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EEPW首頁(yè) >> 主題列表 >> 光刻機(jī)

《瓦森納協(xié)議》不攻自破？這幾家大陸廠喜提ASML設(shè)備

  • 曾經(jīng)，一直傳言受西方《瓦森納協(xié)議》的限制，中國(guó)只能買到ASML的中低端產(chǎn)品，但ASML后來(lái)......
  • 關(guān)鍵字： ASML  光刻機(jī)  中芯國(guó)際  

ASML除了光刻機(jī)還有什么秘密武器

  • 　　ASML( Advanced Semiconductor Material Lithography)是半導(dǎo)體光刻系統(tǒng)的主要供應(yīng)商，也是EUV系統(tǒng)的唯一供應(yīng)商。根據(jù)Network題為“Sub 100nm光刻:市場(chǎng)分析與戰(zhàn)略問(wèn)題”的報(bào)道，ASML當(dāng)前取得的成績(jī)可以匯總為以下幾點(diǎn):　　1)ASML占據(jù)EUV光刻市場(chǎng)100%的份額;　　2)ASML占據(jù)浸沒(méi)式193nm DUV光刻市場(chǎng)93%的份額;　　3)ASML占據(jù)248nm DUV光刻行業(yè)73%的份額?！　?016年，ASML以31億美元收購(gòu)了He
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國(guó)產(chǎn)刻蝕機(jī)很棒，但造芯片只是“配角”

  • 中微公司的刻蝕機(jī)的確水平一流，但夸大闡述其戰(zhàn)略意義，則被相關(guān)專家反對(duì)?？涛g只是芯片制造多個(gè)環(huán)節(jié)之一。刻蝕機(jī)也不是對(duì)華禁售的設(shè)備，在這個(gè)意義上不算“卡脖子”。
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全面起底光刻機(jī)7nm芯片制造工藝

  • 　　對(duì)于業(yè)界傳言說(shuō)中國(guó)光刻機(jī)超越世界領(lǐng)先水平，這點(diǎn)內(nèi)容不夠準(zhǔn)確。嚴(yán)格意義上來(lái)說(shuō)，中國(guó)屬于蝕刻技術(shù)達(dá)到了一定的水平，光刻機(jī)制造技術(shù)目前還是依靠荷蘭進(jìn)口。　　通過(guò)引進(jìn)進(jìn)口，能夠?qū)?nm搞定，這就是一大進(jìn)步了。其實(shí)更低的制程雖然好，但良品率很重要，不能一味追求制程，還要在芯片設(shè)計(jì)創(chuàng)新上下功夫的。就像炒菜的鐵鍋，幾十塊的鐵鍋和幾千塊的鐵鍋，師傅不同，炒菜出來(lái)味道就很不一樣了哦。　　　　只是這臺(tái)光刻機(jī)理論上確實(shí)可以達(dá)到7納米，但媒體和網(wǎng)民卻忘了有一種東西叫做工藝，這也是為什么同樣的設(shè)備臺(tái)積電的7納米可以量產(chǎn)而三星卻
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中科院光電所的“光刻機(jī)”如何與阿斯麥競(jìng)爭(zhēng)

  • 光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備。作為芯片工業(yè)的母機(jī)，它的地位十分重要。當(dāng)然，這個(gè)領(lǐng)域也是我們國(guó)家的裝備制造業(yè)還沒(méi)有達(dá)到世界一流水平的地方。我們看看中科院光電所的光刻裝備如何與世界上最先進(jìn)的阿斯麥光刻機(jī)競(jìng)爭(zhēng)。
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制作一顆硅晶圓需要多少種半導(dǎo)體設(shè)備？光刻機(jī)僅僅是九牛一毛

  • 硅晶圓制造需要的設(shè)備遠(yuǎn)遠(yuǎn)不止這些，制造硅晶圓的難度不亞于航空母艦。之所以光刻機(jī)的關(guān)注度超越了其它半導(dǎo)體設(shè)備，這是由于它的技術(shù)難度是最高的，目前僅有荷蘭和美國(guó)等少數(shù)國(guó)家擁有核心技術(shù)。
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國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)真的這么厲害嗎？這些光刻機(jī)知識(shí)您得知道

  • 　　近日，中科院研制的“超分辨光刻裝備”通過(guò)驗(yàn)收。消息傳著傳著，就成了謠言——《國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)偉大突破，國(guó)產(chǎn)芯片白菜化在即》《突破荷蘭技術(shù)封鎖，彎道超車》《厲害了我的國(guó)，新式光刻機(jī)將打破“芯片荒”》……筆者幫您們捋一捋!　　關(guān)于光刻機(jī)，這些知識(shí)您得知道　　光刻機(jī)不光是制造芯片用。一張平面(不論硅片還是什么材料)想刻出繁復(fù)的圖案，都可以用光刻——就像照相，圖像投在感光底片上，蝕掉一部分。半個(gè)多世紀(jì)前，美國(guó)人用這個(gè)原理“印刷”電路，從而有了大規(guī)模集成電路——芯片。為了節(jié)能和省硅料，芯片越做越小，逼得光刻機(jī)越做越極
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拒絕技術(shù)壟斷 國(guó)產(chǎn)首臺(tái)超分辨光刻機(jī)技術(shù)淺析

  • 　　2018年11月29日，一則名為“寬刀雕細(xì)活 我國(guó)造出新式光刻機(jī)”的消息刷爆網(wǎng)絡(luò)，援引自新聞中的消息，我們可以看到，由我國(guó)中科院光電技術(shù)研究所承擔(dān)的國(guó)家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨率裝備研制”通過(guò)驗(yàn)收。很多人振奮的原因在于這是我國(guó)自行研制的世界首臺(tái)利用紫外光源實(shí)現(xiàn)22nm分辨率的光刻機(jī)，這意味著我國(guó)在微電子技術(shù)領(lǐng)域再次邁出了堅(jiān)實(shí)的一步，縮小了與全球在該領(lǐng)域的差距。在祝賀偉大祖國(guó)的同時(shí)，我們總結(jié)了一下目前關(guān)于這方面的學(xué)術(shù)研究，為大家淺析該技術(shù)讓所有國(guó)人為之震動(dòng)，舉國(guó)歡慶的原因。　　　　何為光刻機(jī)?　
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刷屏的“國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)”是真牛還是吹牛？

  • 拋開唯恐天下不亂的非專業(yè)、有偏差的報(bào)道，也排除可能光電所有意或無(wú)意的誤導(dǎo)，也許我們?cè)谖磥?lái)很長(zhǎng)一段時(shí)間內(nèi)都無(wú)法打破ASML的壟斷，但是也需冷靜看待成果，為實(shí)質(zhì)進(jìn)步鼓掌。既不吹?？浯?，也不習(xí)慣偏見，更無(wú)需妄自菲薄。
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點(diǎn)亮中國(guó)“芯”，這件專利會(huì)是國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的錦鯉嗎？

  • 中美貿(mào)易大戰(zhàn)把當(dāng)今最先進(jìn)的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)推上了風(fēng)口浪尖上，整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈上，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體芯片的產(chǎn)業(yè)發(fā)展就卡在IC制造這一塊上了。
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AMSL的光刻機(jī)如何能賣上億美元？

  • 在晶圓加工設(shè)備中，光刻機(jī)所占的投資比高達(dá)30%，同時(shí)一臺(tái)AMSL的EUV光刻機(jī)售價(jià)上億美元，當(dāng)我國(guó)企業(yè)有足夠能力參與到與國(guó)際巨頭競(jìng)爭(zhēng)之時(shí)，即是芯片技術(shù)迎頭趕上的那一天。
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ASML看好中國(guó)市場(chǎng) 最先進(jìn)光刻機(jī)將入華

  • 　　中國(guó)集成電路制造年會(huì)近日邀請(qǐng)到了光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)中國(guó)區(qū)總裁沈波參加，他出面解答了一些媒體關(guān)心的話題?！　”M管UMC(聯(lián)電)和Globalfoundries(格羅方德，格芯)先后宣布放棄7nm制程及更先進(jìn)工藝的研發(fā)，但ASML依然對(duì)EUV光刻機(jī)的前景表示樂(lè)觀?！　〈饲坝邢⒅赋?，中芯國(guó)際(SMIC)今年已向ASML訂購(gòu)了一臺(tái)EUV光刻機(jī)，預(yù)計(jì)明年交付，用于7nm節(jié)點(diǎn)。　　同時(shí)，傳統(tǒng)的沉浸式光刻機(jī)方面，沈波稱，今年下半年ASML已開始出貨家族最先進(jìn)的NXT：2000i，很快會(huì)在中國(guó)市場(chǎng)上也見到
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迫于美國(guó)政府壓力，光刻機(jī)巨頭荷蘭ASML被曝不再招收中國(guó)員工 ...

  • 　　在高科技領(lǐng)域，美國(guó)這一年來(lái)加強(qiáng)了對(duì)中國(guó)人的防范，不只限于美國(guó)本土，就連歐洲公司也受到了美國(guó)政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國(guó)籍員工?！　≡诠饪虣C(jī)領(lǐng)域，荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機(jī)市場(chǎng)，在EUV光刻機(jī)中更是獨(dú)一份，7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機(jī)。在高科技領(lǐng)域，美國(guó)這一年來(lái)加強(qiáng)了對(duì)中國(guó)人的防范，不只限于美國(guó)本土，就連歐洲公司也受到了美國(guó)政府的壓力，荷蘭ASML被曝禁止招收中國(guó)籍員工?！　∪绻f(shuō)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)是制造工業(yè)的皇冠，那么光刻機(jī)可以說(shuō)是皇冠上的明珠，因?yàn)楣饪虣C(jī)是半導(dǎo)體制造中最關(guān)
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ASML出貨新光刻機(jī)NXT2000i：用于7nm/5nm DUV工藝

  • 　　據(jù)外媒報(bào)道，光刻機(jī)霸主ASML(阿斯麥)已經(jīng)開始出貨新品Twinscan NXT：2000i DUV(NXT：2000i雙工件臺(tái)深紫外光刻機(jī))，可用于7nm和5nm節(jié)點(diǎn)。　　NXT：2000i將是NXE：3400B EUV光刻機(jī)的有效補(bǔ)充，畢竟臺(tái)積電/GF的第一代7nm都是基于DUV工藝?！　⊥瑫r(shí)，NXT：2000i也成為了ASML旗下套刻精度(overlay)最高的產(chǎn)品，達(dá)到了和3400B一樣的1.9nm(5nm要求至少2.4nm，7nm要求至少3.5nm)?！　SML將于本季度末開始量產(chǎn)Twin
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華虹12寸晶圓廠裝備大陸最先進(jìn)沉浸式光刻機(jī)：邁向14nm

  • 　　中芯國(guó)際花了1.2億美元從荷蘭ASML(阿斯麥)買來(lái)一臺(tái)EUV極紫外光刻機(jī)，未來(lái)可用于生產(chǎn)7nm工藝芯片，長(zhǎng)江存儲(chǔ)也迎來(lái)了自己的第一臺(tái)光刻機(jī)，同樣來(lái)自ASML，不過(guò)是193nm沉浸式，用于產(chǎn)20-14nm工藝的3D NAND閃存晶圓，7200萬(wàn)美元一臺(tái)?！　?jù)集微網(wǎng)報(bào)道， 5月21日上午，在上海浦東新區(qū)康橋工業(yè)園南區(qū)，華虹集團(tuán)旗下上海華力集成電路制造有限公司建設(shè)和營(yíng)運(yùn)的12英寸先進(jìn)生產(chǎn)線建設(shè)項(xiàng)目(“華虹六廠”)實(shí)現(xiàn)首臺(tái)工藝設(shè)備光刻機(jī)搬入?！　∵@臺(tái)光刻機(jī)的型號(hào)是NXT 1980Di，依然是荷蘭ASML提
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光刻機(jī)介紹

國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備 我公司擁有國(guó)外半導(dǎo)體設(shè)備,包括臺(tái)灣3S公司生產(chǎn)的光刻機(jī),涂膠臺(tái), 金絲球焊機(jī),電子束蒸發(fā)臺(tái)。 濺射臺(tái)及探針臺(tái)等各種設(shè)備,世界知名劃片機(jī)企業(yè)英國(guó)Loadpoint公司生產(chǎn)的6英寸--12英寸 精密劃片機(jī)，300毫米清洗機(jī),。 如您感興趣請(qǐng)登錄以下網(wǎng)站或Email: 網(wǎng)址:http://www.loadpoint.com.cn www.chihoc [ 查看詳細(xì) ]

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