Intel加速7nm EUV工藝：2021年量產(chǎn) Xe架構(gòu)GPU首發(fā)

盡管2019年Intel已經(jīng)量產(chǎn)了10nm工藝，但是因?yàn)槎嗄暄悠冢瑢?dǎo)致10nm工藝進(jìn)度沒(méi)跟上，目前還處于產(chǎn)能爬坡階段，以致于Intel的處理器出現(xiàn)供應(yīng)短缺的問(wèn)題。為了徹底解決這些問(wèn)題，Intel還在努力推進(jìn)7nm工藝，最快2021年量產(chǎn)。

7nm是Intel下一代工藝的重要節(jié)點(diǎn)，而且是高性能工藝，其地位堪比現(xiàn)在的14nm工藝，而且它還是Intel首次使用EUV光刻的制程工藝，意義重大。

根據(jù)Intel之前公布的信息，其7nm EUV工藝相比10nm工藝晶體管密度翻倍，每瓦性能提升20%，設(shè)計(jì)復(fù)雜度降低了4倍。

7nm工藝的首款產(chǎn)品就是Xe架構(gòu)的GPU加速芯片，主要應(yīng)用于數(shù)據(jù)中心AI及高性能計(jì)算，最快2021年量產(chǎn)，也就是2年后7nm EUV就能擔(dān)大梁了。

目前Intel正在加速7nm EUV工藝的步伐，今年8月份就訂購(gòu)用于7nm EUV工藝節(jié)點(diǎn)的材料和設(shè)備，比預(yù)期速度更快。