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3D NAND堆疊競(jìng)爭(zhēng)鳴槍 SK海力士、東芝苦追三星

作者: 時(shí)間:2015-03-10 來源:Digitimes 收藏

  為提升 Flash性能而將Cell垂直堆疊的3D堆疊技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)逐漸升溫。目前電子(Samsung Electronics)已具備生產(chǎn)系統(tǒng)獨(dú)大市場(chǎng),SK海力士(SK Hynix)、東芝(Toshiba)、美光(Micron)等半導(dǎo)體大廠也正加速展開相關(guān)技術(shù)研發(fā)和生產(chǎn)作業(yè)。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/270744.htm

  據(jù)ET News報(bào)導(dǎo), Flash的2D平面微細(xì)制程,因Cell間易發(fā)生訊號(hào)干擾現(xiàn)象等問題,已進(jìn)入瓶頸。主要半導(dǎo)體大廠轉(zhuǎn)而致力確保將Cell垂直堆疊的3D技術(shù)。半導(dǎo)體業(yè)界的技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)焦點(diǎn)從制程微細(xì)化,轉(zhuǎn)變?yōu)榇怪倍询B能力。

  在3D 的發(fā)展方面,目前暫時(shí)領(lǐng)先。2014年完成32層Cell堆疊并投入量產(chǎn),2015年下半將生產(chǎn)48層堆疊產(chǎn)品。同時(shí),三星也計(jì)劃在2016年上半投入64層堆疊產(chǎn)品量產(chǎn)。三星的技術(shù)發(fā)展較其他競(jìng)爭(zhēng)業(yè)者更快,在3D領(lǐng)域確保獨(dú)步全球的技術(shù)競(jìng)爭(zhēng)力。

  三星利用大陸西安工廠生產(chǎn)3D NAND,未來大容量固態(tài)硬碟(SSD)也將大部分以3D NAND制造。南韓業(yè)界認(rèn)為,三星的3D NAND比重將從2015年的15%,在2016年提升到35%水準(zhǔn)。

  SK海力士2014年研發(fā)出24層堆疊的NAND Flash,并對(duì)部分客戶提供樣品,目前正在研發(fā)36、40層堆疊的產(chǎn)品。2015年將完成實(shí)驗(yàn)產(chǎn)線生產(chǎn)及生產(chǎn)性驗(yàn)證,并于2016年初選定主力產(chǎn)品投入量產(chǎn)。

  東芝和美光最快將在2015年底投入量產(chǎn)。兩大廠都已確保24層堆疊技術(shù)。2015年底或2016年初實(shí)際生產(chǎn)的產(chǎn)品,堆疊層數(shù)預(yù)估會(huì)是30~40層。3D NAND的核心競(jìng)爭(zhēng)力在于面積相同Cell的堆疊層數(shù)。因在裝置上占的面積最小化,并確保更大的儲(chǔ)存容量。

  即使采用同樣的制程技術(shù),3D堆疊的芯片較2D在理論上寫入速度快2倍、寫入次數(shù)最大可提升到10倍,集成度也可提升2倍以上,而耗電量則減少一半耐用度也較2D產(chǎn)品優(yōu)越。

  南韓業(yè)者表示,目前尚未知存儲(chǔ)器芯片堆疊技術(shù)的瓶頸,未來也有可能出現(xiàn)堆疊100層以上的設(shè)計(jì)。惟3D制程在蝕刻和蒸鍍的難易度較高,確保尖端設(shè)備變得非常重要。



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