新聞中心

EEPW首頁 > 智能計(jì)算 > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 英偉達(dá)澄清:RTX 40 GPU 采用的臺(tái)積電 4N 為 5nm 工藝

英偉達(dá)澄清:RTX 40 GPU 采用的臺(tái)積電 4N 為 5nm 工藝

作者: 時(shí)間:2022-09-23 來源:IT之家 收藏

IT之家 9 月 23 日消息,據(jù)香港媒體 HKEPC 消息,由于大量媒體寫錯(cuò),英偉達(dá)今天澄清, 40 采用的臺(tái)積電 4N 為 5nm 工藝,而不是 4nm 工藝。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202209/438518.htm

據(jù)報(bào)道,英偉達(dá) 40  采用了基于 5nm 的 TSMC 4N 工藝,“4N”中的 N 應(yīng)該代表 Nvidia 定制。

目前,英偉達(dá)官方新聞稿以及各顯卡廠商的新聞稿基本采用了“TSMC 4N”的寫法,并沒有寫明具體是幾 nm 工藝。




關(guān)鍵詞: nvidia RTX GPU

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉