新聞中心

EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 暗流涌動(dòng) 晶圓市場(chǎng)強(qiáng)者生存

暗流涌動(dòng) 晶圓市場(chǎng)強(qiáng)者生存

作者: 時(shí)間:2017-12-07 來(lái)源:OFweek電子工程網(wǎng) 收藏
編者按:目前晶圓代工市場(chǎng)三強(qiáng)分立,Intel、三星、臺(tái)積電都在積極備戰(zhàn)之中。而中國(guó)市場(chǎng)也是這些大佬的兵家必爭(zhēng)之地,擁有了中國(guó)市場(chǎng)便擁有了全世界。晶圓市場(chǎng)暗流涌動(dòng),鹿死誰(shuí)手猶未可知。

  目前市面上使用的芯片大多只是10nm制程,而在更小的制程中,已經(jīng)又掀起了一番腥風(fēng)血雨。由于制程不斷微縮,傳統(tǒng)的微影技術(shù)已經(jīng)達(dá)到極限,無(wú)法解決更精密的曝光顯像需求,只有改用保障更短的EUV(極紫外光刻),才能準(zhǔn)確刻錄電路圖。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/201712/372633.htm


暗流涌動(dòng) 晶圓市場(chǎng)強(qiáng)者生存


  而在下一代代工之中,7nm制程預(yù)計(jì)臺(tái)積電將會(huì)勝出。而在今年,被三星營(yíng)收上超越,被臺(tái)積電7nm制程蓋過(guò)風(fēng)頭以及關(guān)于摩爾定律失效的聲音甚囂塵上,這也讓原來(lái)的半導(dǎo)體制程霸主級(jí)存在Intel有些坐不住了。

  領(lǐng)域 激流勇進(jìn)

  就在今年9月19日,沉寂多時(shí)的Intel在北京開展了一場(chǎng)有關(guān)制程工藝以及代工的展示活動(dòng),試圖用數(shù)據(jù)向外界證明在半導(dǎo)體領(lǐng)域中,誰(shuí)才是真正的王者。甚至在嘉賓演講的PPT上,都出現(xiàn)了臺(tái)積電以及三星的名字,這在以前是非常罕見的,不過(guò)這也證明另外兩家企業(yè)已經(jīng)給了Intel足夠的威脅感。


暗流涌動(dòng) 晶圓市場(chǎng)強(qiáng)者生存


  隨著AI、大數(shù)據(jù)、IoT等應(yīng)用產(chǎn)品的爆發(fā)式發(fā)展,先進(jìn)工藝芯片的需求量也在增加,而現(xiàn)在全球市場(chǎng)能夠提供先進(jìn)制程的晶圓廠寥寥無(wú)幾,主要以Intel、三星、臺(tái)積電為代表,并且先進(jìn)工藝的代工利潤(rùn)率也是非??捎^的,所以這三位玩家顯然不會(huì)在這個(gè)領(lǐng)域中輕易退出。

  以主流先進(jìn)制程的競(jìng)爭(zhēng)來(lái)說(shuō),在2017年上半年,臺(tái)積電10nm就已經(jīng)開始放量增長(zhǎng),而在9月11日臺(tái)積電在官網(wǎng)宣布聯(lián)手ARM、Xilinx等公司發(fā)布全球首個(gè)基于7nm工藝的芯片,并將在2018年正式量產(chǎn)。并且據(jù)臺(tái)媒報(bào)道,臺(tái)積電的5nm將會(huì)在2019年進(jìn)行風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)階段。

  細(xì)微之處 各有所長(zhǎng)

  而在5nm以下的制程,EUV則是必備工具,三星在明年生產(chǎn)7nm時(shí),將會(huì)率先采用EUV,這也讓三星能夠提前適應(yīng)EUV,有望加快發(fā)展速度。相較之下,臺(tái)積電的第一代7nm制程將仍然采用傳統(tǒng)的浸潤(rùn)式微影技術(shù),第二代才會(huì)使用EUV。


暗流涌動(dòng) 晶圓市場(chǎng)強(qiáng)者生存


  三星電子也表示,除了在2017年進(jìn)行8nmLPP(Low Power Plus低功耗加強(qiáng)版)制程進(jìn)行風(fēng)險(xiǎn)試產(chǎn)外,還將在2018年推出7nm,同時(shí)三星也表示2019年將陸續(xù)推出5、6nm制程,而在2020年將投產(chǎn)4nm并導(dǎo)入環(huán)繞式閘級(jí)架構(gòu)。

  雖然目前臺(tái)積電由于率先進(jìn)行7nm的生產(chǎn)先人一步,但由于三星準(zhǔn)備提前使用EUV技術(shù),后續(xù)發(fā)展誰(shuí)將領(lǐng)先,猶未可知。與此同時(shí),AMD今年推出的Ryzen處理器更是使用了由格羅方德提供的的14nm LPP工藝。

  因此,如今Intel的處境已是群狼環(huán)飼,所有的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手都在奮力追趕。不過(guò)面對(duì)這樣的局面,Intel也在當(dāng)時(shí)大會(huì)上給出了PTT顯示,目前Intel的10nm制程依然遙遙領(lǐng)先于三星以及臺(tái)積電。

  以10nm制程為例,Intel產(chǎn)品的最小柵極間距從70nm縮小至54nm,且最小金屬間距從52nm縮小至36nm。尺寸的縮小使得邏輯晶體管密度可達(dá)到每平方毫米1.008億個(gè)晶體管,是之前Intel14nm制程的2.7倍,大約是業(yè)界其他10nm制程的2倍。

  據(jù)Intel方面透露,在2015年有7套EUV系統(tǒng),現(xiàn)在有14套,其中分別為8套NXE3300B系統(tǒng)和6套NXE3350B系統(tǒng)。不過(guò)Intel目前也表示,光刻膠暫時(shí)還不會(huì)引入EUV。

  手握利器 不懼挑戰(zhàn)

  不過(guò)在前段時(shí)間,Intel、臺(tái)積電和三星就購(gòu)買了ASML生產(chǎn)的多達(dá)27臺(tái)的3400B光刻機(jī),要知道ASML生產(chǎn)的EUV3400B光刻機(jī)單臺(tái)售價(jià)超過(guò)1億歐元,而這其中訂單最多的便是來(lái)自Intel,顯然Intel也沒有表面上那么淡定,對(duì)于這種新技術(shù)還是非常的看中。


暗流涌動(dòng) 晶圓市場(chǎng)強(qiáng)者生存

  EUV極紫外光刻機(jī)(圖源:AMSL)

  不過(guò)制程微縮除了需要有EUV之外,也需要開發(fā)FinFET(Fin Field-Effect Transistor鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管)技術(shù)接班人。電晶體運(yùn)作是靠閘級(jí)(gate)控制電流是否能夠通過(guò),不過(guò)晶片越做越小,電流通道寬度不斷變窄,將難以控制電流方向,未來(lái)FinFET恐怕不敷使用,因此目前許多人認(rèn)為GAAFET(Gate-all-around FET閘級(jí)全環(huán)場(chǎng)效電晶體)是最佳的解決方案。

  在今年稍早的時(shí)刻,三星、格芯和IBM聯(lián)手,共同發(fā)布了全球首發(fā)的5nm晶圓技術(shù),并采用EUV及GAAFET技術(shù)制作。三星預(yù)計(jì)FinFET在5nm之后將難以使用,4nm將會(huì)采用GAAFET。

  必爭(zhēng)之地——中國(guó)市場(chǎng)

  既然技術(shù)有了,那么自然也得要有相應(yīng)的買家。目前來(lái)看,中國(guó)市場(chǎng)已經(jīng)成為了各大芯片巨頭以及晶圓代工巨頭最為重視的市場(chǎng)。

  據(jù)外媒報(bào)道,世界高端晶圓代工市場(chǎng)規(guī)模不斷攀升,在2016年便達(dá)到了230億美元,其中來(lái)自中國(guó)的消費(fèi)占其中的58.5%,但是中國(guó)的晶圓廠只占全球的25%。因此,這也讓所有的廠商都看到了中國(guó)龐大市場(chǎng)的商機(jī)。

暗流涌動(dòng) 晶圓市場(chǎng)強(qiáng)者生存

  根據(jù)全球芯片設(shè)備行業(yè)協(xié)會(huì)的估算,今年中國(guó)在晶圓代工領(lǐng)域的整體支出將從2016年的35億美元增長(zhǎng)到2017年的54億美元,足足上漲了54%,到2018年時(shí),協(xié)會(huì)預(yù)計(jì)這一數(shù)字將會(huì)進(jìn)一步增長(zhǎng)至84億美元。

  這也讓Intel意識(shí)到,只有占據(jù)了中國(guó)市場(chǎng),才有可能在這場(chǎng)對(duì)決之中勝出,因此Intel也加快了在中國(guó)的投產(chǎn)速度。對(duì)于Intel而言,現(xiàn)在是一個(gè)關(guān)鍵的時(shí)間點(diǎn),Intel將通過(guò)代工業(yè)務(wù)加身與中國(guó)伙伴的合作,把基于14nm和22FFL的FinFET帶到中國(guó)市場(chǎng)。

  與Intel合作的國(guó)內(nèi)廠商,展訊算是其中一個(gè)。目前展訊的SC9861G-IA和SC9853I移動(dòng)AP均使用Intel的14nm低功耗平臺(tái)制造而成,這兩款移動(dòng)AP分別于2017年3月和8月推出,同時(shí)還使用了Intel Airmont CPU架構(gòu)。

  不過(guò)目前更多的客戶還是掌握在臺(tái)積電手中,包括高通、蘋果、華為海思、NVIDIA以及聯(lián)發(fā)科等。并且臺(tái)積電最近也透露除了工藝晶圓的動(dòng)向,臺(tái)積電創(chuàng)始人張忠謀表示臺(tái)積電將會(huì)在2020年建設(shè)2nm晶圓工廠,并且這個(gè)工廠將會(huì)設(shè)立在臺(tái)灣地區(qū)。

  按照此前的預(yù)計(jì),晶圓工廠的建設(shè)預(yù)計(jì)要花費(fèi)200億美元,有望拉動(dòng)臺(tái)南地區(qū)的經(jīng)濟(jì)發(fā)展,不過(guò)即便2020年開始建設(shè),最早投產(chǎn)恐怕也要等到2023年,也就是說(shuō)5年之內(nèi)我們恐怕很難見到臺(tái)積電的工藝處理器。

  小結(jié)

  總體來(lái)說(shuō),目前晶圓代工市場(chǎng)中已經(jīng)出現(xiàn)了三強(qiáng)分立的局面,Intel、三星、臺(tái)積電都在積極備戰(zhàn)之中,每個(gè)玩家都想要提前拿下更小的納米制程工藝,好占有更多的市場(chǎng)份額。而中國(guó)市場(chǎng)也是這些大佬的兵家必爭(zhēng)之地,擁有了中國(guó)市場(chǎng)便擁有了全世界。晶圓市場(chǎng)暗流涌動(dòng),鹿死誰(shuí)手猶未可知。



關(guān)鍵詞: 晶圓 3nm

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉