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美國禁令加碼 ASML將不再維修中國大陸DUV

  • 美國持續(xù)加碼對中國大陸芯片禁令，美國財(cái)經(jīng)媒體引述知情人士說法指出，荷蘭政府將禁止ASML（阿斯麥爾）為其在大陸的特定DUV提供維修服務(wù)，不只沖擊ASML在大陸的營收表現(xiàn)，更將打擊大陸芯片業(yè)發(fā)展，中芯明年恐怕無法替華為生產(chǎn)7納米與5納米芯片。
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臺積電不用當(dāng)盤子了？日本開發(fā)出更便宜EUV 撼動芯片業(yè)

  • 荷商艾司摩爾（ASML）是半導(dǎo)體設(shè)備巨頭，臺積電等龍頭公司制造先進(jìn)芯片，都需采用ASML制造商生產(chǎn)的昂貴極紫外光曝光機(jī)（EUV），根據(jù)《Tom's Hardware》報(bào)導(dǎo)，日本科學(xué)家已開發(fā)出簡化的EUV掃描儀，可以大幅降低芯片的生產(chǎn)成本。報(bào)導(dǎo)指出，沖繩科學(xué)技術(shù)學(xué)院（OIST）Tsumoru Shintake教授提出一種全新、大幅簡化的EUV曝光機(jī)，相比ASML開發(fā)和制造的工具更便宜，如果該種設(shè)備大規(guī)模量產(chǎn)，可能重塑芯片制造設(shè)備產(chǎn)業(yè)的現(xiàn)況。值得關(guān)注的是，新系統(tǒng)在光學(xué)投影設(shè)定中只使用兩面鏡子，與傳統(tǒng)的
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ASML第二臺High-NA設(shè)備，即將導(dǎo)入英特爾奧勒岡廠

  • 英特爾正接收ASML第二臺耗資3.5億歐元（約3.83億美元）的新High NA EUV設(shè)備。根據(jù)英特爾8/1財(cái)報(bào)電話會議紀(jì)錄，CEO Pat Gelsinger表示，英特爾12月開始接收第一臺大型設(shè)備，安裝時(shí)間需要數(shù)月，預(yù)計(jì)可帶來新一代更強(qiáng)大的電腦英文。Gelsinger在電話中指出，第二臺High NA設(shè)備即將進(jìn)入在奧勒岡州的廠房。由于英特爾財(cái)報(bào)會議后股價(jià)表現(xiàn)不佳，因此這番話并未引起注意。ASML高階主管7月曾表示，該公司已開始出貨第二臺High NA設(shè)備給一位未具名客戶，今年只記錄第一臺的收入。不過
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臺積電：仍在評估 High NA EUV 光刻機(jī)，采用時(shí)間未定

  • IT之家 7 月 30 日消息，《電子時(shí)報(bào)》昨日報(bào)道稱，臺積電最快在 2028 年推出的 A14P 制程中引入 High NA EUV 光刻技術(shù)。對此，臺積電海外營運(yùn)資深副總經(jīng)理暨副共同營運(yùn)長張曉強(qiáng)表示，仍在評估 High NA EUV 應(yīng)用于未來制程節(jié)點(diǎn)的成本效益與可擴(kuò)展性，目前采用時(shí)間未定。▲ ASML EXE:5000 High NA EUV 光刻機(jī)，圖源：ASML上個月，ASML 透露將在 2024 年內(nèi)向臺積電交付首臺 High NA EUV 光刻機(jī)，價(jià)值達(dá) 3.8
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中國大陸仍是ASML光刻機(jī)最大買家 占全球總銷售額49％

  • 全球光刻機(jī)大廠ASML近日發(fā)布2024年第2季度財(cái)報(bào)，實(shí)現(xiàn)凈銷售額62.4億歐元，同比下滑約7.6%，同比增長約18%，居于官方預(yù)測中間值。雖然半導(dǎo)體設(shè)備出口限制規(guī)定生效造成影響，但中國大陸需求持續(xù)旺盛，依然是ASML的第一大銷售市場，市占比依然高達(dá)49%，主要項(xiàng)目仍在未受限的DUV設(shè)備。 ASML總裁兼首席執(zhí)行官傅恪禮（Christophe Fouquet）表示，正如此前幾個季度，半導(dǎo)體行業(yè)的整體庫存水平持續(xù)得到改善。無論是邏輯芯片還是存儲芯片客戶，對光刻設(shè)備的利用率都在進(jìn)一步提高。宏觀環(huán)境為主的不確定
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ASML發(fā)布2024年第二季度財(cái)報(bào)

  • 阿斯麥（ASML）今日發(fā)布2024年第二季度財(cái)報(bào)。2024年第二季度，ASML實(shí)現(xiàn)凈銷售額62億歐元，毛利率為51.5%，凈利潤達(dá)16億歐元。今年第二季度的新增訂單金額為56億歐元2，其中25億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2024年第三季度的凈銷售額在67億至73億歐元之間，毛利率介于50%到51%。(1)累計(jì)裝機(jī)管理銷售額等于凈服務(wù)和升級方案 (field option) 銷售額的總和。(2)訂單包括所有的系統(tǒng)銷售訂單和通脹調(diào)整，且均經(jīng)過書面確認(rèn)。數(shù)字已經(jīng)四舍五入，方便讀者閱讀?；诿绹ㄓ脮?jì)
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ASML：中國廠商生產(chǎn)成熟制程芯片就行，世界需要

  • 全球?qū)Τ墒熘瞥绦酒男枨笳诩眲∩仙鞣叫酒圃焐虒υ擃I(lǐng)域的投資不夠。
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不賣7nm等先進(jìn)光刻機(jī)！ASML：中國廠商生產(chǎn)“落后”制程芯片就行 世界需要

  • 7月9日消息，據(jù)外媒報(bào)道稱，由于種種因素，ASML絕不能賣給中國廠商最先進(jìn)的光刻機(jī)，但該公司CEO卻表示，世界需要中國生產(chǎn)的"傳統(tǒng)芯片"。ASML的CEO Christophe Fouquet接受采訪時(shí)表示，全球芯片買家，包括德國汽車工業(yè)在內(nèi)，都迫切需要中國芯片制造商目前正大力投資的舊一代電腦芯片。根據(jù)行業(yè)組織SEMI的估計(jì)，中國芯片制造商將在2025年將產(chǎn)能增加14%，是全球其他地區(qū)的兩倍以上，到2025年將達(dá)到每月1010萬片晶圓，占全球總產(chǎn)量的大約三分之一。"全球?qū)@類
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ASML前總裁稱"意識形態(tài)而非事實(shí)"助長中美芯片戰(zhàn)爭

  • 荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備巨頭 ASML 為所有主要企業(yè)提供尖端光刻技術(shù)。該公司最近離職的首席執(zhí)行官剛剛分享了他對這一復(fù)雜地緣政治格局的見解。彼得-溫尼克（Peter Wennink）最近在接受荷蘭 BNR 電臺采訪時(shí)，對美國針對中國芯片產(chǎn)業(yè)的貿(mào)易限制毫不諱言。在執(zhí)掌 ASML 十年之后于今年四月卸任的溫尼克聲稱，這類討論不是基于事實(shí)、內(nèi)容、數(shù)字或數(shù)據(jù)，而是基于意識形態(tài)。在溫尼克的領(lǐng)導(dǎo)下，ASML 逐漸成為歐洲最大的科技公司。隨著中國政府加倍努力實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體自給自足，中國成為繼臺灣之后 ASML 的第二大市
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EUV 的單次曝光與多次曝光的進(jìn)步

  • 在過去的五年中，EUV 模式設(shè)計(jì)取得了長足的進(jìn)步，但高 NA EUV 又重現(xiàn)了舊的挑戰(zhàn)。
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ASML或?qū)yper-NA EUV光刻機(jī)定價(jià)翻倍，讓臺積電、三星和英特爾猶豫不決

  • ASML去年末向英特爾交付了業(yè)界首臺High-NA EUV光刻機(jī)，業(yè)界準(zhǔn)備從EUV邁入High-NA EUV時(shí)代。不過ASML已經(jīng)開始對下一代Hyper-NA EUV技術(shù)進(jìn)行研究，尋找合適的解決方案，計(jì)劃在2030年左右提供新一代Hyper-NA EUV光刻機(jī)。據(jù)Trendforce報(bào)道，Hyper-NA EUV光刻機(jī)的價(jià)格預(yù)計(jì)達(dá)到驚人的7.24億美元，甚至可能會更高。目前每臺EUV光刻機(jī)的價(jià)格約為1.81億美元，High-NA EUV光刻機(jī)的價(jià)格大概為3.8億美元，是EUV光刻機(jī)的兩倍多
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臺積電EUV大舉拉貨 供應(yīng)鏈集體狂歡

  • 臺積電2納米先進(jìn)制程產(chǎn)能將于2025年量產(chǎn)，設(shè)備廠正如火如荼交機(jī)，尤以先進(jìn)制程所用之EUV（極紫外光曝光機(jī)）至為關(guān)鍵，今明兩年共將交付超過60臺EUV，總投資金額上看超過4,000億元。在產(chǎn)能持續(xù)擴(kuò)充之下，ASML2025年交付數(shù)量成長將超過3成，臺廠供應(yīng)鏈沾光，其中家登積極與ASML攜手投入次世代High-NA EUV研發(fā)，另外帆宣、意德士、公準(zhǔn)、京鼎及翔名等有望同步受惠。 設(shè)備業(yè)者透露，EUV機(jī)臺供應(yīng)吃緊，交期長達(dá)16至20個月，因此2024年訂單大部分會于后年開始交付；據(jù)法人估計(jì)，今年臺積電EUV訂
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ASML市值超車LVMH，成為歐洲第二大上市公司

  • 最新 EUV 設(shè)備的銷售情況對 ASML 的市值產(chǎn)生了明顯影響。
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三井化學(xué)將量產(chǎn)光刻薄膜新品，支持ASML下一代光刻機(jī)

  • 日前，日本三井化學(xué)宣布將在其巖國大竹工廠設(shè)立碳納米管 (CNT) 薄膜生產(chǎn)線，開始量產(chǎn)半導(dǎo)體最尖端光刻機(jī)的零部件產(chǎn)品（保護(hù)半導(dǎo)體電路原版的薄膜材料“Pellicle”的新一代產(chǎn)品）。據(jù)悉，此種CNT薄膜可以實(shí)現(xiàn)92%以上的高EUV透射率和超過1kW曝光輸出功率的光阻能力。三井化學(xué)預(yù)期年產(chǎn)能力為5000張，生產(chǎn)線預(yù)計(jì)于2025年12月完工，可為ASML將推出的下一代高數(shù)值孔徑、高輸出EUV光刻機(jī)提供支持。
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可量產(chǎn)0.2nm工藝！ASML公布Hyper NA EUV光刻機(jī)：死胡同不遠(yuǎn)了

  • 6月16日消息，ASML去年底向Intel交付了全球第一臺High NA EUV極紫外光刻機(jī)，同時(shí)正在研究更強(qiáng)大的Hyper NA EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)可將半導(dǎo)體工藝推進(jìn)到0.2nm左右，也就是2埃米。ASML第一代Low NA EUV光刻機(jī)孔徑數(shù)值只有0.33，對應(yīng)產(chǎn)品命名NXE系列，包括已有的3400B/C、3600D、3800E，以及未來的4000F、4200G、4X00。該系列預(yù)計(jì)到2025年可以量產(chǎn)2nm，再往后就得加入多重曝光，預(yù)計(jì)到2027年能實(shí)現(xiàn)1.4nm的量產(chǎn)。High NA光刻機(jī)升級到了
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