三星與樂金擬于可撓OLED導(dǎo)入原子層沉積技術(shù)

　　三星顯示器(Samsung Display)與樂金顯示器(LG Display)目前正在研擬于可撓式OLED薄膜封裝制程上導(dǎo)入原子層沉積技術(shù)(Atomic Layer Deposition;ALD)。兩家公司都與設(shè)備協(xié)力廠合作研發(fā)ALD設(shè)備，并進(jìn)入測試階段。若導(dǎo)入ALD制程，阻擋水分及氧氣的效果會提升，將有望提升可撓式OLED面板壽命以及性能。

　　韓媒ET News報導(dǎo)，三星顯示器與樂金顯示器目前正準(zhǔn)備于可撓式OLED制程上導(dǎo)入ALD技術(shù)。目前擁有顯示器用ALD技術(shù)與設(shè)備的南韓廠商有周星工程(Jusung Engineering)、Wonik IPS、AP System以及TES。據(jù)悉，樂金顯示器已結(jié)束ALD的研究，并展開制程導(dǎo)入的研發(fā)作業(yè)，而三星顯示器也開始加快ALD導(dǎo)入速度。

　　兩家公司雖然早已開始研究ALD技術(shù)，不過最近隨著可撓式OLED設(shè)備投資熱潮，提升了實際導(dǎo)入ALD技術(shù)的可能性。

　　因為OLED是有機(jī)材質(zhì)，在對于水分及氧氣的抵抗性較不足。為了保護(hù)OLED材料，必須多次涂上薄膜保護(hù)材質(zhì)。雖然每家面板制造商在薄膜層涂抹的次數(shù)不一樣，但平均有機(jī)物薄膜和無機(jī)物薄膜約會涂抹3~5次，采用的則是Vitex的方式。

　　一般而言，無機(jī)物薄膜封裝可以使用PECVD、Sputtering以及ALD技術(shù)。有機(jī)物薄膜沉積則常使用Kateeva噴墨列印技術(shù)。過去，三星顯示器與樂金顯示器在無機(jī)物薄膜制程采用的都是PECVD技術(shù)。

　　不過最近隨著對于OLED壽命及功能改善的急迫性提升，這兩家公司都開始研擬導(dǎo)入ALD技術(shù)。主要的問題就在于，相較于可撓式OLED需求的提升，生產(chǎn)性則是下滑。

　　如果在顯示器上采用ALD技術(shù)，可以把薄膜雜質(zhì)極小化，形成相同厚度的薄膜。透過質(zhì)量較好的薄膜，保護(hù)OLED材質(zhì)的效果就會增強，水分及氧氣就不容易進(jìn)入。無機(jī)物薄膜如果以不同納米單位來交替沉積，將可極小化整體薄膜的厚度，也就可呈現(xiàn)相當(dāng)?shù)偷耐杆?Water Vapor Transmission Rate)，此外，因可更多樣地呈現(xiàn)薄膜組成，也有望克服現(xiàn)有CVD方式的材料極限。

　　半導(dǎo)體業(yè)界因為微細(xì)制程進(jìn)展，早已開始積極導(dǎo)入ALD。反觀顯示器業(yè)界卻在導(dǎo)入上猶豫不定，主要還是因為設(shè)備費用比PECVD來的昂貴，再加上在6代大尺寸運用以及沉積速度上仍面臨許多難題，不過，最近隨著部分問題得到解決，導(dǎo)入的可能性也日益攀升。

　　南韓業(yè)界人士表示，雖然無法完全進(jìn)行比較，不過大致來說，ALD沉積速度約比PECVD慢上10倍左右。如果沉積速度較慢，生產(chǎn)性就會降低。此外，大尺寸量產(chǎn)上仍是最大的障礙。不過，如果薄膜厚度可以更薄，就很值得研擬實際導(dǎo)入制程的可能性。