(chǔ)器件——這些器件具有可擴展SOA,提高運行穩(wěn)健性。與上一代平臺相比,此次更新的第二代高壓基礎(chǔ)器件的RDSon阻值降低高達50%,為某些關(guān)鍵應(yīng)用提供更好的選擇——特別適合應(yīng)用在需要縮小器件尺寸并降低單位成本的系統(tǒng)中。XP018平臺作為一款模塊化180納米高壓EPI技術(shù)解決方案,基于低掩模數(shù)5V單柵極核心模塊,支持-40°C
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X-FAB引入圖像傳感器背照技術(shù)增強CMOS傳感器性能
- 全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)近日宣布,其光學(xué)傳感器產(chǎn)品平臺再添新成員——為滿足新一代圖像傳感器性能的要求,X-FAB現(xiàn)已在其備受歡迎的CMOS傳感器工藝平臺XS018(180納米)上開放了背照(BSI)功能。BSI工藝截面示意圖通過BSI工藝,成像感光像素性能將得到大幅增強。這一技術(shù)使得每個像素點接收到的入射光不會再被后端工藝的金屬層所遮擋,從而大幅提升傳感器的填充比,最高可達100%。由于其能夠獲得更高的像素感光靈敏度,因而在暗
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格科微發(fā)布系列5000萬像素圖像傳感器
- 12月22日,科創(chuàng)板上市公司格科微(688728.sh)成功舉辦以“Fab-Lite新模式·引領(lǐng)中國芯未來”為主題的20周年慶典暨臨港工廠投產(chǎn)儀式,及2023年產(chǎn)品推介會暨CEO交流會。圖1 格科微20周年慶典暨臨港工廠投產(chǎn)儀式.JPG以讓世界看見中國的創(chuàng)新為使命,格科微經(jīng)過二十年的發(fā)展,成功實現(xiàn)了從Fabless到Fab-Lite的戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型,迎來了歷史最佳的經(jīng)營局面。值此良機,格科微高端產(chǎn)品再傳佳訊,公司推出三款全新單芯片高階產(chǎn)品,為未來加速核心技術(shù)產(chǎn)品化,邁向嶄新的發(fā)展階段奠定了基礎(chǔ)。整個活動,政府領(lǐng)
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總投資573億元!中芯國際12英寸晶圓代工生產(chǎn)線新進展
- 據(jù)臨港新片區(qū)管委會官網(wǎng)披露文件顯示,日前,中芯國際臨港12英寸晶圓代工生產(chǎn)線項目城鎮(zhèn)污水排入排水管網(wǎng)許可順利獲批。據(jù)悉,中芯國際臨港12英寸晶圓代工生產(chǎn)線項目由中芯國際和中國(上海)自由貿(mào)易試驗區(qū)臨港新片區(qū)管理委員會合作規(guī)劃建設(shè)。根據(jù)協(xié)議,雙方共同成立合資公司,規(guī)劃建設(shè)產(chǎn)能為10萬片/月的12英寸晶圓代工生產(chǎn)線項目,聚焦于提供28納米及以上技術(shù)節(jié)點的集成電路晶圓代工與技術(shù)服務(wù)。據(jù)中芯國際發(fā)布的公告顯示,該項目計劃投資約88.7億美元(折合人民幣約573億元),這也是中芯國際在上海的第一個按照Twin Fa
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X-FAB推出針對近紅外應(yīng)用的新一代增強性能SPAD器件
- 全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)近日宣布,推出專用近紅外版本的單光子雪崩二極管(SPAD)器件組合。與2021年發(fā)布的前一代SPAD保持同步,新版本也是基于X-FAB 180納米工藝的XH018平臺。得益于在制造過程中增加的額外工藝流程,在保持同樣低的本底噪聲水平的同時,顯著增強信號,而且不會對暗計數(shù)率、后脈沖和擊穿電壓等參數(shù)產(chǎn)生負面影響。X-FAB通過推出這一最新版本的產(chǎn)品,成功豐富了其SPAD產(chǎn)品的選擇范圍,提升了解決眾多視近紅外
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X-FAB在制造工藝上的突破為電隔離解決方案增加CMOS集成選項
- 全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)近日宣布,在電隔離技術(shù)領(lǐng)域取得重大進展——X-FAB在2018年基于其先進工藝XA035推出針對穩(wěn)健的分立電容或電感耦合器優(yōu)化之后,現(xiàn)又在此平臺上實現(xiàn)了將電隔離元件與有源電路的直接集成。這是X-FAB對半導(dǎo)體制造工藝上的又一重大突破。這一集成方法使隔離產(chǎn)品的設(shè)計更加靈活,從而應(yīng)對可再生能源、EV動力系統(tǒng)、工廠自動化和工業(yè)電源領(lǐng)域的新興機遇。XA035基于350納米工藝節(jié)點,非常適合制造車用傳感器和高壓工
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X-FAB最新的無源器件集成技術(shù)擁有改變通信行業(yè)游戲規(guī)則的能力
- 全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)近日宣布,新增集成無源器件(IPD)制造能力,進一步增強其在射頻(RF)領(lǐng)域的廣泛實力。公司在歐洲微波展(9月17至22日,柏林)舉辦前夕推出XIPD工藝;參加此次活動的人員可與X-FAB技術(shù)人員(位于438C展位)就這一創(chuàng)新進行交流。X-FAB XIPD晶圓上的電感器測試結(jié)構(gòu)XIPD源自廣受歡迎的X-FAB XR013 130nm RF SOI工藝——該技術(shù)利用工程基底和厚銅金屬化層,讓客戶能夠在其器
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X-FAB領(lǐng)導(dǎo)歐資聯(lián)盟助力歐洲硅光電子價值鏈產(chǎn)業(yè)化
- 中國北京,2023年6月15日——全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)今日宣布,正在開展photonixFAB項目---該項目旨在為中小企業(yè)和大型實體機構(gòu)在光電子領(lǐng)域的創(chuàng)新賦能,使其能夠輕松獲得具有磷化銦(InP)和鈮酸鋰(LNO)異質(zhì)集成能力的低損耗氮化硅(SiN)與絕緣體上硅(SOI)光電子平臺。在此過程中,模擬/混合信號晶圓代工領(lǐng)域的先進廠商X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)牽頭發(fā)起一項戰(zhàn)略倡議,旨在推
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X-FAB率先向市場推出110納米BCD-on-SOI代工解決方案
- 中國北京,2023年6月2日——全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)今日宣布,X-FAB成為業(yè)界首家推出110納米BCD-on-SOI解決方案的代工廠,由此加強了其在BCD-on-SOI技術(shù)領(lǐng)域的突出地位。全新XT011 BCD-on-SOI平臺反映了模擬應(yīng)用中對更高數(shù)字集成和處理能力日益增長的需求。其將SOI和DTI極具吸引力的特性結(jié)合在一起,因此與傳統(tǒng)Bulk BCD工藝相比,高密度數(shù)字邏輯和模擬功能可以更容易地集成至單個芯片。X-F
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碳化硅擴產(chǎn)、量產(chǎn)消息不斷,瑞薩、X-FAB跟進
- 近期,一眾國內(nèi)廠商擴產(chǎn)、量產(chǎn)碳化硅的消息頻繁發(fā)布。如博世收購了美國半導(dǎo)體代工廠TSI以在2030年底之前擴大自己的SiC產(chǎn)品組合;安森美半導(dǎo)體考慮投資20億美元擴產(chǎn)碳化硅芯片;SK集團宣布,旗下SK powertech位于釜山的新工廠結(jié)束試運行,將正式量產(chǎn)碳化硅,產(chǎn)能將擴大近3倍。除此之外,據(jù)外媒報道,日本半導(dǎo)體巨頭瑞薩和德國晶圓代工廠X-FAB也于近日宣布了擴產(chǎn)碳化硅的計劃。其中,瑞薩電子將于2025年開始生產(chǎn)使用碳化硅 (SiC)來降低損耗的下一代功率半導(dǎo)體產(chǎn)品。報道指出,按照計劃,瑞薩電子擬在目
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X-FAB與萊布尼茨IHP研究所達成許可協(xié)議
- 全球公認的卓越的模擬/混合信號晶圓代工廠X-FAB Silicon Foundries(“X-FAB”)與萊布尼茨IHP研究所今日共同宣布,將推出創(chuàng)新的130納米SiGe BiCMOS平臺,進一步擴大與萊布尼茨高性能微電子研究所(IHP)的長期合作關(guān)系。作為新協(xié)議的一部分,X-FAB將獲得IHP的尖端SiGe技術(shù)授權(quán),將這一技術(shù)的性能優(yōu)勢帶給大批量市場的客戶群體。130納米SiGe BiCMOS平臺新創(chuàng)建的130納米平臺顯著加強了X-FAB的技術(shù)組合,提供了獨特的解決方案,達到滿足下一代通信要求所需的更高
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