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Nexperia雙通道500 mA RET可在空間受限的應(yīng)用中實(shí)現(xiàn)高功率負(fù)載開關(guān)

  • 基礎(chǔ)半導(dǎo)體器件領(lǐng)域的高產(chǎn)能生產(chǎn)專家Nexperia今日宣布新推出全新的500 mA雙通道內(nèi)置電阻晶體管(RET)系列產(chǎn)品，均采用超緊湊型DFN2020(D)-6封裝。新系列器件適用于可穿戴設(shè)備和智能手機(jī)中的負(fù)載開關(guān)，也可用于功率要求更高的數(shù)字電路。例如空間受限的計(jì)算、通信、工業(yè)和汽車應(yīng)用。值得注意的是，DFN封裝的RET采用雙重空間節(jié)省方案，可加倍提高空間利用率。首先，通過將雙極性晶體管(BJT)和電阻巧妙地集成到單一封裝中，可節(jié)省大量電路板空間。此外，無引腳DFN封裝本身的空間效益較高。這種集成和封裝有
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了解RET的開關(guān)特性

  • 可通過基極電流開啟或關(guān)閉雙極結(jié)型晶體管(BJT)。但是，由于基極-發(fā)射極二極管兩端的壓降在很大程度上取決于溫度，因而在許多應(yīng)用中，需要一個(gè)串聯(lián)電阻將基極電流保持在所需水平，從而確保BJT穩(wěn)定安全地工作。閱讀本文，了解如何使用RET來應(yīng)對標(biāo)準(zhǔn)BJT的溫度依賴性。為了減少元器件數(shù)量、簡化電路板設(shè)計(jì)，配電阻晶體管將一個(gè)或兩個(gè)雙極性晶體管與偏置電阻組合在一起，集成在同一個(gè)晶片上。替代方案包括在基極-發(fā)射極路徑上并聯(lián)第二個(gè)集成電阻，以創(chuàng)建用于設(shè)置基極電壓的分壓器。這可以提供更精細(xì)的微調(diào)和更好的關(guān)斷特性。由于這些內(nèi)部
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Nexperia首推用于48 V汽車和其他更高電壓總線電路的80 V RET

  • 半導(dǎo)體基礎(chǔ)元器件領(lǐng)域的高產(chǎn)能生產(chǎn)專家Nexperia今天首次宣布推出80 V RET（配電阻晶體管）系列。這些新的RET或“數(shù)字晶體管”提供了足夠的余量，可用于48 V汽車板網(wǎng)（如輕度混合動力和EV汽車）和其他更高電壓的電路，這些電路經(jīng)常受到較大的尖峰和脈沖影響，以前的50 V器件無法處理。 通過在與晶體管相同的SOT23 (250 mW Ptot)或SOT323 (235 mW Ptot)封裝中組合偏置電阻和偏置發(fā)射極電阻，RET可以節(jié)省空間并降低制造成本。SOT363封裝還提供雙RET（兩個(gè)晶體管和兩
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晶圓制造人才告急，校企聯(lián)動與在職培訓(xùn)缺一不可

  • 摘要：近日，明導(dǎo)公司與北京理工大學(xué)合作創(chuàng)建了光電聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室。合作儀式期間，部分專家學(xué)者談到目前晶圓制造人才非常缺乏，人才培養(yǎng)迫在眉睫。
  • 關(guān)鍵字： 晶圓  OPC  RET  光刻  201407  

明導(dǎo)與北京理工大學(xué)合作創(chuàng)建光電聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室

  • 　　Mentor Graphics公司(NASDAQ:MENT)于2014年5月15日宣布,在北京理工大學(xué)光電學(xué)院新建一所光電聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室。作為雙方協(xié)議的一部分，明導(dǎo)將資助課程開發(fā)、研究生學(xué)位課程專業(yè)研討會和相關(guān)研究，并使北京理工大學(xué)光電學(xué)院畢業(yè)的學(xué)生能深入了解前沿光電技術(shù)，如光學(xué)鄰近校正(OPC)和分辨率增強(qiáng)技術(shù)(RET)。 　　“我們很高興能在分辨率提升技術(shù)的教學(xué)和研究方面與明導(dǎo)取得合作，”光電學(xué)院聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室負(fù)責(zé)人李艷秋教授說，“隨著中國IC產(chǎn)業(yè)持續(xù)快速發(fā)展，新的畢
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KLA-Tencor推出先進(jìn)RET/OPC功能的LithoWare產(chǎn)品

  •  KLA-Tencor今日正式推出基于 Linux 的新型產(chǎn)品 LithoWare，該系統(tǒng)可幫助半導(dǎo)體電路設(shè)計(jì)人員大幅度降低 RET* 和 OPC* 工藝開發(fā)的時(shí)間和成本。LithoWare是一款基于業(yè)內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)的PROLITH 模型的光刻優(yōu)化工具，它允許客戶同時(shí)優(yōu)化 RET 和工藝條件，并將校準(zhǔn)數(shù)據(jù)采集降至最少，從而有效縮短從設(shè)計(jì)到生產(chǎn)的時(shí)間。 “LithoWare 擁有無可比擬的預(yù)測精度
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