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光刻機之爭掀起第三波浪潮

  • 當下，光刻機在半導體行業(yè)的地位前所未有的重要，而且已經(jīng)突破了技術和產(chǎn)業(yè)范疇，引發(fā)了新一波光刻機之爭。從歷史發(fā)展情況來看，光刻機（這里主要指用于制造集成電路前道工序的光刻機）的發(fā)展和應用經(jīng)歷了很多波折，總體來看，有兩個值得關注的時期，一個是 ASML 依靠浸沒式技術，異軍突起，并將原本的行業(yè)兩強甩在身后，這是技術之戰(zhàn)，另一個是 EUV 商用化之后，先進制程（從 16nm 開始）爭奪戰(zhàn)打響，臺積電、三星電子和英特爾這三家為了爭奪產(chǎn)量有限的 EUV 而展開競爭，這是商業(yè)之爭。從目前的情況來看，第三波光刻機之爭正
  • 關鍵字： 光刻機  

尼康推出新一代步進式光刻機“NSR-2205iL1”，2024 年夏季上市

  • IT之家 9 月 6 日消息，尼康宣布推出新一代具有 5 倍縮小投影倍率的 i-line 步進式光刻機“NSR-2205iL1”，預計 2024 年夏季上市。據(jù)稱，這種光刻機具有縮小投影放大系統(tǒng)，支持功率半導體、通信半導體和 MEMS 等多種產(chǎn)品，并且與尼康現(xiàn)有的 i-line 曝光設備高度兼容；NSR-2205iL1 代表了尼康 5 倍步進技術在過去二十五年中的最重大的更新，將可直接響應客戶對這些在芯片制造中發(fā)揮重要作用的光刻系統(tǒng)的需求。尼康表示，與現(xiàn)有的尼康 i-line 曝光系統(tǒng)相比，NS
  • 關鍵字： 尼康  光刻機  

日本與荷蘭簽署半導體合作備忘錄：采購 ASML 光刻機，加強技術合作

  • IT之家 6 月 26 日消息，據(jù)日本經(jīng)濟新聞報道，日本經(jīng)產(chǎn)省與荷蘭經(jīng)濟事務和氣候政策部在東京簽署了半導體合作備忘錄。二者將共同推進欲量產(chǎn) 2 nm 工藝的日本晶圓代工商 Rapidus 與荷蘭光刻機巨頭 ASML 的合作，并聯(lián)手進行技術開發(fā)?！?圖源：ASML報道稱，ASML 量產(chǎn)尖端半導體工藝所需的 EUV 光刻機。Rapidus 計劃利用經(jīng)產(chǎn)省提供的補貼，采購 EUV 光刻設備。IT之家注意到，EUV 光刻機在全球范圍內(nèi)較為短缺，面臨著臺積電、英特爾、三星等巨頭的爭搶。報道指出，如果 Ra
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開始1-γ芯片制程開發(fā)？美光日本廠擬引入ASML光刻機

  • 知情人士稱，美國美光科技公司準備在日本廣島的工廠安裝荷蘭ASML公司的先進芯片制造設備EUV（極紫外光刻機），以制造下一代存儲芯片（DRAM）。而其也將獲得日本政府提供的約2000億日元（15億美元）的補貼。日本經(jīng)濟產(chǎn)業(yè)大臣西村康稔之后證實了美光在日的進一步投資。他指出，日本政府正與臺積電討論擴大在日投資的可能性，美光也有意在廣島開始大規(guī)模生產(chǎn)先進存儲芯片。今日（周四），日本首相岸田文雄會見了美光首席執(zhí)行官Sanjay Mehrotra在內(nèi)的芯片高管代表團，而有關芯片的詳細計劃可能在之后陸續(xù)宣布。自201
  • 關鍵字： 1-γ  芯片制程  美光  ASML  光刻機  

2025搞定2nm工藝 日本芯片公司Rapidus已搞定EUV光刻機

  • 5月17日消息，原本已經(jīng)落后的日本半導體制造行業(yè)近年來加快了追趕速度，去年8月份索尼、豐田等8家企業(yè)出資成立了Rapidus，計劃2025年試產(chǎn)2nm工藝，而且很快就籌備了EUV光刻機。日本當前的邏輯工藝還在28nm以上，但是Rapidus公司選擇跳過中間的工藝，直接搞2nm工藝，而5nm以下的工藝都離不開EUV光刻機，不論研發(fā)還是制造都要先買設備。Rapidus社長小池淳義日前在采訪中透露，他們已經(jīng)完成了1臺EUV光刻機的籌備，不過具體的型號及進度沒有說明，不確定是ASML的哪款EUV光刻機，何時安裝、
  • 關鍵字： 日本  EUV  光刻機  

在光刻機新技術的研發(fā)上, 我們似乎又掉隊了

  • 目前全球僅4家廠商，能夠制造光刻機，分別是荷蘭的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微電子。從技術水平來看，ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示，ASML的光刻機能夠達到3nm的精度了，而尼康的主要在28nm及以上，而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個數(shù)字，這是某機構統(tǒng)計的，2021年全球半導體前道光刻機的銷售情況，從這張表可以看出來，小米7nm的EUV光刻機，ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機上，僅有尼康、ASML能夠推出，尼康也就是打醬油，僅賣出4臺，另外的
  • 關鍵字： 光刻機  ASML  尼康  佳能  上海微電子  

ASML預測，未來九個月對中國的銷量將大幅回升

  • ASML 財務總監(jiān) Roger Daasen 表示，今年未來幾個季度中國大陸的銷量將顯著回升。
  • 關鍵字： ASML  光刻機  EUV 極紫外光刻機  

ASML：2023年光刻機市場需求將超出產(chǎn)能

  • 受消費電子市場低迷影響，半導體產(chǎn)業(yè)邁入下行周期，上游半導體設備也因客戶去庫存、調(diào)整訂單受到影響。不過，光刻機龍頭企業(yè)ASML發(fā)布的最新財報顯示，盡管光刻機業(yè)務遭遇一定挑戰(zhàn)，但未來產(chǎn)業(yè)前景仍舊向好。01EUV/DUV收入超預期增長，半導體需求結構性分化4月19日，ASML發(fā)布2023年第一季度財報，該季ASML實現(xiàn)了凈銷售額67億歐元，毛利率為50.6%，凈利潤達20億歐元。今年第一季度的新增訂單金額為38億歐元，其中16億歐元為EUV光刻機訂單。ASML預計2023年第二季度的凈銷售額約為65億~70億歐
  • 關鍵字： ASML  光刻機  

ASML遭臺積電大規(guī)模砍單，強調(diào)7nm高端DUV光刻機仍可出口中國

  • 據(jù)臺系設備廠商透露ASML近期由于客戶大砍資本支出、縮減訂單，最重要的是大客戶臺積電也大砍逾4成EUV設備訂單及延后拉貨時間，2024全年業(yè)績將明顯承壓。根據(jù)ASML的財報顯示，今年一季度的凈銷售額為67.46億歐元，較去年同期的35.34億歐元大幅增加，接近翻番，較上一季度的64.3億歐元也有增加；凈利潤為19.56億歐元，較去年同期的6.95億歐元大幅增加，較上一季度的18.17億歐元也有增加。雖然凈銷售及利潤同比環(huán)比均有增加，但ASML在財報中也披露了不利的消息，其一季度的凈訂單只有37.52億歐元
  • 關鍵字： ASML  臺積電  7nm  DUV  光刻機  出口  中國  

光刻機龍頭ASML全球總裁來中國了！

  • 3月28日，商務部部長王文濤會見荷蘭阿斯麥公司（ASML）全球總裁溫寧克。商務部官網(wǎng)消息，3月23日-28日，王文濤相繼會見了高通、蘋果、寶馬等超10家外企高管。王文濤強調(diào)，中國堅定不移推進高水平開放，愿為包括阿斯麥公司（ASML）在內(nèi)的跨國公司來華發(fā)展創(chuàng)造良好營商環(huán)境，并提供高效服務。希望阿斯麥堅定對華貿(mào)易投資合作信心，為中荷經(jīng)貿(mào)合作作出積極貢獻，并共同維護全球半導體產(chǎn)業(yè)鏈供應鏈穩(wěn)定。雙方還就阿斯麥在華發(fā)展等議題進行了交流。證券時報·e公司記者留意到，上述會面距離3月8日荷蘭政府發(fā)布有關即將出臺的半導體
  • 關鍵字： 阿斯麥  ASML  光刻機  

(2023.3.20)半導體周要聞－莫大康

  • 半導體周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非：華為三年完成了13000型號器件的替代開發(fā)近日，華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎頒獎典禮，為在解題揭榜中做出突出貢獻的獲獎人員代表頒獎，華為總裁任正非發(fā)表了講話，部分參與座談的大學發(fā)布了座談紀要。任正非表示，在美國制裁華為這三年期間，華為完成 13000 + 型號器件的替代開發(fā)、4000 + 電路板的反復換板開發(fā)等，直到現(xiàn)在電路板才穩(wěn)定下來，因為有了國產(chǎn)的零部件供應。任正非表示，華為現(xiàn)在還屬于困難時期，但在前進的道路上并沒有停步。
  • 關鍵字： 莫大康  半導體  華為  光刻機  NAND  

(2023.3.20)半導體周要聞-莫大康

  • 半導體一周要聞2023.3.13-2023.3.171. 任正非：華為三年完成了13000型號器件的替代開發(fā)近日，華為公司在深圳坂田總部舉辦“難題揭榜”火花獎頒獎典禮，為在解題揭榜中做出突出貢獻的獲獎人員代表頒獎，華為總裁任正非發(fā)表了講話，部分參與座談的大學發(fā)布了座談紀要。任正非表示，在美國制裁華為這三年期間，華為完成 13000 + 型號器件的替代開發(fā)、4000 + 電路板的反復換板開發(fā)等，直到現(xiàn)在電路板才穩(wěn)定下來，因為有了國產(chǎn)的零部件供應。任正非表示，華為現(xiàn)在還屬于困難時期，但在前進的道路上并沒有停步
  • 關鍵字： 半導體  莫大康  華為  NAND  光刻機  

納米壓印光刻，能讓國產(chǎn)繞過 ASML 嗎

  • 自從國產(chǎn)替代概念興起，很少關注半導體行業(yè)的人都對光刻機有所耳聞。目前，全世界最先進的芯片，幾乎都繞不開 ASML（阿斯麥）的 DUV（深紫外）和 EUV（極紫外）光刻機，但它又貴又難造，除了全力研發(fā)光刻機，國產(chǎn)有沒有其它的路可以走？事實上，光刻技術本身存在多種路線，離產(chǎn)業(yè)最近的，當屬納米壓印光刻（Nano-Imprint Lithography，簡稱 NIL）。日本最寄望于納米壓印光刻技術，并試圖靠它再次逆襲，日經(jīng)新聞網(wǎng)也稱，對比 EUV 光刻工藝，使用納米壓印光刻工藝制造芯片，能夠降低將近四成制造成本和
  • 關鍵字： 光刻機  

國產(chǎn)光刻機的「行軍難」

  • 3 月 8 日，ASML 發(fā)表聲明回應荷蘭政府即將出臺的半導體設備出口管制措施。ASML 稱，這些新的出口管制措施側(cè)重于先進的芯片制造技術，包括最先進的沉積設備和浸潤式光刻系統(tǒng)，ASML 將需要申請出口許可證才能發(fā)運最先進的浸潤式 DUV 系統(tǒng)。ASML 強調(diào)，這些管制措施需要一定時間才能付諸立法并生效。3 月 9 日，外交部例行記者會上，有媒體提問，據(jù)報道，荷蘭外貿(mào)與發(fā)展合作大臣施賴納馬赫爾向荷議會致函稱，出于國家安全考慮，荷蘭將于今年夏天之前對其芯片出口實施限制性措施。中方對此有何評論？外交部發(fā)言人毛
  • 關鍵字： 光刻機  EUV  DUV  

佳能發(fā)布半導體光刻機新品 FPA-5550iX，可用于全畫幅 CMOS 制造等

  • IT之家 3 月 13 日消息，佳能于今日發(fā)售了面向前道工序的半導體光刻機新產(chǎn)品 —— i 線步進式光刻機“FPA-5550iX”，該產(chǎn)品能夠同時實現(xiàn) 0.5μm（微米）高解像力與 50×50mm 大視場曝光。據(jù)介紹，新產(chǎn)品“FPA-5550iX”能夠同時實現(xiàn) 50×50mm 大視場及 0.5μm 高解像力曝光，在不斷趨向高精尖化的全畫幅 CMOS 傳感器制造領域中，使得單次曝光下的高解像力成像成為可能。同時，通過充分利用高解像力與大視場的優(yōu)勢，“FPA-5550iX”也可應用于頭戴式
  • 關鍵字： 佳能  光刻機  
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