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Intel代工廠利用Calibre PERC實(shí)現(xiàn)可靠性檢查

作者: 時(shí)間:2015-07-09 來源:eettaiwan 收藏

  Graphics公司宣布,英特爾()晶圓代工廠擴(kuò)展其14奈米產(chǎn)品服務(wù)給客戶,包含利用Calibre PERC平臺(tái)進(jìn)行可靠性驗(yàn)證。Graphics聯(lián)合開發(fā)有助于提升IC可靠性的首套電氣規(guī)則檢查方案,未來還將繼續(xù)合作開發(fā),為 14奈米制程的客戶提供更多的檢查類型。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/276993.htm

  Intel晶圓代工廠代工設(shè)計(jì)套件實(shí)現(xiàn)部門資深處長Venkat Immaneni表示:“透過與 合作開發(fā)可靠性檢查完整套件,有助于確保雙方客戶針對Intel 14奈米平臺(tái)做出的設(shè)計(jì)在可靠性、品質(zhì)以及穩(wěn)健性方面達(dá)到最高要求,該14奈米平臺(tái)包含量產(chǎn)的第二代三閘電晶體。我們很高興Intel晶圓代工廠在Mentor Graphics Calibre驗(yàn)證平臺(tái)增加了更多的解決方案,這些方案包括可靠性驗(yàn)證的關(guān)鍵檢查。”

  Intel晶圓代工廠將為客戶提供Calibre PERC規(guī)則執(zhí)行檔來執(zhí)行電路可靠性檢查,這些檢查解決了客戶在先進(jìn)電路驗(yàn)證上的需求,包括靜電放電(ESD)、電應(yīng)力超載(EOS)、跨電源區(qū)訊號(hào)檢查以及其他的可靠性檢查。Calibre PERC 將實(shí)體布局與設(shè)計(jì)網(wǎng)表(定義元件以及連接關(guān)系)相結(jié)合,使自動(dòng)化完成復(fù)雜的可靠性檢查變成可能。

  此項(xiàng)認(rèn)證計(jì)畫是Intel晶圓代工廠和Mentor Graphics過去一年在14奈米上開發(fā)合作的進(jìn)一步延伸。合作成果包括執(zhí)行速度顯著提升、Calibre nmDRC和Calibre nmLVS的記憶體要求下降,以及對Analog FastSPICE(AFS)Platform支援Intel晶圓代工廠元件模型和設(shè)計(jì)套件的優(yōu)化和認(rèn)證。

  Mentor Graphics公司Design-to-Silicon事業(yè)部副總裁兼總經(jīng)理Joseph Sawicki表示,“除了在Intel晶圓代工廠14奈米上提供Calibre PERC的可靠性檢查,我們還將繼續(xù)積極合作,在更先進(jìn)的制程上提供相應(yīng)的檢查功能。”

  Intel晶圓代工廠客戶在14奈米平臺(tái)上已可開始使用Calibre PERC做可靠性檢查。



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