Mentor擴(kuò)展解決方案以支持TSMC 7nm FinFET Plus和

　　Mentor, a Siemens business 今日宣布 Mentor Calibre? nmPlatform 和 Analog FastSPICE? (AFS?) Platform 獲得 TSMC 12nm FinFET Compact Technology (12FFC) 和最新版本 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證。Nitro-SoCTM 布局和布線系統(tǒng)也通過了認(rèn)證，可以支持 TSMC 的 12FFC 工藝技術(shù)。

　　TSMC 設(shè)計(jì)基礎(chǔ)架構(gòu)營銷部高級總監(jiān) Suk Lee 說道：“TSMC 很榮幸與 Mentor 展開密切合作，Mentor 為工具流程提供了更多功能，以便支持我們的全新 12nm 和 7nm FinFET Plus 工藝，從而繼續(xù)增加其對 TSMC 生態(tài)系統(tǒng)的價(jià)值。多年以來，Mentor 一直都是我們的戰(zhàn)略合作伙伴，西門子承諾繼續(xù)在 Mentor 的電子設(shè)計(jì)自動化 (EDA) 技術(shù)領(lǐng)域進(jìn)行投資，我們也期望幫助雙方的共同客戶向市場推出更加令人驚嘆的全新 IC 創(chuàng)新產(chǎn)品?！?/p>

　適用于 TSMC 12nm 和 7nm FinFET Plus 的 Mentor Calibre nmPlatform

　　Mentor 針對 TSMC最新版本的 12nm 和 7nm FinFET Plus 工藝，增強(qiáng)了 Calibre nmDRC? 和 Calibre nmLVS? 工具的功能。Mentor 與 TSMC 攜手合作，不僅確保適當(dāng)?shù)母采w率，還優(yōu)化了設(shè)計(jì)套件的運(yùn)行速度。此外，TSMC 和 Mentor 還展開了合作，以便雙方的共同客戶能夠了解 Calibre 設(shè)計(jì)規(guī)則檢查 (DRC) 和多重曝光軟件方面的極紫外 (EUV) 光刻要求。

　　Calibre xACT? 寄生參數(shù)提取工具也通過了 TSMC 的 12nm v1.0 和最新版本 7nm FinFET Plus 的認(rèn)證，達(dá)到了必需的精確度要求。

　　不僅 Calibre YieldEnhancer 工具獲得了 TSMC 的 12nm 和 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證，Mentor 和 TSMC 還聯(lián)手提供了增強(qiáng)使用模型，旨在優(yōu)化填充運(yùn)行時(shí)間，通過工程變更指令填充 (ECO Fill) 來最大程度地減少形狀移除，使用“隨時(shí)填充”方法確保所有層之間的一致性。

　　Calibre PERC? 可靠性平臺是適用于 IP 和全芯片可靠性分析的驗(yàn)證解決方案。對于當(dāng)今復(fù)雜密集的芯片設(shè)計(jì)而言，點(diǎn)對點(diǎn)和電流密度可靠性檢查是至關(guān)重要的，但要在大型 12nm 和 7nm FinFET Plus 設(shè)計(jì)上完成這些檢測，必須具備可擴(kuò)展性。TSMC 和 Mentor 共同協(xié)作，實(shí)現(xiàn)了 Calibre PERC 解決方案，充分利用全新的多 CPU 運(yùn)行功能，讓共同客戶能夠更快地發(fā)現(xiàn)和解決他們設(shè)計(jì)中的全芯片可靠性問題。

　　適用于 TSMC 12nm 和 7nm FinFET Plus 的 Mentor AFS 平臺

　　AFS 平臺，包括 AFS Mega 電路仿真器，獲得了 TSMC 的 12nm 和 TSMC 7nm FinFET Plus 工藝的認(rèn)證。AFS 平臺支持面向移動和 HPC 應(yīng)用的 TSMC 設(shè)計(jì)平臺的所有必需功能。全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體公司的模擬、混合信號和射頻 (RF) 設(shè)計(jì)團(tuán)隊(duì)均使用 AFS 平臺對采用最新 TSMC 技術(shù)的芯片進(jìn)行驗(yàn)證，并從中大獲裨益。

　　適用于 TSMC 12nm 的 Mentor Nitro-SoC

　　Mentor 的 Nitro-SoCTM 布局布線系統(tǒng)獲得了 TSMC 的 12nm 工藝的認(rèn)證。除了支持 12nm 工藝規(guī)則之外，Mentor 還增強(qiáng)了 Nitro-SoC 的內(nèi)核引擎，以滿足這種高密度、高能效工藝的全新標(biāo)準(zhǔn)單元架構(gòu)要求和設(shè)計(jì)規(guī)則。這使得 Mentor 能夠?yàn)?12nm 節(jié)點(diǎn)提供數(shù)字實(shí)施流程。

　　Mentor 副總裁兼 Design to Silicon 事業(yè)部總經(jīng)理 Joe Sawicki 說道：“Mentor 非常榮幸能夠成為 TSMC 生態(tài)系統(tǒng)的重要組成部分。今年，TSMC 和 Mentor 聯(lián)手提供了眾多解決方案，繼續(xù)為共同客戶提供多種設(shè)計(jì)方法，以促進(jìn)移動、高性能計(jì)算、汽車、物聯(lián)網(wǎng)、可穿戴設(shè)備市場的 IC 創(chuàng)新?！?/p>