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EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 光刻機(jī)

單價(jià)超10億元 Intel臺(tái)積電三星每年需要多少EUV光刻機(jī)？

  • 作為半導(dǎo)體行業(yè)最重要的生產(chǎn)設(shè)備，光刻機(jī)實(shí)在太重要了，整個(gè)芯片生產(chǎn)1/3的時(shí)間及成本都耗費(fèi)在光刻上，EUV光刻機(jī)更是只有荷蘭ASML一家公司能產(chǎn)，單臺(tái)售價(jià)超過(guò)10億美元，這個(gè)生意一般人做不了。半導(dǎo)體工藝在7nm及以上的時(shí)候，不用EUV光刻機(jī)也能制造，就是成本有點(diǎn)高。目前對(duì)EUV光刻機(jī)有需求的廠商就三個(gè)——Intel、臺(tái)積電、三星，其中后兩家的EUV工藝已經(jīng)量產(chǎn)，Intel的要到2021年7nm工藝上才會(huì)用到EUV光刻機(jī)。那這三家公司對(duì)EUV光刻機(jī)有多少需求？根據(jù)ASML提供的計(jì)算方式，每月4.5萬(wàn)片晶圓、一
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光刻機(jī)制造商ASML：疫情中公司訂單依然強(qiáng)勁

  • 據(jù)外媒報(bào)道，由于擔(dān)心新型冠狀病毒疫情帶來(lái)的不確定性，三星和臺(tái)積電的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商ASML宣布撤回2020年第二季度的業(yè)績(jī)預(yù)期。不過(guò)，這家生產(chǎn)極紫外線(EUV)光刻設(shè)備的荷蘭公司補(bǔ)充說(shuō)，該公司的設(shè)備訂單依然強(qiáng)勁，需求也沒(méi)有變化。ASML首席執(zhí)行官彼得·溫寧克（Peter Wennink）說(shuō)：“需求前景沒(méi)有變化，今年我們沒(méi)有遇到任何推遲或取消交易的情況。盡管當(dāng)前形勢(shì)充滿挑戰(zhàn)，但到目前為止，我們能夠繼續(xù)保持正常業(yè)務(wù)?！钡珳貙幙搜a(bǔ)充說(shuō)：“目前新型冠狀病毒疫情將如何影響全球GDP發(fā)展、終端市場(chǎng)、我們的制造能力以及
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EUV光刻機(jī)訂單少了？ASML下調(diào)Q1季度營(yíng)收預(yù)期 暫停股票回購(gòu)

  • 由于COVID-19新冠病毒在全球的蔓延,多個(gè)行業(yè)的生產(chǎn)、消費(fèi)都受到影響了,半導(dǎo)體行業(yè)也不例外。ASML公司今天宣布下調(diào)Q1季度營(yíng)收預(yù)期,同時(shí)暫停股票回購(gòu),不過(guò)他們沒(méi)公布EUV光刻機(jī)出貨量是否受影響了。今年1月份ASML公司發(fā)布了2019年Q4及全年財(cái)報(bào),2019年交付了26臺(tái)EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)2020年交付35臺(tái)EUV光刻機(jī),2021年則會(huì)達(dá)到45臺(tái)到50臺(tái)的交付量,是2019年的兩倍左右。展望2020年Q1季度,ASML之前預(yù)計(jì)營(yíng)收31到33億歐元之間,毛利率46%到47%之間,研發(fā)費(fèi)用約為5.5億歐
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引入EUV技術(shù)的6nm，才是真正的6nm

  • 只有引入EUV技術(shù)的6nm才是真正的6nm，而這項(xiàng)技術(shù)也將伴隨未來(lái)可能的5nm、4nm、3nm、2nm、1nm一路
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90%市場(chǎng)被國(guó)外廠商壟斷 光刻膠國(guó)產(chǎn)化急需提速！

  • 近年來(lái),雖然中國(guó)在芯片設(shè)計(jì)領(lǐng)域有了突飛猛進(jìn)的發(fā)展,涌現(xiàn)出了一批以華為海思為代表的優(yōu)秀的芯片設(shè)計(jì)企業(yè),但是在芯片制造領(lǐng)域,中國(guó)與國(guó)外仍有著不小的差距。不僅在半導(dǎo)體制程工藝上落后國(guó)外最先進(jìn)工藝近三代,特別是在芯片制造所需的關(guān)鍵原材料方面,與美日歐等國(guó)差距更是巨大。即便強(qiáng)大如韓國(guó)三星這樣的巨頭,在去年7月,日本宣布限制光刻膠、氟化聚酰亞胺和高純度氟化氫等關(guān)鍵原材料對(duì)韓國(guó)的出口之后,也是被死死的“卡住了脖子”,急得如熱鍋上的螞蟻,卻又無(wú)可奈何。最后還是日本政府解除了部分限制之后,才得以化解了危機(jī)。而在美國(guó)制裁中興
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ASML研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)：分辨率提升70% 逼近1nm極限

  • 在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開(kāi)始出貨。根據(jù)ASML之前的報(bào)告,去年他們出貨了26臺(tái)EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)2020年交付35臺(tái)EUV光刻機(jī),2021年則會(huì)達(dá)到45臺(tái)到50臺(tái)的交付量,是2019年的兩倍左右。目前ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計(jì),維護(hù)更加便捷,平均維修時(shí)間將從48小時(shí)縮
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ASML研發(fā)下一代EUV光刻機(jī)：分辨率提升70% 逼近1nm極限

  • 在EUV光刻機(jī)方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機(jī),去年出貨26臺(tái),創(chuàng)造了新紀(jì)錄。據(jù)報(bào)道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)在2022年開(kāi)始出貨。根據(jù)ASML之前的報(bào)告,去年他們出貨了26臺(tái)EUV光刻機(jī),預(yù)計(jì)2020年交付35臺(tái)EUV光刻機(jī),2021年則會(huì)達(dá)到45臺(tái)到50臺(tái)的交付量,是2019年的兩倍左右。目前ASML出貨的光刻機(jī)主要是NXE:3400B及改進(jìn)型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計(jì),維護(hù)更加便捷,平均維修時(shí)間將從48小時(shí)縮
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佳能產(chǎn)日本首臺(tái)半導(dǎo)體光刻機(jī)PPC-1發(fā)售50周年：半導(dǎo)體器件這樣煉成

  • 半導(dǎo)體器件被廣泛應(yīng)用于從智能手機(jī)到汽車(chē)等各個(gè)領(lǐng)域，在其制造過(guò)程中半導(dǎo)體光刻機(jī)必不可少。你知道嗎，日本首臺(tái)半導(dǎo)體光刻機(jī)發(fā)售已經(jīng)50周年了。今日，佳能中國(guó)宣布，佳能產(chǎn)日本首臺(tái)半導(dǎo)體光刻機(jī)PPC-1發(fā)售50周年。佳能PPC-1于1970年發(fā)售，隨著數(shù)字技術(shù)的迅速發(fā)展，佳能的半導(dǎo)體光刻機(jī)也在不斷升級(jí)。首臺(tái)日本產(chǎn)半導(dǎo)體光刻機(jī)PPC-1據(jù)悉，佳能光刻機(jī)的歷史始于對(duì)相機(jī)鏡頭技術(shù)的高度應(yīng)用。靈活運(yùn)用20世紀(jì)60年代中期在相機(jī)鏡頭開(kāi)發(fā)中積累的技術(shù)，佳能研發(fā)出了用于光掩膜制造的高分辨率鏡頭。此后，為了進(jìn)一步擴(kuò)大業(yè)務(wù)范圍，佳能
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高景深步進(jìn)式光刻機(jī)等多個(gè)集成電路項(xiàng)目落地浙江海寧

  • 日前，浙江海寧市舉行2020年1月“雙招雙引”項(xiàng)目集中簽約儀式，17個(gè)項(xiàng)目落戶海寧，總投資達(dá)24億元。
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弘芯半導(dǎo)體ASML高端光刻機(jī)進(jìn)場(chǎng) 第三家國(guó)產(chǎn)14nm工藝來(lái)了

  • 12月22日，位于湖北武漢的弘芯半導(dǎo)體發(fā)布公告，該廠為首臺(tái)高端光刻機(jī)設(shè)備進(jìn)廠舉行了隆重的進(jìn)廠儀式，雖然官方?jīng)]有公布具體信息，但可以確定是一臺(tái)ASML的高端光刻機(jī)，售價(jià)也是數(shù)千萬(wàn)美元級(jí)別的。根據(jù)湖北媒體之前的報(bào)道，弘芯半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)園是2018年武漢單個(gè)最大投資項(xiàng)目，位于臨空港經(jīng)濟(jì)技術(shù)開(kāi)發(fā)區(qū)臨空港大道西側(cè)，規(guī)劃用地面積636畝，建筑面積65萬(wàn)平方米，總投資1280億元。該項(xiàng)目2017年已投入建設(shè)資金520億元，2018年第二期項(xiàng)目再投資760億元，擬建設(shè)芯片生產(chǎn)制造基地及配套企業(yè)。項(xiàng)目計(jì)劃于2019年上半年
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中芯國(guó)際稱7nm EUV光刻機(jī)問(wèn)題已解決 技術(shù)研發(fā)步入正軌

  • 在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)之后，制造越來(lái)越困難，其中最復(fù)雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機(jī)了，而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應(yīng)。中芯國(guó)際去年也訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，日前該公司表示與ASML之間已解決光刻機(jī)的問(wèn)題，EUV技術(shù)研發(fā)步入正軌。前不久有消息稱ASML停止對(duì)中芯國(guó)際供應(yīng)EUV光刻機(jī)，隨后ASML公司表示不是停供，而是延期，主要是在準(zhǔn)備該國(guó)政府的出口申請(qǐng)文本工作。中芯國(guó)際董事長(zhǎng)周子學(xué)日前在韓國(guó)訪問(wèn)，韓媒報(bào)道稱周子學(xué)表態(tài)已經(jīng)解決了與ASML之間就光刻機(jī)供應(yīng)存在的問(wèn)題，強(qiáng)調(diào)中芯國(guó)際在先進(jìn)
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唯一打破ASML光刻機(jī)雙工臺(tái)技術(shù)壟斷：華卓精科擬登陸科創(chuàng)板

  • 近年來(lái)，隨著國(guó)家的大力支持以及國(guó)內(nèi)市場(chǎng)需求的快速增長(zhǎng)，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛，而在關(guān)鍵的國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域也有了不小的進(jìn)步。比如在硅刻蝕機(jī)領(lǐng)域，北方華創(chuàng)實(shí)現(xiàn)了14nm設(shè)備的突破，同時(shí)也在去年實(shí)現(xiàn)了適用于8英寸晶圓的金屬刻蝕機(jī)的研發(fā)和生產(chǎn)。已經(jīng)登錄科創(chuàng)板的中微半導(dǎo)體自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機(jī)經(jīng)臺(tái)積電驗(yàn)證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。但是在晶圓制造環(huán)節(jié)更為關(guān)鍵的光刻機(jī)領(lǐng)域，卻仍與國(guó)外有著巨大的差距。目前荷蘭的ASML是全球最大的光刻機(jī)制造商，占據(jù)了全球光刻機(jī)市場(chǎng)（按銷(xiāo)售計(jì)）的近90%的市場(chǎng)份
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國(guó)家半導(dǎo)體大基金二期募資2041億 國(guó)產(chǎn)EUV光刻機(jī)有望解決？

  • 據(jù)報(bào)道，第二期國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金——也就是大基金，已經(jīng)在10月22日注冊(cè)成立，注冊(cè)資本高達(dá)2041.5億元，比第一期的1387.2億元高出一半多，最快11月份開(kāi)始投資，這次投資重點(diǎn)是半導(dǎo)體裝備及材料行業(yè)。為了推動(dòng)半導(dǎo)體行業(yè)投資，2014年國(guó)務(wù)院發(fā)布《國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進(jìn)綱要》，提出要設(shè)立國(guó)家產(chǎn)業(yè)投資基金。2014 年9月24日，國(guó)家財(cái)政部、國(guó)開(kāi)金融、中國(guó)煙草、亦莊國(guó)投、中國(guó)移動(dòng)、上海國(guó)盛、中國(guó)電子、中國(guó)電科、華芯投資等共同發(fā)起“國(guó)家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金”，這就是俗稱的大基金。目前，國(guó)家
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EUV光刻機(jī)將如何發(fā)展？

  • AI、5G應(yīng)用推動(dòng)芯片微縮化，要實(shí)現(xiàn)5nm、3nm等先進(jìn)制程，意味著需要更新穎的技術(shù)支援以進(jìn)行加工制造，半導(dǎo)體設(shè)備商遂陸續(xù)推出新一代方案。AI、5G應(yīng)用推動(dòng)晶片微縮化，要實(shí)現(xiàn)5nm、3nm等先進(jìn)制程，意味著需要更新穎的技術(shù)支援以進(jìn)行加工制造，為此，艾司摩爾(ASML)持續(xù)強(qiáng)化極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)效能。艾司摩爾(ASML)資深市場(chǎng)策略總監(jiān)Boudewijn Sluijk表示，VR/AR、自動(dòng)駕駛、5G、大數(shù)據(jù)及AI等，持續(xù)推動(dòng)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，為滿足各式應(yīng)用、資料傳輸，以及演算法需求，芯片效能不斷提高的
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繼半導(dǎo)體材料后，光刻機(jī)相關(guān)設(shè)備市場(chǎng)或受日韓貿(mào)易戰(zhàn)影響

  • 在半導(dǎo)體設(shè)備的供應(yīng)商名單中，前15大廠商營(yíng)收占總產(chǎn)值超過(guò)8成，由于半導(dǎo)體制造廠商在設(shè)備選擇上多屬于長(zhǎng)期合作模式，因而形成目前半導(dǎo)體設(shè)備廠商大者恒大的態(tài)勢(shì)。
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光刻機(jī)介紹

國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備 我公司擁有國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺(tái)灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺(tái), 金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺(tái)。 濺射臺(tái)及探針臺(tái)等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國(guó)Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸 精密劃片機(jī)，300毫米清洗機(jī),。 如您感興趣請(qǐng)登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看詳細(xì) ]

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