臺積電加573億先進制程 主攻20nm及FinFET
晶圓龍頭臺積電13日董事會通過573.65億元資本支出,連同上次核準(zhǔn)金額,合計為2033.65億元,約占臺積電全年資本支出上限100億美元的68%,顯示臺積電加速先進制程腳步。
本文引用地址:http://m.butianyuan.cn/article/159051.htm臺積電將今年資本支出上修至95至100億美元(約新臺幣2990億),只少許落后英特爾的110億美元,是臺灣投資計劃最大的電子大廠。
設(shè)備廠商透露,臺積電加緊20納米及16納米先進制程量產(chǎn)及試產(chǎn)時程,添購所需設(shè)備,推估今年臺積電全年資本支出,絕對會在上限100億美元,而且明年也可能與今年相近。
設(shè)備商表示,臺積電追加573.65億元的資本支出,主要用于20納米、16納米鰭式晶體管(FinFET)以下制程產(chǎn)能,有助于明年營收、獲利成長。
臺積電日前公布28納米上半年營收占比為29%,創(chuàng)單季新高,遙遙領(lǐng)先對手,預(yù)估今年28納米占營收比重將比去年成長3倍。
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