新聞中心

EEPW首頁 > 設(shè)計(jì)應(yīng)用 > 先進(jìn)封裝基本術(shù)語

先進(jìn)封裝基本術(shù)語

作者: 時(shí)間:2023-07-04 來源: 收藏

先進(jìn)是“超越摩爾”(More than Moore)時(shí)代的一大技術(shù)亮點(diǎn)。當(dāng)芯片在每個(gè)工藝節(jié)點(diǎn)上的微縮越來越困難、也越來越昂貴之際,工程師們將多個(gè)芯片放入先進(jìn)的中,就不必再費(fèi)力縮小芯片了。本文將對(duì)先進(jìn)技術(shù)中最常見的10個(gè)進(jìn)行簡(jiǎn)單介紹。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202307/448281.htm

2.5D封裝

2.5D封裝是傳統(tǒng)2D IC封裝技術(shù)的進(jìn)展,可實(shí)現(xiàn)更精細(xì)的線路與空間利用。在2.5D封裝中,裸晶堆?;虿⑴欧胖迷诰哂泄柰?TSV)的中介層(interposer)頂部。其底座,即中介層,可提供芯片之間的連接性。

2.5D封裝通常用于高端ASIC、FPGA、GPU和內(nèi)存立方體。2008年,賽靈思(Xilinx)將其大型FPGA劃分為四個(gè)良率更高的較小芯片,并將這些芯片連接到硅中介層。2.5D封裝由此誕生,并最終廣泛用于高帶寬內(nèi)存(HBM)處理器整合。

圖片

▲2.5D封裝示意圖

3D封裝

在3D IC封裝中,邏輯裸晶堆棧在一起或與儲(chǔ)存裸晶堆棧在一起,無需建構(gòu)大型的系統(tǒng)單芯片(SoC)。裸晶之間透過主動(dòng)中介層連接,2.5D IC封裝是利用導(dǎo)電凸塊或TSV將組件堆棧在中介層上,3D IC封裝則將多層硅晶圓與采用TSV的組件連接在一起。

TSV技術(shù)是2.5D和3D IC封裝中的關(guān)鍵使能技術(shù),半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一直使用HBM技術(shù)生產(chǎn)3D IC封裝的DRAM芯片。

圖片

▲從3D封裝的截面圖可以看出,透過金屬銅TSV實(shí)現(xiàn)了硅芯片之間的垂直互連

Chiplet

芯片庫中有一系列模塊化芯片可以采用裸晶到裸晶互連技術(shù)整合到封裝中。Chiplet是3D IC封裝的另一種形式,可以實(shí)現(xiàn)CMOS組件與非CMOS組件的異質(zhì)整合(Heterogeneous integration)。換句話說,它們是較小型的SoC,也叫做chiplet,而不是封裝中的大型SoC。

將大型SoC分解為較小的小芯片,與單顆裸晶相比具有更高的良率和更低的成本。Chiplet使設(shè)計(jì)人員可以充分利用各種IP,而不用考慮采用何種工藝節(jié)點(diǎn),以及采用何種技術(shù)制造。他們可以采用多種材料,包括硅、玻璃和層壓板來制造芯片。

圖片

▲基于Chiplet的系統(tǒng)是由中介層上的多個(gè)Chiplet組成

扇出(Fan Out)封裝

在扇出封裝中,“連結(jié)”(connection)被扇出芯片表面,從而提供更多的外部I/O。它使用環(huán)氧樹脂成型材料(EMC)完全嵌入裸晶,不需要諸如晶圓凸塊、上助焊劑、倒裝芯片、清潔、底部噴灑充膠和固化等工藝流程,因此也無需中介層,使異質(zhì)整合變得更加簡(jiǎn)單。

與其他封裝類型相比,扇出技術(shù)提供了具有更多I/O的小尺寸封裝。2016年,它使Apple能夠使用臺(tái)積電的封裝技術(shù)將其16nm應(yīng)用處理器與移動(dòng)DRAM集成到 iPhone 7的一個(gè)封裝中,從而成為技術(shù)明星。

圖片

▲扇出封裝

扇出晶圓級(jí)封裝(FOWLP)

FOWLP技術(shù)是針對(duì)晶圓級(jí)封裝(WLP)的改進(jìn),可以為硅芯片提供更多外部連接。它將芯片嵌入環(huán)氧樹脂成型材料中,然后在晶圓表面建構(gòu)高密度重分布層(RDL)并施加焊錫球,形成重構(gòu)晶圓(reconstituted wafer)。

它通常先將經(jīng)過處理的晶圓切成單顆裸晶,然后將裸晶分散放置在載體結(jié)構(gòu)(carrier structure)上,并填充間隙以形成重構(gòu)晶圓。FOWLP在封裝和應(yīng)用電路板之間提供了大量連接,而且由于基板比裸晶要大,裸晶的間距實(shí)際上更寬松。

圖片

▲FOWLP封裝示例

異質(zhì)整合

將分開制造的不同組件整合到更高級(jí)別的組件中,可以增強(qiáng)功能并改進(jìn)工作特性,因此半導(dǎo)體組件制造商能夠?qū)⒉捎貌煌に嚵鞒痰墓δ芙M件組合到一個(gè)組件中。

異質(zhì)整合類似于系統(tǒng)級(jí)封裝(SiP),但它并不是將多顆裸晶整合在單個(gè)基板上,而是將多個(gè)IP以Chiplet的形式整合在單個(gè)基板上。異質(zhì)整合的基本思想是將多個(gè)具有不同功能的組件組合在同一個(gè)封裝中。

圖片

▲異質(zhì)整合中的一些技術(shù)建構(gòu)區(qū)塊

HBM

HBM是一種標(biāo)準(zhǔn)化的堆棧儲(chǔ)存技術(shù),可為堆棧內(nèi)部,以及內(nèi)存與邏輯組件之間的數(shù)據(jù)提供高帶寬信道。HBM封裝將內(nèi)存裸晶堆棧起來,并透過TSV將它們連接在一起,從而創(chuàng)建更多的I/O和帶寬。

HBM是一種JEDEC標(biāo)準(zhǔn),它在封裝內(nèi)垂直整合了多層DRAM組件,封裝內(nèi)還有應(yīng)用處理器、GPU和SoC。HBM主要以2.5D封裝的形式實(shí)現(xiàn),用于高端服務(wù)器和網(wǎng)絡(luò)芯片?,F(xiàn)在發(fā)布的HBM2版本解決了初始HBM版本中的容量和時(shí)鐘速率限制問題。

圖片

▲HBM封裝

中介層

中介層是封裝中多芯片裸晶或電路板傳遞電信號(hào)的管道,是插口或接頭之間的電接口,可以將信號(hào)傳播更遠(yuǎn),也可以連接到板子上的其他插口。

中介層可以由硅和有機(jī)材料制成,充當(dāng)多顆裸晶和電路板之間的橋梁。硅中介層是一種經(jīng)過驗(yàn)證的技術(shù),具有較高的細(xì)間距I/O密度和TSV形成能力,在2.5D和3D IC芯片封裝中扮演著關(guān)鍵角色。

圖片

▲系統(tǒng)分區(qū)中介層的典型實(shí)現(xiàn)

重分布層

重分布層包含銅連接線或走線,用于實(shí)現(xiàn)封裝各個(gè)部分之間的電氣連接。它是金屬或高分子介電材料層,裸晶可以堆棧在封裝中,從而縮小大芯片組的I/O間距。重分布層已成為2.5D和3D封裝解決方案中不可或缺的一部分,使其上的芯片可以利用中介層相互進(jìn)行通訊。

圖片

▲使用重分布層的整合封裝

TSV

TSV是2.5D和3D封裝解決方案的關(guān)鍵實(shí)現(xiàn)技術(shù),是在晶圓中填充銅,提供貫通硅晶圓裸晶的垂直互連。它貫穿整個(gè)芯片以提供電氣連接,形成從芯片一側(cè)到另一側(cè)的最短路徑。

從晶圓的正面將通孔或孔洞蝕刻到一定深度,然后將其絕緣,并沉積導(dǎo)電材料(通常為銅)進(jìn)行填充。芯片制造完成后,從晶圓的背面將其減薄,以暴露通孔和沉積在晶圓背面的金屬,從而完成TSV互連。

圖片

▲在TSV封裝中,DRAM芯片接地、穿透并與電極相連



關(guān)鍵詞: 封裝 術(shù)語

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉