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半導(dǎo)體光刻機(jī)巨頭，何去何從？

  • 3月27日消息，據(jù)外媒報道，為留住光刻機(jī)設(shè)備巨頭阿斯麥（ASML）繼續(xù)在荷蘭發(fā)展，荷蘭政府計(jì)劃向ASML注入至少10億歐元資金。本月初，荷蘭當(dāng)?shù)貓蠹圖e Telegraaf揭露，ASML計(jì)劃將公司搬離荷蘭。報道指出，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴(kuò)張或遷移，法國是選擇之一。根據(jù)荷蘭通訊社的消息，荷蘭政府為此專門成立了一個名為“貝多芬行動”的特別工作小組，由首相馬克·呂特親自領(lǐng)導(dǎo)，旨在與ASML進(jìn)行協(xié)商以解決其對荷蘭當(dāng)?shù)貏趧恿?yīng)、法規(guī)政策和供應(yīng)鏈安全的擔(dān)憂。最新消息指出，荷蘭政府計(jì)
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逼近極限！ASML發(fā)布第三代EUV光刻機(jī)

  • 芯片制造商需要速度。在科技日新月異的今天，芯片制造技術(shù)的不斷革新成為了推動科技進(jìn)步的關(guān)鍵力量。作為光刻技術(shù)的領(lǐng)軍企業(yè)，ASML近日發(fā)布的第三代EUV光刻機(jī)——Twinscan NXE：3800E，無疑為全球芯片制造業(yè)帶來了新的希望與機(jī)遇。更加先進(jìn)的光刻機(jī)出現(xiàn)，不僅代表著ASML在光刻技術(shù)領(lǐng)域的又一次突破，更將助力芯片制造商實(shí)現(xiàn)2nm處理器制造的飛躍。又一“神器”出現(xiàn)ASML，作為全球領(lǐng)先的光刻機(jī)制造商，不用過多介紹。此次發(fā)布的Twinscan NXE：3800E光刻機(jī)，是ASML在EUV光刻技術(shù)領(lǐng)域的又一
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ASML正計(jì)劃搬離荷蘭？向外擴(kuò)張轉(zhuǎn)移業(yè)務(wù)成為最優(yōu)解

  • 據(jù)路透社報道，光刻機(jī)巨頭阿斯麥（ASML）正計(jì)劃將公司搬離荷蘭。荷蘭政府緊急成立了一個名為“貝多芬計(jì)劃”的特別工作組，由首相馬克·呂特親自領(lǐng)導(dǎo)，以確保ASML繼續(xù)在荷蘭發(fā)展。消息還稱，ASML已向荷蘭政府提出了意向，表示將有可能在其他地方擴(kuò)張或遷移，法國或是選擇之一。針對最近“搬離荷蘭”等傳言，ASML發(fā)言人對媒體稱他們在考慮公司的未來，但沒有透露具體的想法。ASML為何要搬離荷蘭？憑借先天的地理位置及海港內(nèi)陸網(wǎng)絡(luò)，荷蘭一直為歐洲的交通樞紐，國家經(jīng)濟(jì)高度依賴國際貿(mào)易，2022年最新出口額占全國GDP之比超
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ASML前CTO，加入ASM

  • 近日，ASM International NV（ASM）宣布提名Martin van den Brink為其監(jiān)事會成員。Martin van den Brink的任命將于5月13日提交給年度股東大會。據(jù)介紹，1984年，Martin van den Brink以工程師身份加入當(dāng)時新成立的ASML，并于1995年成為技術(shù)副總裁（CTO）。1999年，他被任命為ASML管理委員會成員，2013年，他被任命為首席技術(shù)官。在擔(dān)任公司領(lǐng)導(dǎo)期間，他是推動ASML發(fā)展和技術(shù)創(chuàng)新的關(guān)鍵，這些創(chuàng)新幫助塑造了整個半導(dǎo)體行業(yè)。
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對話ASML｜與光同行，共赴"芯"辰大海

  • ASML作為半導(dǎo)體行業(yè)的全球供應(yīng)商，在科技領(lǐng)域不斷創(chuàng)新，為客戶提供包括光刻機(jī)、計(jì)算光刻和量測在內(nèi)的"鐵三角"全景光刻解決方案。同時，公司也將人才視為追"芯"之旅的中堅(jiān)力量，致力于通過挑戰(zhàn)求精（Challenge）、合作共進(jìn)（Collaborate）、關(guān)愛致遠(yuǎn)（Care）為特征的"3C文化"，以及"財(cái)務(wù)、身體、心理、社交和職業(yè)發(fā)展"這五大健康維度，幫助人才解鎖閃耀"芯"途。本期，優(yōu)興咨詢特邀ASML中國區(qū)人力
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ASML發(fā)布2023年度報告 綜合概述ASML持續(xù)與客戶、供應(yīng)商及其他重要利益相關(guān)方共同推動發(fā)展

  • 荷蘭菲爾德霍芬，2024年2月14日——阿斯麥（ASML）今日發(fā)布了2023年度報告（簡稱“年報”）。報告以“小影像，大影響”為主題，展現(xiàn)了ASML的商業(yè)模式及戰(zhàn)略、公司治理以及財(cái)務(wù)表現(xiàn)情況。 年報不僅介紹了ASML對于通過科技打造更美好、更具包容性和可持續(xù)性未來的貢獻(xiàn)，還包含首席執(zhí)行官、首席財(cái)務(wù)官、首席技術(shù)官、首席商務(wù)官和監(jiān)事會主席及薪酬委員會主席的致辭。此外，通過年報還可以了解更多關(guān)于ASML員工對企業(yè)以及整個社會所帶來的影響。年報全文以及首席財(cái)務(wù)官Roger Dassen的年報介紹視頻已發(fā)
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ASML：2023年?duì)I收超預(yù)期，明年多款光刻機(jī)不會獲得對華出口許可

  • 預(yù)計(jì) 2024 年將是 ASML 過渡的一年，銷售額與 2023 年相似。
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ASML 回?fù)糍|(zhì)疑：High-NA EUV 光刻仍是未來最經(jīng)濟(jì)選擇

  •  2 月 2 日消息，ASML 首席財(cái)務(wù)官 Roger Dassen 近日接受了荷蘭當(dāng)?shù)孛襟w Bits&Chips 的采訪。在采訪中，Dassen 回應(yīng)了分析機(jī)構(gòu) SemiAnalysis 的質(zhì)疑，表示 High-NA（高數(shù)值孔徑）EUV（極紫外光）光刻機(jī)仍是未來最經(jīng)濟(jì)的選擇。SemiAnalysis 之前刊發(fā)文章，認(rèn)為 High-NA 光刻技術(shù)將使用更高的曝光劑量，從而明顯降低單位時間內(nèi)的晶圓吞吐量。這就意味著，相較于沿用現(xiàn)有的 0.33NA EUV 光刻機(jī)并搭配多重曝光，引入 Hig
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光刻機(jī)霸主，ASML一枝獨(dú)秀

  • 2024 年是 ASML 強(qiáng)勢的一年。
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2023年ASML總營收275.59億歐元 同比增長30%

  • 1月24日，荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商阿斯麥（ASML）公布了2023年第四季度和2023年全年的業(yè)績。2023年第四季度，該公司的凈銷售額為72.37億歐元，凈利潤為20.48億歐元；2023年全年，該公司的凈銷售額為275.59億歐元，同比增長30%，凈利潤為78.39億歐元。對于業(yè)績變化的原因，ASML首席財(cái)務(wù)官Roger Dassen在2023年第四季度及全年業(yè)績說明會上分析認(rèn)為，這主要得益于裝機(jī)管理業(yè)務(wù)的超預(yù)期增長，銷售額的增加是服務(wù)收入和升級收入增加的共同結(jié)果。對于2024年業(yè)績預(yù)測，ASML預(yù)計(jì)今
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爭奪ASML最強(qiáng)EUV設(shè)備敗北，臺積電下一步怎么走？

  • 英特爾步步緊逼，臺積電沉著應(yīng)對。
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光刻機(jī)巨頭 ASML 2023 年總營收 275.59 億歐元，同比增長 30%

  • IT之家 1 月 24 日消息，光刻機(jī)巨頭 ASML 今日公布了 2023 年第四季度和全年業(yè)績：2023 年第四季度凈銷售收入 72.37 億歐元（IT之家備注：當(dāng)前約 563.76 億元人民幣），預(yù)期 69.3 億歐元，毛利率 51.4%，凈利潤 20.48 億歐元（當(dāng)前約 159.54 億元人民幣）；第四季度凈預(yù)訂額為 92 億歐元（當(dāng)前約 716.68 億元人民幣），其中 EUV 光刻機(jī)預(yù)訂額為 56 億歐元（當(dāng)前約 436.24 億元人民幣）。2023 年凈銷售收入 275.
  • 關(guān)鍵字： ASML  光刻機(jī)  財(cái)報   

ASML：NXT:2050i和2100i光刻系統(tǒng)出口許可證已被部分撤銷

  • 1 月 1 日，ASML 在官網(wǎng)發(fā)布聲明稱，其 NXT:2050i 和 NXT:2100i 光刻系統(tǒng)的出口許可證已被荷蘭政府部分撤銷，影響了少數(shù)中國大陸客戶。ASML 稱，公司在最近與美國政府的討論中，進(jìn)一步明確了美國出口管制法規(guī)的范圍和影響。ASML 表示，預(yù)計(jì)目前出口許可證的撤銷或最新的美國出口管制限制不會對 2023 年的財(cái)務(wù)前景產(chǎn)生重大影響，該公司全面承諾遵守所有適用的法律法規(guī)，包括運(yùn)營所在國家的出口管制法規(guī)。今年 7 月，據(jù)媒體報道，荷蘭出口管制規(guī)則禁止 ASML 在未經(jīng)政府批準(zhǔn)的情況下為受控設(shè)
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英特爾是否正在壟斷ASML HIGH NA光刻機(jī)？

TSMC不會在2030年或更晚采用先進(jìn)的High-NA EUV芯片制造工具 ——英特爾本周剛剛收到了其第一臺：報告

  • TSMC 不急于采用ASML的High-NA EUV進(jìn)行大規(guī)模生產(chǎn)。本周，英特爾開始收到其第一臺ASML的0.55數(shù)值孔徑（High-NA）極紫外（EUV）光刻工具，它將用于學(xué)習(xí)如何使用這項(xiàng)技術(shù)，然后在未來幾年內(nèi)將這些機(jī)器用于18A后的生產(chǎn)節(jié)點(diǎn)。相比之下，據(jù)中國Renaissance和SemiAnalysis的分析師表示，TSMC并不急于在不久的將來采用High-NA EUV，該公司可能要在2030年或更晚才會加入這一陣營?！芭c英特爾在轉(zhuǎn)向GAA（計(jì)劃在[20A]插入之后）后不久即開始使用High-NA
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