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3D NAND技術工藝發(fā)展與主流內(nèi)存標準探討

作者: 時間:2017-10-14 來源:網(wǎng)絡 收藏

  說到閃存,很多人都會想到運行和儲存,關心手機硬件的朋友應該都對CPU、GPU、屏幕和電池等部件非常熟悉,但是對于產(chǎn)品性能同樣非常重要的RAM(運行)和ROM(儲存內(nèi)存)相信就沒有那么多人有很多了解了,今天的這篇文章,就先來說說儲存內(nèi)存的那些事。首先,和CPU等不一樣,ROM的性能好壞的評價并不和計算能力相關,衡量一塊閃存和運存性能好壞的,只有兩個指標:數(shù)據(jù)讀寫速度和容量。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201710/366254.htm

  3D NAND為閃存容量打了興奮劑

  3D NAND閃存興起

  關于容量,首先需要強調(diào),手機儲存容量、固態(tài)硬盤(SSD)、U盤和SD卡等使用的都是一種叫做NAND的儲存介質(zhì),傳統(tǒng)的儲存介質(zhì)還有機械硬盤(HHD),也就是傳統(tǒng)的光盤儲存。特點是斷電之后也能保持儲存的數(shù)據(jù)不丟失,可以作存儲數(shù)據(jù)用。而所謂的RAM(運行內(nèi)存)則是通過某種電容(DRAM、SRAM或RRAM)儲存數(shù)據(jù)的,斷電之后數(shù)據(jù)馬上消失,但是數(shù)據(jù)吞吐速度及其迅速,這里不做深究。

  我們都知道現(xiàn)在蘋果已經(jīng)將自家的iPhone容量整體翻了一倍,從以前的16GB/64GB/128GB改為了32GB/128GB/256GB,所以即使今年的iPhone7銷售情況并不能比上去年的iPhone6s,但是對NAND閃存的需求量仍然上漲了接近一倍,再加上固態(tài)硬盤的價格持續(xù)走低,這種幾年前還是奢侈品的硬盤現(xiàn)在已經(jīng)走進尋常百姓家,需求量也大大增長,這一切都促使著NAND閃存產(chǎn)量需要大幅增加。再加上2D NAND的生產(chǎn)線很多都為最新的3D NAND閃存騰了出來,而3D NAND技術,就是最近幾年閃存容量飛速增長的最大助力。



  3D NAND技術工藝提出與普及

  傳統(tǒng)的2D-NAND如果想要在同樣的芯片體積上增加儲存容量,需要NAND cell單元制程越做越小,這樣才能在單位面積中塞入更多的存儲單元,可是物理這個東西總是有極限的,在20nm工藝之后,隨著單元體積的進一步縮小,會帶來越來越嚴重的電子干擾現(xiàn)象,這就使得儲存芯片的可靠性與讀寫性能反而會降低。

  在這種窘境下,3D NAND技術被提了出來,簡單來說就是將原來平面排列的NAND cell再加一個垂直方向上的堆疊,這種垂直方向的排列可以在微觀下數(shù)倍的增加可用體積,可是因為單個cell單元的體積極小,所以并不會在宏觀層面帶來體積增加。并且因為可用體積成倍增長,使用3D NAND堆疊的閃存可以用更加成熟的制程,所以三星、Intel等廠商生產(chǎn)的3D NAND閃存都是使用的30nm左右的制程,而不是20nm以下的制程,這也為3D NAND帶來了更加優(yōu)秀的可靠性。例如目前20nm工藝下的MLC閃存的擦寫次數(shù)普遍是3000次,而使用了3D NAND技術的三星的V-NAND閃存可達35000次。

  正是因為3D NAND技術的提出和普及,現(xiàn)在我們越來越多地看見在以前難以想象的1TB SD卡這樣的怪獸級儲存設備,而在相同的芯片體積下,手機的ROM和電腦的SSD等也有著越來越大的儲存容量??上У氖沁@項擁有光明前景的技術在國內(nèi)無人能夠掌握,三星和Intel等廠商已經(jīng)能夠制造36、48層甚至是64層的3D NAND堆疊,國內(nèi)前段時間也傳出中芯將在武漢花費160億美元建立DRAM和NAND工廠,可是就現(xiàn)在的情況來看,國內(nèi)廠商僅僅能夠生產(chǎn)出4層堆疊的3D NAND,和業(yè)界巨頭來比還相去甚遠。

  主流內(nèi)存標準規(guī)格:eMMC標準、UFC標準和NVMe標準

  除了容量,讀寫速度也是制約使用體驗的因素之一,想必所有人都嘗到過游戲、應用加載過慢的痛苦,但是隨著各家廠商提出新的標準規(guī)格,近年來小到不起眼的手機內(nèi)存也迎來了突飛猛進的發(fā)展?,F(xiàn)在的內(nèi)存標準規(guī)格可以分為3類,一是傳統(tǒng)的eMMC,再就是分別由三星和蘋果提出的UFC標準和NVMe標準。

  其實這些標準就是在NAND存儲芯片的基礎上,再加上了控制芯片,接入標準接口,進行標準封裝,形成一個高度集成的儲存模塊。有點像手機中的SoC,將所有需要的東西都塞到一個模塊中,方便手機制造商直接拿來裝在主板上,簡化了產(chǎn)品研發(fā)的流程。不過這三種標準更多的只是在接口和數(shù)據(jù)傳輸協(xié)議上的標準,在存儲介質(zhì)上,都是使用的NAND閃存。

  eMMC在之前一直都是業(yè)內(nèi)主流的內(nèi)存標準,通俗的來說,eMMC=NAND閃存 閃存控制芯片 標準接口封裝,UFS和NVMe也都是如此,不同之處在于閃存控制芯片和接口協(xié)議不一樣。eMMC從eMMC4.3一路發(fā)展到4.4、4.5直到現(xiàn)在的5.0,傳輸速度也從50MB/S一路狂飆到200MB/S直到現(xiàn)在eMMC5.0的400MB/S,再往后還有eMMC5.1高達600MB/S的傳輸速度。

  不過用三星的話來說,eMMC標準的潛力已經(jīng)被榨干了,UFS標準才是未來。eMMC在一段時間里只能夠讀取或者寫入一種狀態(tài),而UFS2.0支持同時讀寫數(shù)據(jù),并且在傳輸速度上可以達到780MB/S。在功耗方面,雖然在滿載工作時功耗比eMMC高,但是待機狀態(tài)下卻低得多?,F(xiàn)在使用了UFS2.0的手機已經(jīng)很多了,使用了高通驍龍821、820和三星Exynos 8890等處理器的手機都已經(jīng)支持UFS 2.0。

  不過蘋果一向在硬件上愛默默地堆料,使用了NVMe協(xié)議的iPhone6s和iPhone7讀寫速度都達到了三星S7的2倍以上,所以說iPhone的流暢不僅僅是系統(tǒng)的問題,在硬件上,蘋果可一直都是領先安卓陣營的。不過據(jù)說在隨機讀寫速度這一項上,UFS2.0的表現(xiàn)要優(yōu)于NVMe,這代表著在日常復雜的使用環(huán)境中,UFS是有優(yōu)勢的。并且據(jù)說三星即將推出UFS2.1標準,讀寫速度可以達到讓人咋舌的1.5GB/S。

  近期就有傳言稱華為將要發(fā)布的麒麟960處理器就將支持UFS2.1,而作為三星自家的標準,也有很有可能出現(xiàn)在三星的手機中,不知道最后誰能夠成為第一個在存儲速度上打敗iPhone的手機廠家。



關鍵詞: 內(nèi)存 3DNAND

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