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ASML發(fā)布2023年第二季度財(cái)報(bào) | 凈銷售額69億歐元，凈利潤為19億歐元

  • 荷蘭菲爾德霍芬，2023年7月19日—阿斯麥（ASML）今日發(fā)布了2023年第二季度財(cái)報(bào)。2023年第二季度，ASML實(shí)現(xiàn)了凈銷售額69億歐元，毛利率為51.3%，凈利潤達(dá)19億歐元。今年第二季度的新增訂單金額為45億歐元2，其中16億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2023年第三季度的凈銷售額在65億至70億歐元之間，毛利率在50%左右。相比2022年，今年ASML的凈銷售額增長率有望達(dá)到30%。 (1)      累計(jì)裝機(jī)管理銷售額等于凈
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限制ASML對(duì)華設(shè)備和技術(shù)輸出的新規(guī)又來了

  • 荷蘭政府又要限制 ASML 賺錢了。
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ASML官網(wǎng)顯示：支持7nm高端DUV光刻機(jī)仍可出口

  • 荷蘭政府宣布了限制某些先進(jìn)半導(dǎo)體設(shè)備出口的新規(guī)定，這些規(guī)定將于9月1日生效。具體而言，荷蘭政府將要求先進(jìn)芯片制造設(shè)備的公司在出口之前須獲得許可證。ASML在其官網(wǎng)發(fā)表聲明稱，該公司未來出口其先進(jìn)的浸潤式DUV光刻系統(tǒng)（即TWINSCAN NXT:2000i及后續(xù)浸潤式系統(tǒng)）時(shí)，將需要向荷蘭政府申請(qǐng)出口許可證。而ASML強(qiáng)調(diào)，該公司的EUV系統(tǒng)的銷售此前已經(jīng)受到限制。據(jù)ASML官網(wǎng)提供的信息，該公司目前在售的主流浸沒式DUV光刻機(jī)產(chǎn)品共有三款，分別是：TWINSCAN NXT:1980Di、TWINSCAN
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日本與荷蘭簽署半導(dǎo)體合作備忘錄：采購 ASML 光刻機(jī)，加強(qiáng)技術(shù)合作

  • IT之家 6 月 26 日消息，據(jù)日本經(jīng)濟(jì)新聞報(bào)道，日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟(jì)事務(wù)和氣候政策部在東京簽署了半導(dǎo)體合作備忘錄。二者將共同推進(jìn)欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機(jī)巨頭 ASML 的合作，并聯(lián)手進(jìn)行技術(shù)開發(fā)?！?圖源：ASML報(bào)道稱，ASML 量產(chǎn)尖端半導(dǎo)體工藝所需的 EUV 光刻機(jī)。Rapidus 計(jì)劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補(bǔ)貼，采購 EUV 光刻設(shè)備。IT之家注意到，EUV 光刻機(jī)在全球范圍內(nèi)較為短缺，面臨著臺(tái)積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報(bào)道指出，如果 Ra
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ASML：數(shù)值孔徑0.75超高NA EUV光刻設(shè)備2030年登場

  • 據(jù)日本媒體報(bào)導(dǎo)，光刻機(jī)設(shè)備龍頭阿斯麥（ASML）執(zhí)行副總裁Christophe Fouquet近日在比利時(shí)imec年度盛會(huì)ITF World 2023表示，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)需要2030年開發(fā)數(shù)值孔徑0.75的超高NA EUV光刻技術(shù)，滿足半導(dǎo)體發(fā)展。Christophe Fouquet表示，自2010年以來EUV技術(shù)越來越成熟，半導(dǎo)體制程微縮至2020年前后三年，以超過50%幅度前進(jìn)，不過速度可能會(huì)在2030年放緩。故ASML計(jì)劃年底前發(fā)表首臺(tái)商用High-NA（NA=0.55）EUV微影曝光設(shè)備（原型制作），
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消息稱光刻機(jī)巨頭 ASML 最快本月底迎出口管制措施，新規(guī)恐將成歐盟效仿對(duì)象

  • IT之家 6 月 23 日消息，據(jù)彭博社報(bào)道，荷蘭政府計(jì)劃最快下周發(fā)布新的出口管制措施，將限制 ASML 的半導(dǎo)體制造設(shè)備出口。▲ 圖源：ASML報(bào)道稱，此次出口管制名單新增了 TWINSCAN NXT:2000i、NXT:2050i 及 NXT:2100i 等深紫外光（DUV）浸入式光刻設(shè)備。IT之家注意到，這一系列設(shè)備最高可支持 5 nm 工藝，如臺(tái)積電就使用 SAQP 和氬氟浸沒 (ArFi) 光刻實(shí)現(xiàn)了 7 nm 量產(chǎn)。此前，ASML 最先進(jìn)的極紫外光（EUV）光刻機(jī)已在出口管制列表當(dāng)中
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三星耗資約1.6萬億建半導(dǎo)體聚落，吸引應(yīng)用材料/ASML等廠商赴韓投資

  • 據(jù)日經(jīng)新聞網(wǎng)報(bào)道，半導(dǎo)體巨頭三星電子計(jì)劃未來20年投資300兆韓元（約合人民幣1.6萬億元），借由效仿臺(tái)積電模式，在韓國首爾附近打造新的半導(dǎo)體制造聚落。報(bào)道稱，三星這一舉措成功吸引了全球半導(dǎo)體廠商競相在當(dāng)?shù)赝顿Y，包括美國應(yīng)用材料（Applied Materials）、荷蘭阿斯麥（ASML）等半導(dǎo)體大廠的主管正與首爾周邊京畿道政府辦公室，討論投資計(jì)劃、基礎(chǔ)建設(shè)發(fā)展及稅收優(yōu)惠政策。其中，應(yīng)用材料公司正在尋求建立一個(gè)新的研發(fā)中心，并計(jì)劃在今年年底前完成選址，并在幾年內(nèi)開始運(yùn)營，而龍仁是其首選地點(diǎn)；ASML目前則
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開始1-γ芯片制程開發(fā)？美光日本廠擬引入ASML光刻機(jī)

  • 知情人士稱，美國美光科技公司準(zhǔn)備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進(jìn)芯片制造設(shè)備EUV（極紫外光刻機(jī)），以制造下一代存儲(chǔ)芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補(bǔ)貼。日本經(jīng)濟(jì)產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實(shí)了美光在日的進(jìn)一步投資。他指出，日本政府正與臺(tái)積電討論擴(kuò)大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進(jìn)存儲(chǔ)芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄會(huì)見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團(tuán)，而有關(guān)芯片的詳細(xì)計(jì)劃可能在之后陸續(xù)宣布。自201
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柔弱的雕刻大師——EUV光刻機(jī)

  • 在如今這個(gè)信息時(shí)代，如果說我們的世界是由芯片堆積起來的高樓大廈，那么芯片制造，則是這里面高樓的地基，而談到芯片制造各位讀者自然就能想到光刻機(jī)，沒錯(cuò)，作為人類商業(yè)化機(jī)器的工程奇跡，光刻機(jī)自然是量產(chǎn)高性能芯片的必要設(shè)備。特別是隨著這幾年中美貿(mào)易戰(zhàn)的加劇，光刻機(jī)這種大部分可能一生都不會(huì)見到的機(jī)器一下子成了婦孺皆知的存在，那么光刻機(jī)是如何工作的呢？它是如何在方寸之間的芯片上雕刻出上百億的晶體管的呢？本篇文章就著重給大家介紹一下目前最先進(jìn)，也是我國被“卡脖子”的EUV（極紫外）光刻機(jī)。? ? &
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在光刻機(jī)新技術(shù)的研發(fā)上, 我們似乎又掉隊(duì)了

  • 目前全球僅4家廠商，能夠制造光刻機(jī)，分別是荷蘭的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微電子。從技術(shù)水平來看，ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示，ASML的光刻機(jī)能夠達(dá)到3nm的精度了，而尼康的主要在28nm及以上，而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個(gè)數(shù)字，這是某機(jī)構(gòu)統(tǒng)計(jì)的，2021年全球半導(dǎo)體前道光刻機(jī)的銷售情況，從這張表可以看出來，小米7nm的EUV光刻機(jī)，ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機(jī)上，僅有尼康、ASML能夠推出，尼康也就是打醬油，僅賣出4臺(tái)，另外的
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2nm：半導(dǎo)體企業(yè)的一場創(chuàng)新競賽

  • 近日，格芯以非法使用知識(shí)產(chǎn)權(quán)和商業(yè)秘密為由起訴了美國 IBM。而日本 Rapidus 公司計(jì)劃利用 IBM 提供的技術(shù)，在日本國內(nèi)再次量產(chǎn)先進(jìn)產(chǎn)品，而這里的先進(jìn)產(chǎn)品指的就是 2 納米芯片。雖然 3 納米還未得到普及，但是產(chǎn)業(yè)圍繞 2 納米的討論卻一直熱烈。為了發(fā)展 2 納米制程，不只晶圓廠摩拳擦掌，芯片制造設(shè)備公司也已經(jīng)將 2 納米的設(shè)備提上日程。據(jù) TechNews 的報(bào)道，光刻機(jī)大廠 ASML 已向臺(tái)灣地區(qū)相關(guān)部門申請(qǐng)研發(fā)補(bǔ)貼，以資助 2 納米晶圓光學(xué)測量設(shè)備的開發(fā)和生產(chǎn)。官司打起來了，ASML 也動(dòng)
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兩大半導(dǎo)體設(shè)備巨頭：中國市場仍將蓬勃發(fā)展

  • 中國電動(dòng)汽車市場讓 ASML、LAM 對(duì)中國充滿信心。
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ASML預(yù)測，未來九個(gè)月對(duì)中國的銷量將大幅回升

ASML：2023年光刻機(jī)市場需求將超出產(chǎn)能

  • 受消費(fèi)電子市場低迷影響，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)邁入下行周期，上游半導(dǎo)體設(shè)備也因客戶去庫存、調(diào)整訂單受到影響。不過，光刻機(jī)龍頭企業(yè)ASML發(fā)布的最新財(cái)報(bào)顯示，盡管光刻機(jī)業(yè)務(wù)遭遇一定挑戰(zhàn)，但未來產(chǎn)業(yè)前景仍舊向好。01EUV/DUV收入超預(yù)期增長，半導(dǎo)體需求結(jié)構(gòu)性分化4月19日，ASML發(fā)布2023年第一季度財(cái)報(bào)，該季ASML實(shí)現(xiàn)了凈銷售額67億歐元，毛利率為50.6%，凈利潤達(dá)20億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為38億歐元，其中16億歐元為EUV光刻機(jī)訂單。ASML預(yù)計(jì)2023年第二季度的凈銷售額約為65億~70億歐
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ASML遭臺(tái)積電大規(guī)?？硢?，強(qiáng)調(diào)7nm高端DUV光刻機(jī)仍可出口中國

  • 據(jù)臺(tái)系設(shè)備廠商透露ASML近期由于客戶大砍資本支出、縮減訂單，最重要的是大客戶臺(tái)積電也大砍逾4成EUV設(shè)備訂單及延后拉貨時(shí)間，2024全年業(yè)績將明顯承壓。根據(jù)ASML的財(cái)報(bào)顯示，今年一季度的凈銷售額為67.46億歐元，較去年同期的35.34億歐元大幅增加，接近翻番，較上一季度的64.3億歐元也有增加；凈利潤為19.56億歐元，較去年同期的6.95億歐元大幅增加，較上一季度的18.17億歐元也有增加。雖然凈銷售及利潤同比環(huán)比均有增加，但ASML在財(cái)報(bào)中也披露了不利的消息，其一季度的凈訂單只有37.52億歐元
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