臺(tái)積電暫不能在海外生產(chǎn)2nm芯片，以確保先進(jìn)半導(dǎo)體工藝技術(shù)留在當(dāng)?shù)?/h1>
前一段時(shí)間，臺(tái)積電（TSMC）董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官魏哲家表示，客戶對(duì)于2nm的詢問(wèn)多于3nm，看起來(lái)更受客戶的歡迎，未來(lái)五年內(nèi)臺(tái)積電有望實(shí)現(xiàn)連續(xù)、健康的增長(zhǎng)。目前看來(lái)，2nm不但能復(fù)制3nm的成功，甚至有超越的勢(shì)頭，為此臺(tái)積電加快了2nm產(chǎn)線的建設(shè)，并進(jìn)一步擴(kuò)大了產(chǎn)能規(guī)劃。由于臺(tái)積電在海外還有新修晶圓廠的計(jì)劃，
本文引用地址：http://m.butianyuan.cn/article/202411/464490.htm據(jù)相關(guān)媒體報(bào)道，中國(guó)臺(tái)灣當(dāng)?shù)氐闹鞴懿块T表示，雖然臺(tái)積電在美國(guó)、歐洲和日本都在建造先進(jìn)工藝的晶圓廠，但是最先進(jìn)的半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)不能轉(zhuǎn)移到海外的生產(chǎn)設(shè)施，這受到當(dāng)?shù)胤傻谋Ｗo(hù)，核心技術(shù)不能外移，現(xiàn)階段無(wú)法在海外生產(chǎn)2nm芯片。
按照臺(tái)積電的安排，海外的生產(chǎn)設(shè)施想要生產(chǎn)2nm芯片還要等上好幾年，不過(guò)這種態(tài)度傳遞的另外一個(gè)更為明確的信息，即確保中國(guó)臺(tái)灣仍然是世界領(lǐng)先芯片設(shè)計(jì)公司的關(guān)鍵業(yè)務(wù)中心，所需要的領(lǐng)先工藝技術(shù)都會(huì)留在當(dāng)?shù)亍?/p>
目前臺(tái)積電在美國(guó)亞利桑那州鳳凰城的Fab
21晶圓廠首期工程正在推進(jìn)當(dāng)中，計(jì)劃采用5nm制程節(jié)點(diǎn)，包括N4/N4P/N4X和N5/N5P/N5X工藝，預(yù)計(jì)2025年開(kāi)始進(jìn)行大批量生產(chǎn)。臺(tái)積電還打算建造二期工程，可能會(huì)引入N3工藝，也有可能支持N2工藝，同一時(shí)間位于中國(guó)臺(tái)灣的晶圓廠將采用A16/14及更先進(jìn)的工藝。
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前一段時(shí)間，臺(tái)積電（TSMC）董事長(zhǎng)兼首席執(zhí)行官魏哲家表示，客戶對(duì)于2nm的詢問(wèn)多于3nm，看起來(lái)更受客戶的歡迎，未來(lái)五年內(nèi)臺(tái)積電有望實(shí)現(xiàn)連續(xù)、健康的增長(zhǎng)。目前看來(lái)，2nm不但能復(fù)制3nm的成功，甚至有超越的勢(shì)頭，為此臺(tái)積電加快了2nm產(chǎn)線的建設(shè)，并進(jìn)一步擴(kuò)大了產(chǎn)能規(guī)劃。由于臺(tái)積電在海外還有新修晶圓廠的計(jì)劃，
本文引用地址：http://m.butianyuan.cn/article/202411/464490.htm據(jù)相關(guān)媒體報(bào)道，中國(guó)臺(tái)灣當(dāng)?shù)氐闹鞴懿块T表示，雖然臺(tái)積電在美國(guó)、歐洲和日本都在建造先進(jìn)工藝的晶圓廠，但是最先進(jìn)的半導(dǎo)體生產(chǎn)技術(shù)不能轉(zhuǎn)移到海外的生產(chǎn)設(shè)施，這受到當(dāng)?shù)胤傻谋Ｗo(hù)，核心技術(shù)不能外移，現(xiàn)階段無(wú)法在海外生產(chǎn)2nm芯片。
按照臺(tái)積電的安排，海外的生產(chǎn)設(shè)施想要生產(chǎn)2nm芯片還要等上好幾年，不過(guò)這種態(tài)度傳遞的另外一個(gè)更為明確的信息，即確保中國(guó)臺(tái)灣仍然是世界領(lǐng)先芯片設(shè)計(jì)公司的關(guān)鍵業(yè)務(wù)中心，所需要的領(lǐng)先工藝技術(shù)都會(huì)留在當(dāng)?shù)亍?/p>
目前臺(tái)積電在美國(guó)亞利桑那州鳳凰城的Fab 21晶圓廠首期工程正在推進(jìn)當(dāng)中，計(jì)劃采用5nm制程節(jié)點(diǎn)，包括N4/N4P/N4X和N5/N5P/N5X工藝，預(yù)計(jì)2025年開(kāi)始進(jìn)行大批量生產(chǎn)。臺(tái)積電還打算建造二期工程，可能會(huì)引入N3工藝，也有可能支持N2工藝，同一時(shí)間位于中國(guó)臺(tái)灣的晶圓廠將采用A16/14及更先進(jìn)的工藝。
評(píng)論