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張忠謀:臺(tái)積電將向14nm以下工藝挺進(jìn)

作者: 時(shí)間:2010-04-16 來源:驅(qū)動(dòng)之家 收藏

  CEO兼董事長張忠謀近日在加州圣何塞的一次技術(shù)會(huì)議上表示,將會(huì)和整個(gè)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)一起,向14nm以下的制造工藝進(jìn)軍。

本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/108010.htm

  張忠謀認(rèn)為,2011-2014年間的全球半導(dǎo)體市場(chǎng)的發(fā)展速度不會(huì)很快,原因有很多,其中之一就是受摩爾定律制約,技術(shù)發(fā)展的速度會(huì)趨于緩慢。

  張忠謀表示,2xnm時(shí)代眼下很快就要到來,1xnm時(shí)代也會(huì)在可預(yù)見的未來內(nèi)成為現(xiàn)實(shí),而或許無法在他的任期內(nèi)走向1xnm,但肯定會(huì)竭盡全力將半導(dǎo)體制造技術(shù)帶向新的水平。

  臺(tái)積電2010年間的資本支出預(yù)算高達(dá)48億美元,全公司員工總數(shù)也會(huì)從2萬人增至2.9萬人,這都是為了應(yīng)對(duì)難度越來越高的半導(dǎo)體工藝而做成的努力。

  張忠謀還指出,臺(tái)積電對(duì)全球芯片市場(chǎng)2010-2011年間的估計(jì)不會(huì)有很大變化:連續(xù)下滑兩年后今年有望增長22%,不過明年只有7%。

  臺(tái)積電目前還在完善40nm,下一站將是,再往后是跳過而走向20nm。



關(guān)鍵詞: 臺(tái)積電 22nm 28nm

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