半導體業(yè)界為EUV已經投入了相當龐大的研發(fā)費用，因此也不難理解他們急于收回投資。雖然目前還不清楚EUV是否已經100%準備就緒，但是三星已經邁出了實現大規(guī)模量產的第一步。
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三星 EUV 3nm
引領技術開發(fā)的少數芯片制造商認定，極紫外光(EUV)微影技術將在明年使得半導體元件的電晶體密度更進一步向物理極限推進，但才剛失去全球半導體產業(yè)龍頭寶座的英特爾(Intel)，似乎放棄了繼續(xù)努力在采用EUV的腳步上領先;該公司在1990年代末期曾是第一批開始發(fā)展EUV的IC廠商?！ ≡请娮庸こ處煹氖袌鲅芯繖C構Bernstein分析師Mark Li表示，英特爾不會在短時間內導入EUV，該公司仍在克服量產10納米制程的困難，因此其7納米制程還得上好幾年，何時會用上EUV更是個大問題。 在此同時，三星(S
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英特爾 EUV
業(yè)界領先的特種化學及先進材料解決方案的公司Entegris(納斯達克：ENTG)日前發(fā)布了下一代EUV 1010光罩盒，用于以極紫外(EUV)光刻技術進行大批量IC制造。Entegris的EUV 1010是與全球最大的芯片制造設備制造商之一的ASML密切合作而開發(fā)的，已在全球率先獲得ASML的認證，用于NXE:3400B等產品?！ ‰S著半導體行業(yè)開始更多地使用EUV光刻技術進行先進技術制程的大批量制造(HVM)，對EUV光罩無缺陷的要求比以往任何時候都要嚴格。Entegris的EUV 1010光罩盒已
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Entegris EUV ASML
先前李在镕涉入政治關說丑聞的負面影響尚未完全消除，設法恢復各界對三星的信賴也是李在镕須解決的課題。
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三星 EUV
為進一步提升在中國市場晶圓代工領域的競爭力，6月14日，三星電子在中國上海召開 “2018三星晶圓代工論壇(Samsung Foundry Forum 2018)”(SFF)，這是SFF首次在中國舉行，中國半導體市場的影響力可見一斑?！ ”敬握搲希请娮泳A代工事業(yè)部戰(zhàn)略市場部部長、副社長裵永昌帶領主要管理團隊，介紹了晶圓代工事業(yè)部升級為獨立業(yè)務部門一年來的發(fā)展成果，以及未來發(fā)展路線圖和服務，首次發(fā)布了FinFET、GAA等晶體管構造與EUV曝光技術的使用計劃，以及3納米芯片高端工藝的發(fā)展路線圖，
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EUV，晶圓
聯發(fā)科高分貝宣布旗下首款5G Modem芯片，代號為曦力(Helio)M70的芯片解決方案將在2019年現身市場的動作，臺面上或是為公司將積極進軍全球5G芯片市場作熱身，但臺面下，已決定采用臺積電7納米EUV制程技術設計量產的M70 5G Modem芯片解決方案，卻是聯發(fā)科為卡位臺積電最新主力7納米制程技術產能，同時向蘋果(Apple)iPhone訂單招手的關鍵大絕，在高通(Qualcomm)還在三星電子(SAMSUNG)、臺積電7納米制程技術猶疑之間，聯發(fā)科已先一步表達忠誠，而面對高通、蘋果專利訟訴
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臺積電，EUV
據《日經亞洲評論》(Nikkei Asian Review)15日援引消息人士的話稱，中國芯片加工企業(yè)中芯國際(SMIC)向全球最大的芯片設備制造商——荷蘭ASML訂購了首臺最先進的EUV(極紫外線)光刻機，價值1.2億美元。目前，業(yè)內已達成共識，必須使用EUV光刻機才能使半導體芯片進入7nm，甚至5nm時代。今天，中芯國際方面對觀察者網表示，對此事不做評論。 消息稱，這臺幾乎相當于中芯國際去年全部凈利潤的設備，將于2019年前交付?！ SML發(fā)言人對《日經亞洲評論》表示，該企業(yè)對包括中國客戶在內
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中芯 EUV
據知情人士透露，中國最大的晶圓代工廠中芯國際已經訂購了一臺EUV設備，在中美兩國貿易緊張的情況下，此舉旨在縮小與市場領先者的技術差距，確保關鍵設備的供應。EUV是當前半導體產業(yè)中最先進也最昂貴的芯片制造設備。
中芯國際的首臺EUV設備購自荷蘭半導體設備制造商ASML，價值1.2億美元。盡管中芯目前在制造工藝上仍落后于臺積電等市場領導者兩到三代，此舉仍突顯了該公司幫助提升中國本土半導體制造技術的雄心壯志，也保證了在最先進的光刻設備方面的供應。目前包括英特爾、三星、臺積電等巨頭都在購買該設備，以確保
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中芯 EUV
種種跡象表明，2018年將是移動處理器、半導體等行業(yè)迎來轉折的一年，多種技術經歷多年沉淀后會在今年完成應用，然后在2019年爆發(fā)。
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臺積電 芯片 EUV
載具對于曝光機發(fā)揮保護、運送和存儲光罩等功能十分重要。家登精密多年來致力于研究曝光機載具，并為全球最大的半導體設備制造商ASML提供載具相關技術。
我們主要研究EUV的配套技術，例如EUV的載具以及EUV的配套光罩，是7nm向5nm進階的突破口。隨著5nm技術的升級，EUV的重要性逐漸凸顯出來，而載具的研究也越發(fā)緊迫。過去幾年，家登精密一直專心做一件事，那就是載具的配套研究。去年，我們的技術產品已經達到國際先進水平，這是一個值得自豪的成績。未來，7nm工藝逐漸向5nm升級，技術的研究會越來越困難
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ASML EUV
2017年，三星在半導體事業(yè)中的投資達到了260億美元，創(chuàng)下歷史新高，這主要得益于其存儲芯片的巨大需求。
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三星 EUV
在前段時間，臺積電創(chuàng)始人張忠謀在即將退休的時候卻意外表示，其實中國臺灣地區(qū)的企業(yè)本來就不應該死守，假如價錢夠好把臺積電賣掉也無妨。
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臺積電 EUV
韓國三星電子2017財年(截至2017年12月)合并營業(yè)利潤創(chuàng)下歷史新高，但其危機感正在加劇。三星1月31日發(fā)布的財報顯示，營業(yè)利潤同比增長83%，其中僅半導體業(yè)務盈利就增至上年的2.6倍，約合3.5萬億日元，顯著依賴市場行情，因此危機感增強。3大主要部門面臨著半導體增長放緩等課題。三星能否在新經營團隊的領導下，將智能手機和電視機的自主技術培育成新的收益源? 2018財年將成為試金石。
三星整體的營業(yè)利潤為53.65萬億韓元，時隔4年再創(chuàng)歷史新高。其中，半導體部門的服務器和智能手機存儲銷量堅挺，
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三星 EUV
EUV微影技術將在未來幾年內導入10奈米(nm)和7nm制程節(jié)點。 不過，根據日前在美國加州舉辦的ISS 2018上所發(fā)布的分析顯示，實現5nm芯片所需的光阻劑仍存在挑戰(zhàn)。
極紫外光(extreme ultraviolet;EUV)微影技術將在未來幾年內導入10奈米(nm)和7nm制程節(jié)點。 不過，根據日前在美國加州舉辦的年度產業(yè)策略研討會(Industry Strategy Symposium;ISS 2018)所發(fā)布的分析顯示，實現5nm芯片所需的光阻劑(photoresist)仍存在挑戰(zhàn)。
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EUV 7nm
晶圓代工之戰(zhàn)，7nm制程預料由臺積電勝出，4nm之戰(zhàn)仍在激烈廝殺。 Android Authority報道稱，三星電子搶先使用極紫外光(EUV)微影設備，又投入研發(fā)能取代「鰭式場效晶體管」(FinFET)的新技術，目前看來似乎較占上風。
Android Authority報導，制程不斷微縮，傳統(tǒng)微影技術來到極限，無法解決更精密的曝光顯像需求，必須改用波長更短的EUV， 才能準確刻蝕電路圖。 5nm以下制程，EUV是必備工具。 三星明年生產7nm時，就會率先采用EUV，這有如讓三星在6nm以下的競
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4nm EUV
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