ASML的上半年訂單落空 預(yù)期下半年有望回復(fù)
按全球第一大光刻設(shè)備供應(yīng)商ASML公司的預(yù)估,其Q1的銷(xiāo)售額將從08年Q4的4.94億歐元下降到1.84億歐元,而去年同期為9.19億歐元,下降達(dá)80%。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/93634.htmASML預(yù)計(jì)Q2的銷(xiāo)售額在2.1-2.3億歐元間,因?yàn)槭芄に囍瞥痰倪M(jìn)一步縮小推動(dòng),產(chǎn)業(yè)可能會(huì)在今年下半年開(kāi)始復(fù)蘇,訂單回歸到4.0-5.0億歐元。新的工藝制程會(huì)要求購(gòu)買(mǎi)新的或者升級(jí)現(xiàn)有的設(shè)備。
如08年僅只有各領(lǐng)域的領(lǐng)先者在購(gòu)買(mǎi)設(shè)備,主要集中在如閃存flash的45nm、DRAM的55nm及代工的45nm客戶(hù)。預(yù)計(jì)2009年會(huì)加速工藝制程的進(jìn)步,如flash進(jìn)入35nm及DRAM進(jìn)入45nm。
Q1之所以銷(xiāo)售額低是因?yàn)閮H只有7臺(tái)新設(shè)備發(fā)貨,其中1臺(tái)為浸液式設(shè)備(說(shuō)明還有部分二手設(shè)備發(fā)貨)。在Q1中新光刻設(shè)備每臺(tái)的平均售價(jià),ASP為1380萬(wàn)歐元,但浸液式光刻設(shè)備高達(dá)2500-3000萬(wàn)歐元。
而Q1的訂單中,ASP為2580萬(wàn)歐元,包括7臺(tái)是浸液式設(shè)備。如果加上backlog公司共計(jì)有38臺(tái)設(shè)備的訂單,其中25臺(tái)為浸液式,由此也表示未來(lái)的訂單中浸液式光刻設(shè)備的數(shù)量逐漸增多。
ASML還有5臺(tái)EUV訂單,但是要2010年之后才能發(fā)貨。由于公司backlog僅限于未來(lái)12個(gè)月內(nèi)發(fā)貨計(jì),所以目前EUV的訂單都未計(jì)在backlog中。
在今年的SPIE先進(jìn)光刻會(huì)議上報(bào)道利用EUV的技術(shù)己實(shí)現(xiàn)全視場(chǎng)的28nm線(xiàn)及間隔(dence lines)。
雖然如此,ASML公司仍有在2010年時(shí)發(fā)出5臺(tái)EUV設(shè)備的計(jì)劃。
ASML對(duì)于全球EUV設(shè)備約50億歐元的大市場(chǎng)中,預(yù)計(jì)能占據(jù)市場(chǎng)份額70%。但是現(xiàn)在公司更直接的市場(chǎng)是光刻兩次成象技術(shù)(double patterning)設(shè)備。
公司計(jì)劃于今年7月初發(fā)貨第一臺(tái)Twinscan NXT設(shè)備,它可以實(shí)現(xiàn)2nm的套刻精度。ASML公司希望全球能有100%的市場(chǎng)份額。因?yàn)樵摷夹g(shù)可能延伸現(xiàn)有的光刻技術(shù)應(yīng)用于22nm的Logic電路、35nm的閃存電路及40nm的DRAM之中。
由此可見(jiàn),利用現(xiàn)有光學(xué)方法的光刻技術(shù)完全能滿(mǎn)足2010年后一段時(shí)間內(nèi)全球光刻市場(chǎng)的需求。
評(píng)論