未來三年內(nèi)存價格將持續(xù)攀升

　　DRAMeXchange傳來噩耗稱內(nèi)存芯片的價格在未來三年內(nèi)將持續(xù)走高。這家市場分析公司將內(nèi)存產(chǎn)業(yè)的興衰周期定為3年左右，據(jù)該公司的分析師表示，2001-2003年，內(nèi)存業(yè)者一直處在虧損期，而2004-2006年則恢復(fù)為持續(xù)盈利的狀態(tài)，2007-2009年間則再度出現(xiàn)虧損期，因此他們預(yù)計從2010年開始，在全球經(jīng)濟危機緩和，Windows7日漸流行等因素的影響下，內(nèi)存業(yè)者將再度扭虧為盈，進(jìn)入新的一輪三年盈利期。

　　不過內(nèi)存業(yè)者仍然面臨另外一個重要的難題，他們要將制程水品提升到50nm以上級別則一般需要購買昂貴的沉浸式光刻設(shè)備。而除了內(nèi)存業(yè)者以外，其它半導(dǎo)體廠商如臺積電/聯(lián)電燈公司也需要采購這類新設(shè)備。目前在沉浸式光刻機市場上占據(jù)老大地位的是ASML公司，這家公司的產(chǎn)品占到了同類產(chǎn)品市場的90%份額。在這種情況之下，沉浸式光刻機的供貨期將大大延長，而這則會使內(nèi)存業(yè)者試圖提升制程的計劃放緩。