新聞中心

EEPW首頁 > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 搶蘋果A9 臺(tái)積電推16nm FinFET+

搶蘋果A9 臺(tái)積電推16nm FinFET+

作者: 時(shí)間:2014-04-03 來源:驅(qū)動(dòng)之家 收藏

  據(jù)業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電(TSMC )可能改進(jìn)16nm代工業(yè)務(wù),增加兩個(gè)更先進(jìn)的工藝,從而與英特爾和三星電子的14nm代工業(yè)務(wù)競(jìng)爭(zhēng)。根據(jù)臺(tái)積電原本路線圖,16nm FinFET工藝有望在2014年底試生產(chǎn),但是,現(xiàn)在臺(tái)積電決定在年底推出16nm FinFET +工藝,并且在2015年至2016年推出更先進(jìn)的16nm FinFET工藝。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/235873.htm

  消息人士表示,臺(tái)積電16FinFET +工藝預(yù)計(jì)將在2015年初進(jìn)入批量生產(chǎn),并可能有助于臺(tái)積電贏得A9處理器訂單。

  根據(jù)摩根大通證券表示,因?yàn)樾酒娣e縮減,某些無晶圓廠的移動(dòng)客戶可直接采用16nm FinFET +工藝取代之前的20nm工藝。

  消息人士指出,臺(tái)積電更先進(jìn)的16nm工藝被暫時(shí)命名為16nm FinFET Turbo。

搶蘋果A9 臺(tái)積電推16nm FinFET+

光耦相關(guān)文章:光耦原理


萬用表相關(guān)文章:萬用表怎么用


dc相關(guān)文章:dc是什么


脈寬調(diào)制相關(guān)文章:脈寬調(diào)制原理


關(guān)鍵詞: 蘋果 A9

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉