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國產(chǎn)光刻膠通過量產(chǎn)驗證

作者: 時間:2024-10-16 來源:SEMI 收藏

據(jù)中國光谷官微消息,近日,武漢科技有限公司(以下簡稱“太紫微公司”)推出的T150 A產(chǎn)品,已通過半導體工藝量產(chǎn)驗證,實現(xiàn)配方全自主設(shè)計,有望開創(chuàng)國內(nèi)半導體光刻制造新局面。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/202410/463684.htm

據(jù)悉,該產(chǎn)品對標國際頭部企業(yè)主流KrF系列。相較于被業(yè)內(nèi)稱之為“妖膠”的國外同系列產(chǎn)品UV1610,T150 A在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達到120nm,且工藝寬容度更大,穩(wěn)定性更高,堅膜后烘留膜率優(yōu)秀,其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好,通過驗證發(fā)現(xiàn)T150 A中密集圖形經(jīng)過刻蝕,下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。

據(jù)了解,太紫微公司成立于2024年5月,由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創(chuàng)立,立足于關(guān)鍵底層技術(shù)研發(fā)。太紫微公司致力于半導體專用高端電子化學品材料的開發(fā),并以新技術(shù)路線為半導體制造開辟新型先進光刻制造技術(shù),同時為材料的分析與驗證提供最全面的手段。



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