新聞中心

EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 臺(tái)積電呼吁開(kāi)放工藝以抗衡英特爾

臺(tái)積電呼吁開(kāi)放工藝以抗衡英特爾

——
作者: 時(shí)間:2007-03-23 來(lái)源: 收藏

  據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道,針對(duì)英特爾公司在中國(guó)的芯片工廠獲得批準(zhǔn)的傳言,全球第一大芯片代工巨頭公司的董事長(zhǎng)張忠謀日前對(duì)媒體表示,臺(tái)灣地區(qū)行政機(jī)構(gòu)應(yīng)該加速對(duì)大陸地區(qū)開(kāi)放半導(dǎo)體先進(jìn),否則臺(tái)灣廠商在內(nèi)地將處于落后境地。

  去年年底,臺(tái)灣行政機(jī)構(gòu)剛剛批準(zhǔn)了島內(nèi)半導(dǎo)體企業(yè)向大陸地區(qū)輸出0.18微米線寬的8英寸芯片生產(chǎn)。

  英特爾公司目前沒(méi)有對(duì)在中國(guó)的芯片工廠進(jìn)行證實(shí),根據(jù)傳言,這座芯片廠將采用90納米,位于中國(guó)北方的大連。90納米工藝已經(jīng)比臺(tái)灣廠商獲準(zhǔn)在大陸使用的180納米工藝(即0.18微米)先進(jìn)不少。

  另?yè)?jù)消息人士透露,英特爾公司可能會(huì)在中國(guó)使用比目前最先進(jìn)工藝落后一到二代的技術(shù)。張忠謀分析說(shuō),目前最先進(jìn)的工藝是45納米,再過(guò)兩年將過(guò)渡到32納米。如果消息屬實(shí),英特爾公司可能在中國(guó)使用65納米工藝。

  張忠謀說(shuō),目前臺(tái)灣廠商只能在大陸使用0.18微米的工藝,從技術(shù)上來(lái)說(shuō),包括在內(nèi)的半導(dǎo)體公司在大陸的競(jìng)爭(zhēng)中將處于不利地位。因此臺(tái)灣行政機(jī)構(gòu)應(yīng)該加速向大陸開(kāi)放先進(jìn)工藝。

  據(jù)悉,過(guò)去提交在大陸上海松江工廠使用0.18微米工藝的申請(qǐng)目前尚未正式獲得批準(zhǔn)。

  值得一提的是,大陸最先進(jìn)的半導(dǎo)體廠商中芯國(guó)際公司已經(jīng)披露,目前已經(jīng)可以使用90納米工藝,在今年將會(huì)啟用65納米工藝生產(chǎn)芯片。

  張忠謀也表示,英特爾在中國(guó)使用90納米或者65納米工藝不會(huì)一帆風(fēng)順,英特爾肯定需要向美國(guó)技術(shù)出口監(jiān)管部門(mén)提交申請(qǐng)。



關(guān)鍵詞: 工藝 臺(tái)積電

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉