新聞中心

EEPW首頁(yè) > EDA/PCB > 業(yè)界動(dòng)態(tài) > 臺(tái)積電要求開放0.18μm制程 將赴中國(guó)投資

臺(tái)積電要求開放0.18μm制程 將赴中國(guó)投資

——
作者: 時(shí)間:2005-05-30 來(lái)源: 收藏
    再度呼吁政府盡快開放0.18微米制作工藝赴中國(guó)投資。稱,因當(dāng)?shù)乜蛻舢a(chǎn)品已進(jìn)入0.18微米,但倘若沒(méi)有提供服務(wù),在中國(guó)市場(chǎng)將會(huì)居于劣勢(shì)。

  這是臺(tái)積電首次明確表示中國(guó)客戶已具備在0.18微米的制作工藝。臺(tái)積電總經(jīng)理蔡力行表示,0.18微米制作工藝的松江廠戰(zhàn)略位置絕對(duì)重要,因?yàn)榭蛻粝Ma(chǎn)品能在中國(guó)工廠生產(chǎn),而不是要靠海外的產(chǎn)能支援。而且0.18微米制程已是成熟的技術(shù),實(shí)在不需要再受到限制。

  蔡力行還表示,臺(tái)積電在中國(guó)設(shè)廠是為了爭(zhēng)取當(dāng)?shù)乜蛻?,是著眼未?lái)五至十年的中長(zhǎng)期需求,公司當(dāng)然有能力將松江廠的產(chǎn)能填滿,但也不會(huì)盲目地?cái)U(kuò)充產(chǎn)能。上海松江廠是臺(tái)積電在中國(guó)的第一座八寸廠,第一期總投資達(dá)8.98億美元,月產(chǎn)能可達(dá)3.5萬(wàn)片。


關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 IC 制造制程

評(píng)論


相關(guān)推薦

技術(shù)專區(qū)

關(guān)閉