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尼康起訴ASML和卡爾蔡司光刻技術(shù)侵權(quán) 要求賠償

作者: 時(shí)間:2017-04-25 來(lái)源:新浪科技 收藏

  北京時(shí)間4月24日晚間消息,今日宣布,已對(duì)荷蘭半導(dǎo)體行業(yè)光刻系統(tǒng)供應(yīng)商阿斯麥()和德國(guó)光學(xué)及光電子學(xué)設(shè)備廠商卡爾蔡司(Carl Zeiss)提起訴訟,指控這兩家公司未經(jīng)授權(quán)而使用其光刻技術(shù)。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201704/358388.htm

  稱(chēng),已在荷蘭、德國(guó)和日本對(duì)阿斯麥和卡爾蔡司提起訴訟??柌趟臼前⑺果湹墓鈱W(xué)設(shè)備供應(yīng)商。在一份聲明中稱(chēng):“阿斯麥和卡爾蔡司在未經(jīng)尼康許可的前提下,在阿斯麥的光刻系統(tǒng)中使用尼康的專(zhuān)利技術(shù)。”

  當(dāng)前,光刻系統(tǒng)被廣泛應(yīng)用于制造半導(dǎo)體,而阿斯麥又主導(dǎo)著半導(dǎo)體光刻機(jī)市場(chǎng)。評(píng)級(jí)機(jī)構(gòu)“惠譽(yù)評(píng)級(jí)”(Fitch Ratings)今年1月發(fā)布的調(diào)研報(bào)告顯示,在高端光刻機(jī)市場(chǎng),阿斯麥的份額高達(dá)90%。

  尼康在訴訟文件中稱(chēng),要求阿斯麥和卡爾蔡司對(duì)未授權(quán)使用專(zhuān)利技術(shù)而做出賠償。

  對(duì)此,阿斯麥總裁兼CEO彼得·溫尼克(Peter Wennink)稱(chēng):“尼康的訴訟毫無(wú)依據(jù),沒(méi)有必要,為半導(dǎo)體市場(chǎng)制造了不確定性。”溫尼克還稱(chēng),阿斯麥曾多次試圖與尼康談判,希望能對(duì)當(dāng)前的一份交叉授權(quán)協(xié)議進(jìn)行延期。



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