在EUV光刻技術上，日本公司壟斷了光刻膠的供應

雖然將會有更多用于EUV光刻的光刻膠制造商。但是目前這個市場是日本公司壟斷的。

目前只有兩家芯片制造商掌握了使用EUV極紫外線輻射光刻的半導體光刻技術，但是毫無疑問，這就是光刻技術的未來。

與任何未來一樣，它為一些光刻材料市場開拓者提供了在新市場中建立自己的機會。尤其是目前由兩家日本公司生產使用EUV光刻機所使用的技術處理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士膠片公司。

富士膠片控股公司和住友化學將在2021年開始為下一代芯片提供光刻材料，這可能有助于減小智能手機和其他設備的芯片尺寸，并使它們更加節(jié)能。這款材料主要作為光致抗蝕劑的供應，這款光敏材料在硅晶體的蝕刻中起主要作用。

日本公司早已抓住了光刻膠的供應。例如，兩家日本公司JSR和信越化學，它們主要供應用于控制EUV光刻機的光刻膠，EUV光刻機占光刻機市場的90％。這種實際上的壟斷地位甚至使日本可以通過這種材料的供應來限制韓國，這個情況已經在一年前的芯片市場上發(fā)生過。幸運的是，一切都解決了。

因此富士和住友化學提供用于EUV光刻的光刻膠將進一步緩解這種情況，盡管它們也都是日本公司。

富士膠片正在投資45億日元（4260萬美元），在東京西南的靜岡縣裝備一家制造廠，明年開始批量生產光刻膠。根據(jù)公司代表的說法，其光致抗蝕劑會在硅上留下最少量的殘留材料，從而大大降低了芯片缺陷的可能性。

住友化學將在2022財年初完成大阪工廠的所有光刻膠產能（從設計到生產）。但是它作為193 nm掃描儀光刻膠的供應商已經和某家知名制造商提前簽署了未來產品的合同，可能是為臺積電供貨。

未來，用于3納米技術工藝的光致抗蝕劑生產問題將變得很重要，因為許多原因，現(xiàn)代光致抗蝕劑不適合使用。EUV技術需要使用獨特的光刻膠，并且工藝技術越小，這對光刻膠的要求就越高。