2011韓國半導體光刻膠需求預計達2.58億美元
在半導體制程中,曝光制程非常重要,因此作為其核心材料的光刻膠(Photoresist)占較大的生產成本,在技術與產業(yè)方面的重要性也非常高。根據DisplayBank統(tǒng)計,2011年用于韓國國內半導體產業(yè)的光刻膠量約為25萬~30萬加侖,產值約達3,000億韓元(約2.58億美元)的規(guī)模。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/123069.htm其中,用于韓國半導體產業(yè)的光刻膠中,KrF(KrFEximerLaser,248nm曝光)的市占率約達5成,而ArFImmersion(ArFEximerLaser,Wet制成,193nm曝光)與ArFDry(ArFEximerLaser,Dry制成,193nm曝光)的合計市占率約達25%;另外,高價位光刻膠ArFImmersion產品的年銷售額,約達1,000億韓元。
韓國的內存與半導體產業(yè)擁有全球領先的技術實力,因此光刻膠企業(yè)也非常重視韓國市場。供應韓國企業(yè)光刻膠的廠商有2家韓國廠商,包括東進化學、錦湖石油化工,另外有5家日本廠商,包括住友化學、TOK、信越、JSR、FFEM,以及收購羅門哈斯(RohmandHaas)的陶氏化學等。
其中,住友化學、TOK、信越、JSR及陶氏化學,在KrF以上等級的產品領域競爭非常激烈,韓國廠商錦湖石油化學對海力士(Hynix)半導體,供應大量的ArFDry產品以及部分ArFImmersion產品。東進化學雖在LCD用產業(yè)光刻膠的供給比例較高,但在半導體領域仍只供應KrF以下等級部分產品。
DisplayBank指出,內存與半導體領域的領導廠商三星電子(SamsungElectronics)與海力士,在技術、銷售額、利潤及市占率等方面,與日本及臺灣廠商的差距越來越擴大,因而韓國市場成為光刻膠產業(yè)的重要市場。同時,未來在韓國光刻膠市場上各專業(yè)廠商之間的競爭也將會愈演愈烈。
另外,光刻膠除了用于半導體產業(yè)之外,也用于顯示及LED等產業(yè)。其中,LCD產業(yè)2010年年平均使用量已超過870萬公升,在總使用量中所占比例最大。但LCD產業(yè)使用的光刻膠相較于半導體產業(yè)仍屬較低價產品,因此在供應半導體光刻膠的專業(yè)廠商,只有JSR與TOK供應LCD產業(yè)用的光刻膠產品,其他廠商則對供應LCD用光刻膠的意愿非常薄弱,而且因產業(yè)特性之故,新廠商參與的可能性也微乎其微,因此在未來仍會維持由3家廠商包括東進化學、AZEM、TOK寡占的市場格局。
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