光刻機 文章 進入光刻機技術(shù)社區(qū)
90%市場被國外廠商壟斷 光刻膠國產(chǎn)化急需提速！
- 近年來,雖然中國在芯片設(shè)計領(lǐng)域有了突飛猛進的發(fā)展,涌現(xiàn)出了一批以華為海思為代表的優(yōu)秀的芯片設(shè)計企業(yè),但是在芯片制造領(lǐng)域,中國與國外仍有著不小的差距。不僅在半導(dǎo)體制程工藝上落后國外最先進工藝近三代,特別是在芯片制造所需的關(guān)鍵原材料方面,與美日歐等國差距更是巨大。即便強大如韓國三星這樣的巨頭,在去年7月,日本宣布限制光刻膠、氟化聚酰亞胺和高純度氟化氫等關(guān)鍵原材料對韓國的出口之后,也是被死死的“卡住了脖子”,急得如熱鍋上的螞蟻,卻又無可奈何。最后還是日本政府解除了部分限制之后,才得以化解了危機。而在美國制裁中興
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ASML研發(fā)下一代EUV光刻機：分辨率提升70% 逼近1nm極限
- 在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預(yù)計在2022年開始出貨。根據(jù)ASML之前的報告,去年他們出貨了26臺EUV光刻機,預(yù)計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮
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ASML研發(fā)下一代EUV光刻機：分辨率提升70% 逼近1nm極限
- 在EUV光刻機方面,荷蘭ASML(阿斯麥)公司壟斷了目前的EUV光刻機,去年出貨26臺,創(chuàng)造了新紀錄。據(jù)報道,ASML公司正在研發(fā)新一代EUV光刻機,預(yù)計在2022年開始出貨。根據(jù)ASML之前的報告,去年他們出貨了26臺EUV光刻機,預(yù)計2020年交付35臺EUV光刻機,2021年則會達到45臺到50臺的交付量,是2019年的兩倍左右。目前ASML出貨的光刻機主要是NXE:3400B及改進型的NXE:3400C,兩者基本結(jié)構(gòu)相同,但NXE:3400C采用模塊化設(shè)計,維護更加便捷,平均維修時間將從48小時縮
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佳能產(chǎn)日本首臺半導(dǎo)體光刻機PPC-1發(fā)售50周年：半導(dǎo)體器件這樣煉成
- 半導(dǎo)體器件被廣泛應(yīng)用于從智能手機到汽車等各個領(lǐng)域，在其制造過程中半導(dǎo)體光刻機必不可少。你知道嗎，日本首臺半導(dǎo)體光刻機發(fā)售已經(jīng)50周年了。今日，佳能中國宣布，佳能產(chǎn)日本首臺半導(dǎo)體光刻機PPC-1發(fā)售50周年。佳能PPC-1于1970年發(fā)售，隨著數(shù)字技術(shù)的迅速發(fā)展，佳能的半導(dǎo)體光刻機也在不斷升級。首臺日本產(chǎn)半導(dǎo)體光刻機PPC-1據(jù)悉，佳能光刻機的歷史始于對相機鏡頭技術(shù)的高度應(yīng)用。靈活運用20世紀60年代中期在相機鏡頭開發(fā)中積累的技術(shù)，佳能研發(fā)出了用于光掩膜制造的高分辨率鏡頭。此后，為了進一步擴大業(yè)務(wù)范圍，佳能
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弘芯半導(dǎo)體ASML高端光刻機進場 第三家國產(chǎn)14nm工藝來了
- 12月22日，位于湖北武漢的弘芯半導(dǎo)體發(fā)布公告，該廠為首臺高端光刻機設(shè)備進廠舉行了隆重的進廠儀式，雖然官方?jīng)]有公布具體信息，但可以確定是一臺ASML的高端光刻機，售價也是數(shù)千萬美元級別的。根據(jù)湖北媒體之前的報道，弘芯半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)園是2018年武漢單個最大投資項目，位于臨空港經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)臨空港大道西側(cè)，規(guī)劃用地面積636畝，建筑面積65萬平方米，總投資1280億元。該項目2017年已投入建設(shè)資金520億元，2018年第二期項目再投資760億元，擬建設(shè)芯片生產(chǎn)制造基地及配套企業(yè)。項目計劃于2019年上半年
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中芯國際稱7nm EUV光刻機問題已解決 技術(shù)研發(fā)步入正軌
- 在半導(dǎo)體工藝進入10nm節(jié)點之后，制造越來越困難，其中最復(fù)雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機了，而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應(yīng)。中芯國際去年也訂購了一臺EUV光刻機，日前該公司表示與ASML之間已解決光刻機的問題，EUV技術(shù)研發(fā)步入正軌。前不久有消息稱ASML停止對中芯國際供應(yīng)EUV光刻機，隨后ASML公司表示不是停供，而是延期，主要是在準備該國政府的出口申請文本工作。中芯國際董事長周子學(xué)日前在韓國訪問，韓媒報道稱周子學(xué)表態(tài)已經(jīng)解決了與ASML之間就光刻機供應(yīng)存在的問題，強調(diào)中芯國際在先進
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唯一打破ASML光刻機雙工臺技術(shù)壟斷：華卓精科擬登陸科創(chuàng)板
- 近年來，隨著國家的大力支持以及國內(nèi)市場需求的快速增長，國產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛，而在關(guān)鍵的國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域也有了不小的進步。比如在硅刻蝕機領(lǐng)域，北方華創(chuàng)實現(xiàn)了14nm設(shè)備的突破，同時也在去年實現(xiàn)了適用于8英寸晶圓的金屬刻蝕機的研發(fā)和生產(chǎn)。已經(jīng)登錄科創(chuàng)板的中微半導(dǎo)體自主研發(fā)的5nm等離子體刻蝕機經(jīng)臺積電驗證，性能優(yōu)良，將用于全球首條5nm制程生產(chǎn)線。但是在晶圓制造環(huán)節(jié)更為關(guān)鍵的光刻機領(lǐng)域，卻仍與國外有著巨大的差距。目前荷蘭的ASML是全球最大的光刻機制造商，占據(jù)了全球光刻機市場（按銷售計）的近90%的市場份
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國家半導(dǎo)體大基金二期募資2041億 國產(chǎn)EUV光刻機有望解決？
- 據(jù)報道，第二期國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金——也就是大基金，已經(jīng)在10月22日注冊成立，注冊資本高達2041.5億元，比第一期的1387.2億元高出一半多，最快11月份開始投資，這次投資重點是半導(dǎo)體裝備及材料行業(yè)。為了推動半導(dǎo)體行業(yè)投資，2014年國務(wù)院發(fā)布《國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進綱要》，提出要設(shè)立國家產(chǎn)業(yè)投資基金。2014 年9月24日，國家財政部、國開金融、中國煙草、亦莊國投、中國移動、上海國盛、中國電子、中國電科、華芯投資等共同發(fā)起“國家集成電路產(chǎn)業(yè)投資基金”，這就是俗稱的大基金。目前，國家
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EUV光刻機將如何發(fā)展？
- AI、5G應(yīng)用推動芯片微縮化，要實現(xiàn)5nm、3nm等先進制程，意味著需要更新穎的技術(shù)支援以進行加工制造，半導(dǎo)體設(shè)備商遂陸續(xù)推出新一代方案。AI、5G應(yīng)用推動晶片微縮化，要實現(xiàn)5nm、3nm等先進制程，意味著需要更新穎的技術(shù)支援以進行加工制造，為此，艾司摩爾(ASML)持續(xù)強化極紫外光(EUV)微影系統(tǒng)效能。艾司摩爾(ASML)資深市場策略總監(jiān)Boudewijn Sluijk表示，VR/AR、自動駕駛、5G、大數(shù)據(jù)及AI等，持續(xù)推動半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，為滿足各式應(yīng)用、資料傳輸，以及演算法需求，芯片效能不斷提高的
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繼半導(dǎo)體材料后，光刻機相關(guān)設(shè)備市場或受日韓貿(mào)易戰(zhàn)影響
- 在半導(dǎo)體設(shè)備的供應(yīng)商名單中，前15大廠商營收占總產(chǎn)值超過8成，由于半導(dǎo)體制造廠商在設(shè)備選擇上多屬于長期合作模式，因而形成目前半導(dǎo)體設(shè)備廠商大者恒大的態(tài)勢。
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北京加快突破光刻機“卡脖子”難題
- 我國正加速實現(xiàn)中高端光刻機的國產(chǎn)化。近日，亦莊企業(yè)北京國望光學(xué)科技有限公司增資項目在北京產(chǎn)權(quán)交易所完成。通過此次增資，國望光學(xué)引入中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機械與物理研究所和中國科學(xué)院上海光學(xué)精密機械研究所作為戰(zhàn)略投資者，兩家機構(gòu)以無形資產(chǎn)作價10億元入股，對應(yīng)持股比例為33.33%。這意味著北京在推動國產(chǎn)光刻機核心部件生產(chǎn)方面邁出實質(zhì)性步伐，將加快突破國產(chǎn)中高端光刻機制造“卡脖子”技術(shù)難題。
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日韓貿(mào)易戰(zhàn) 才發(fā)現(xiàn)日本還是半導(dǎo)體王者
- 日本真的失去20年了嗎？1、日本的進攻上一次日本參與半導(dǎo)體界的貿(mào)易戰(zhàn)還是30年前，當時日本和美國的芯片大戰(zhàn)改變了全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的格局。從結(jié)果看，日本基本輸?shù)袅藘?nèi)存芯片的高地，加上去年東芝出售閃存芯片業(yè)務(wù)，日本半導(dǎo)體制造的衰落成為公認的事實。隔壁的韓國則順勢搶下內(nèi)存產(chǎn)業(yè)，三星、SK海力士等企業(yè)在存儲產(chǎn)業(yè)的崛起，給外界傳達了掌控上游產(chǎn)業(yè)鏈的高科技形象。然而，這一次日韓貿(mào)易戰(zhàn)的爆發(fā)，印象突然反轉(zhuǎn)。原來山外有山，上游之中也有層次，日本恰恰站在了食物鏈頂端。在亞洲的局部戰(zhàn)中，大家又開始重新審視日本的力量。根據(jù)日本政
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光刻機介紹
國外半導(dǎo)體設(shè)備
我公司擁有國外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺灣3S公司生產(chǎn)的光刻機,涂膠臺,
金絲球焊機,電子束蒸發(fā)臺。
濺射臺及探針臺等各種設(shè)備,世界知名劃片機企業(yè)英國Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸
精密劃片機，300毫米清洗機,。
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